[發(fā)明專利]一種材料表面處理設(shè)備及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811497910.X | 申請(qǐng)日: | 2018-12-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111282910A | 公開(公告)日: | 2020-06-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李香菊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 李香菊 |
| 主分類號(hào): | B08B3/12 | 分類號(hào): | B08B3/12;B08B3/08;B08B3/10;B08B7/00;B08B13/00 |
| 代理公司: | 深圳新創(chuàng)友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀純 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 材料 表面 處理 設(shè)備 方法 | ||
1.一種材料表面處理設(shè)備,其特征在于,包括依次設(shè)置的進(jìn)料裝置、超聲波清洗裝置、真空干燥裝置、真空等離子清洗裝置、出料裝置,以及用于密封各裝置的密封門和密封整體處理設(shè)備的外封門;
所述超聲波清洗裝置包括用于容置碳?xì)淝逑磩┑某暡ㄇ逑床郏⒃O(shè)置有第一出口和進(jìn)口,且所述第一出口和進(jìn)口連接第一分離循環(huán)系統(tǒng),所述第一分離循環(huán)系統(tǒng)用于對(duì)所述碳?xì)淝逑磩┻M(jìn)行循環(huán)再生;所述第一分離循環(huán)系統(tǒng)包括依次連接的第一分離槽、碳?xì)淝逑磩┱舭l(fā)裝置、碳?xì)淝逑磩├淠b置;所述第一分離槽與所述第一出口連接,用于接收超聲波清洗裝置中待再生碳?xì)淝逑磩鎏細(xì)淝逑磩├淠b置與所述進(jìn)口連接,用于將再生的碳?xì)淝逑磩┭h(huán)至超聲波清洗裝置中,所述碳?xì)淝逑磩┰诜忾]系統(tǒng)中進(jìn)行循環(huán)再生,防止泄露。
2.如權(quán)利要求1所述的材料表面處理設(shè)備,其特征在于,所述超聲波清洗槽包括按碳?xì)淝逑磩┝鲃?dòng)方向逆流依次設(shè)置的粗洗槽、精洗槽、漂洗槽;所述粗洗槽與所述精洗槽之間設(shè)置第一溢流口,所述精洗槽與所述漂洗槽之間設(shè)置第二溢流口;所述第一出口設(shè)置在所述粗洗槽上,所述進(jìn)口設(shè)置在所述漂洗槽上。
3.如權(quán)利要求2所述的材料表面處理設(shè)備,其特征在于,所述超聲波清洗槽與所述第一分離槽以及所述碳?xì)淝逑磩├淠b置形成高度差;在對(duì)材料表面進(jìn)行處理時(shí),所述高度差形成所述第一分離循環(huán)系統(tǒng)的動(dòng)力源,使粗洗槽中的待再生碳?xì)淝逑磩┰谥亓ψ饔孟铝魅氲降谝环蛛x槽中,并使碳?xì)淝逑磩├淠b置中再生的碳?xì)淝逑磩┰谥亓ψ饔孟铝魅氲狡床壑校凰龅谝灰缌骺诘母叨鹊陀谒龅诙缌骺诘母叨龋固細(xì)淝逑磩钠床哿魅刖床酆笤倭魅氪窒床邸?/p>
4.如權(quán)利要求2所述的材料表面處理設(shè)備,其特征在于,所述各清洗槽的底部還設(shè)置有排放口,所述排放口與第三分離槽連接,所述第三分離槽再與所述碳?xì)淝逑磩┱舭l(fā)裝置連接形成第二分離循環(huán)系統(tǒng);在需要對(duì)各清洗槽內(nèi)的污物進(jìn)行處理時(shí),可打開所述排放口,使待再生碳?xì)淝逑磩┻B同所述污物通過(guò)排放口依次經(jīng)過(guò)第三分離槽的分離、碳?xì)淝逑磩┱舭l(fā)裝置的蒸發(fā)以及碳?xì)淝逑磩├淠b置的冷凝進(jìn)行再生后循環(huán)至超聲波清洗槽內(nèi)。
5.如權(quán)利要求4所述的材料表面處理設(shè)備,其特征在于,所述第一分離槽或所述第三分離槽中設(shè)置有過(guò)濾網(wǎng)和排渣口,所述過(guò)濾網(wǎng)用于將不溶于碳?xì)淝逑磩┑奈畚镞M(jìn)行過(guò)濾分離并從排渣口排出。
6.如權(quán)利要求1所述的材料表面處理設(shè)備,其特征在于,還包括制冷循環(huán)系統(tǒng),所述制冷循環(huán)系統(tǒng)包括壓縮機(jī)及與壓縮機(jī)連接的冷媒冷凝器和冷媒蒸發(fā)器;所述碳?xì)淝逑磩├淠b置與制冷循環(huán)系統(tǒng)冷媒蒸發(fā)器連接,以將制冷循環(huán)系統(tǒng)冷媒蒸發(fā)器蒸發(fā)時(shí)所形成的冷氣送入碳?xì)淝逑磩├淠b置協(xié)助碳?xì)淝逑磩┑睦淠凰鎏細(xì)淝逑磩┱舭l(fā)裝置與制冷循環(huán)系統(tǒng)冷媒冷凝器連接,以將制冷循環(huán)系統(tǒng)冷媒冷凝器冷凝時(shí)所排出的熱氣送入碳?xì)淝逑磩┱舭l(fā)裝置協(xié)助碳?xì)淝逑磩┑恼舭l(fā);從而所述壓縮機(jī)產(chǎn)生的熱量被所述碳?xì)淝逑磩┱舭l(fā)裝置回收利用。
7.如權(quán)利要求6所述的材料表面處理設(shè)備,其特征在于,所述超聲波清洗槽的槽體采用夾套方式,所述夾套內(nèi)放置水,且利用所述壓縮機(jī)產(chǎn)生的熱量來(lái)為夾套進(jìn)行加熱。
8.如權(quán)利要求1所述的材料便面工程處理設(shè)備,其特征在于,所述超聲波清洗裝置和所述真空干燥裝置與所述碳?xì)淝逑磩├淠b置連通,所述超聲波清洗槽中蒸發(fā)的碳?xì)淝逑磩┮约罢婵崭稍镅b置中排出的碳?xì)淝逑磩┩ㄟ^(guò)所述碳?xì)淝逑磩├淠b置進(jìn)行冷凝回收。
9.如權(quán)利要求8所述的材料表面處理設(shè)備,其特征在于,所述進(jìn)口與所述碳?xì)淝逑磩├淠b置之間還設(shè)置有第二分離槽,用于分離冷凝的水和碳?xì)淝逑磩?/p>
10.如權(quán)利要求1所述的材料表面處理設(shè)備,其特征在于,所述碳?xì)淝逑磩┑拈W點(diǎn)在200℃以上、沸點(diǎn)在65-80℃之間、粘度在1000mPa·s以下。
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