[發(fā)明專利]基于卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的輕量級(jí)TFT-LCD模組劃痕檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811510843.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109712117B | 公開(公告)日: | 2022-10-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張炎;孔令峰;胡宗亮;詹慧妹;謝濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 重慶信息通信研究院 |
| 主分類號(hào): | G06T7/00 | 分類號(hào): | G06T7/00;G01N21/88 |
| 代理公司: | 北京同恒源知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11275 | 代理人: | 趙榮之 |
| 地址: | 401336 重*** | 國(guó)省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 卷積 神經(jīng)網(wǎng)絡(luò) 輕量級(jí) tft lcd 模組 劃痕 檢測(cè) 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種基于卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的輕量級(jí)TFT?LCD模組劃痕檢測(cè)方法,屬于工業(yè)缺陷檢測(cè)。該方法包括以下步驟:S1:建立深度學(xué)習(xí)模型;S2:通過相機(jī)采集圖像;S3:圖像仿射校正為矩形;S4:圖像去紋理;S5:圖像標(biāo)準(zhǔn)化;S6:輸入CNN檢測(cè)網(wǎng)絡(luò);S7:輸出檢測(cè)結(jié)果。本發(fā)明深度學(xué)習(xí)算法可以做到算法的通用,更換產(chǎn)品只需要添加該類的訓(xùn)練樣本即可。并且隨著種類的增多,訓(xùn)練的模型泛化行越強(qiáng),積累到一定種類數(shù)量時(shí),即使不添加訓(xùn)練樣本也可以檢測(cè)出。可大大降低員工培訓(xùn)時(shí)間與系統(tǒng)維護(hù)時(shí)。且無(wú)需撕去保護(hù)膜,對(duì)膜上的劃痕有一定鑒別能力。針對(duì)小的劃痕,其漏檢率與誤檢率都將大大降低。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于工業(yè)缺陷檢測(cè)領(lǐng)域,涉及基于卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的輕量級(jí)薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD,Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)模組劃痕檢測(cè)方法。
背景技術(shù)
工業(yè)上劃痕檢測(cè)多應(yīng)用于金屬,塑料與玻璃制品等工業(yè)產(chǎn)品。這些工業(yè)產(chǎn)品可以在特殊光源與角度等條件下較為清晰的顯示出來(lái)。但是,不同于上述工業(yè)產(chǎn)品,TFT-LCD模組上的劃痕缺陷具有劃痕特征不明顯,背景復(fù)雜等特征。
現(xiàn)有的檢測(cè)方案大多是利用數(shù)字圖像處理中的圖像預(yù)處理(歸一化與突出化)結(jié)合邊緣檢測(cè)算子(Canny,Sobel)。還有一部分算法是使用模式識(shí)別中的聚類(K-mean)等。
現(xiàn)有技術(shù)存在以下不足之處:
a)針對(duì)的劃痕缺陷是比較明顯的,而且需要在特殊的光源與特定的角度上進(jìn)行,對(duì)外部環(huán)境的要求苛刻。
b)檢測(cè)算法難以做到通用,而且更換產(chǎn)品后需要重新調(diào)整閾值。對(duì)員工培訓(xùn)難度大,耗費(fèi)時(shí)間長(zhǎng)。
c)必須撕去液晶屏上保護(hù)膜,難以分辨膜上劃痕與真實(shí)劃痕。誤檢率高,漏檢率高,尤其是小的劃痕缺陷。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一種基于卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的輕量級(jí)TFT-LCD模組劃痕檢測(cè)方法。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
基于卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的輕量級(jí)TFT-LCD模組劃痕檢測(cè)方法,該方法包括以下步驟:
S1:建立深度學(xué)習(xí)模型;
S2:通過相機(jī)采集圖像;
S3:圖像仿射校正為矩形;
S4:圖像去紋理;
S5:圖像標(biāo)準(zhǔn)化;
S6:輸入CNN檢測(cè)網(wǎng)絡(luò);
S7:輸出檢測(cè)結(jié)果。
進(jìn)一步,所述采集圖像為8位或32位灰度圖。
進(jìn)一步,所述深度學(xué)習(xí)模型采用SSD檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu);其訓(xùn)練樣本圖為200張,200張訓(xùn)練樣本圖包含800個(gè)缺陷區(qū)域;所述深度學(xué)習(xí)模型的需要在預(yù)訓(xùn)練模型(Pretrain_model)上進(jìn)行遷移學(xué)習(xí)。
進(jìn)一步,所述深度學(xué)習(xí)模型采用MobileV1與MobileV2的block結(jié)構(gòu)。
進(jìn)一步,所述神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)為15層神經(jīng)網(wǎng)絡(luò);其中Res_block1-Res_block5是擴(kuò)張系數(shù)為3的MobileV2結(jié)構(gòu);所述MobileV2滿足以下特征:
(1)使用擴(kuò)張系數(shù)為3的1×1卷積核,以正常的點(diǎn)卷積的方式進(jìn)行通道融合;
(2)再使用尺寸為3×3的卷積核進(jìn)行非跨通道的深度卷積;
(3)最后再次使用1×1卷積核以點(diǎn)卷積的方式進(jìn)行跨通道融合,并將特征圖數(shù)量壓縮到與輸入特征圖數(shù)量一致;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于重慶信息通信研究院,未經(jīng)重慶信息通信研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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