[發明專利]一種制備鎘(II)離子印跡復合膜的方法有效
| 申請號: | 201811462148.1 | 申請日: | 2018-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN109589943B | 公開(公告)日: | 2021-11-12 |
| 發明(設計)人: | 字富庭;趙莉;胡德瓊;劉迎梅;成會玲;胡顯智 | 申請(專利權)人: | 昆明理工大學 |
| 主分類號: | B01J20/26 | 分類號: | B01J20/26;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/20 |
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| 地址: | 650093 云*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 ii 離子 印跡 復合 方法 | ||
1.一種制備鎘(II)離子印跡復合膜的方法,其特征在于,具體包括以下步驟:
(1)預聚合溶液的配制:將鎘(II)離子完全溶解在致孔劑中,加入N,N'-吡啶-2,6-二(2-甲基丙烯酰胺)振蕩2~3h,加入交聯劑乙二醇二甲基丙烯酸酯和引發劑偶氮二異丁腈,搖勻,超聲處理5~10min,形成預聚合溶液;
所述鎘(II)離子、N,N'-吡啶-2,6-二(2-甲基丙烯酰胺)、乙二醇二甲基丙烯酸酯的摩爾比為1:(2~8):(10~50);
(2)Cd(II)-MICM的制備:將基膜置于步驟(1)得到的預聚合溶液中,常溫浸泡3~30min,最后50~80℃反應12~24 h,形成鎘(II)離子印跡復合膜Cd(II)-MICM;
(3)Cd(II)-MICM的洗脫:將步驟(2)得到的鎘(II)離子印跡復合膜Cd(II)-MICM用甲醇和醋酸的混合溶液洗脫模板離子,再用甲醇洗至中性,真空干燥24h得到洗脫后的鎘(II)離子印跡復合膜Cd(II)-MICM;
所述致孔劑為有機溶劑和水的混合溶液,有機溶劑和水的體積比為1:1~3:1;所述有機溶劑為甲醇、乙醇、乙腈、N,N-二甲基甲酰胺或者異丙醇;
步驟(1)中鎘(II)離子和偶氮二異丁腈的摩爾比為1:(0.06~0.12)。
2.根據權利要求1所述制備鎘(II)離子印跡復合膜的方法,其特征在于:步驟(2)中所述基膜為聚四氟乙烯微孔濾膜、聚偏氟乙烯微孔濾膜、Nylon-6微孔濾膜中的一種,市售產品。
3.根據權利要求1所述制備鎘(II)離子印跡復合膜的方法,其特征在于:步驟(3)中甲醇/醋酸混合溶液中,甲醇與醋酸體積比為9:1。
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