[發(fā)明專利]液晶顯示面板及液晶顯示裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811458800.2 | 申請日： | 2018-11-30 |
| 公開（公告）號： | CN109375412A | 公開（公告）日： | 2019-02-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陸鵬 | 申請（專利權(quán)）人： | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1335 | 分類號： | G02F1/1335;G06K9/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 430079 湖北省武漢市*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 指紋識別模塊 陣列基板 彩膜基板 液晶 液晶顯示面板 液晶顯示裝置 薄膜晶體管 光電二極管 面向用戶 光能轉(zhuǎn)換 手指反射 電連接 靈敏度 輸出端 申請 路程 | ||
1.一種液晶顯示面板，其特征在于，包括：
陣列基板，設(shè)置在面向用戶的一側(cè)；
彩膜基板，設(shè)置在背向用戶的一側(cè)；
液晶，設(shè)置在所述陣列基板和所述彩膜基板之間；以及
指紋識別模塊，設(shè)置在所述陣列基板面向所述液晶的一側(cè)，以縮短指紋反射光照射到光電二極管的路程；
所述指紋識別模塊包括一薄膜晶體管和用于將光能轉(zhuǎn)換為電能的所述光電二極管，所述薄膜晶體管電連接于所述光電二極管的輸出端。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述薄膜晶體管包括基板和依次形成于所述基板面向所述彩膜基板一面上的柵極、絕緣層、有源層、源/漏極、第一鈍化層、第二鈍化層和第一遮光層；
所述光電二極管包括所述基板和依次形成于所述基板上的所述絕緣層、源/漏電極層、N型層、中間層、P型層、接觸電極、第三鈍化層和第二遮光層；
所述第一遮光層上依次形成有所述接觸電極和所述第三鈍化層；
所述源/漏極和所述源/漏電極層電性連接且同層設(shè)置，所述第一遮光層用于遮擋所述薄膜晶體管和部分無需光照的所述第二鈍化層，所述第二遮光層用于遮擋所述光電二極管。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述薄膜晶體管還包括一第三遮光層，所述第三遮光層設(shè)置在所述柵極和所述基板之間，所述第三遮光層用于所述薄膜晶體管和部分無需光照的所述第一鈍化層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述中間層的材料為Si基、有機OPD和鈣鈦礦中的一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述中間層為鈣鈦礦，所述中間層的厚度介于250納米至3微米之間。
6.一種液晶顯示裝置，包括一液晶顯示面板和光源，其特征在于，所述液晶顯示面板包括：
陣列基板，設(shè)置在面向用戶的一側(cè)；
彩膜基板，設(shè)置在背向用戶的一側(cè)；
液晶，設(shè)置在所述陣列基板和所述彩膜基板之間；以及
指紋識別模塊，設(shè)置在所述陣列基板面向所述液晶的一側(cè)，以縮短指紋反射光照射到光電二極管的路程；
所述指紋識別模塊包括一薄膜晶體管和用于將光能轉(zhuǎn)換為電能的所述光電二極管，所述薄膜晶體管電連接于所述光電二極管的輸出端。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述薄膜晶體管包括基板和依次形成于所述基板面向所述彩膜基板一面上的柵極、絕緣層、有源層、源/漏極、第一鈍化層、第二鈍化層和第一遮光層；
所述光電二極管包括所述基板和依次形成于所述基板上的所述絕緣層、源/漏電極層、N型層、中間層、P型層、接觸電極、第三鈍化層和第二遮光層；
所述第一遮光層上依次形成有所述接觸電極和所述第三鈍化層；
所述源/漏極和所述源/漏電極層電性連接且同層設(shè)置，所述第一遮光層用于遮擋所述薄膜晶體管和部分無需光照的所述第二鈍化層，所述第二遮光層用于遮擋所述光電二極管。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述薄膜晶體管還包括一第三遮光層，所述第三遮光層設(shè)置在所述柵極和所述基板之間，所述第三遮光層用于所述薄膜晶體管和部分無需光照的所述第一鈍化層。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述中間層的材料為Si基、有機OPD和鈣鈦礦中的一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述中間層為鈣鈦礦，所述中間層的厚度介于250納米至3微米之間。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
