[發明專利]一種熒光相關光譜測量系統

在審

• 申請號: 201811382587.1
• 申請日: 2018-11-20
• 公開（公告）號: CN109520982A
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發明（設計）人: 趙祥偉;李紹華;崔玉軍
• 申請（專利權）人: 東南大學
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64
• 代理公司: 南京眾聯專利代理有限公司 32206
• 代理人: 盧倩

1.一種熒光相關光譜測量系統，包括激發光源、第一透鏡、第一濾色片、二向色鏡、物鏡、光纖、光纖錐體、第二濾色片、第二透鏡和檢測器；其特征在于，所述光纖錐體的端面設置有納米孔；所述激發光源發出的激光經過第一透鏡、第一濾色片和二向色鏡進入物鏡，然后通過物鏡聚焦進入光纖和光纖錐體，最后在納米孔中形成空間限域激發；納米孔內的激發熒光通過光纖，物鏡，二向色鏡，第二濾色片和第二透鏡進入檢測器。

2.如權利要求1所述的熒光相關光譜測量系統，其特征在于，所述光纖為單模光纖或多模光纖；所述光纖為玻璃光纖，或者石英光纖，或者聚合物光纖，或者液芯光纖。

3.如權利要求1所述的熒光相關光譜測量系統，其特征在于，所述光纖錐體的尖端直徑在10微米到1000微米之間。

4.如權利要求1所述的熒光相關光譜測量系統，其特征在于，所述光纖錐體的端面鍍有金屬涂層；所述金屬涂層為金、銀、鋁、銅、鎳、鉑中任意一種或幾種金屬的合金。

5.如權利要求4所述的熒光相關光譜測量系統，其特征在于，所述金屬涂層的厚度在20納米到1個微米之間。

6.如權利要求1所述的熒光相關光譜測量系統，其特征在于，所述納米孔的直徑在50納米到200納米之間。

7.如權利要求4所述的熒光相關光譜測量系統，其特征在于，所述納米孔貫穿整個金屬涂層，或貫穿整個金屬涂層并深入光纖芯層100納米以內。

8.如權利要求1所述的熒光相關光譜測量系統，其特征在于，所述納米孔的截面形狀為矩形或者梯形。

9.如權利要求1所述的熒光相關光譜測量系統，其特征在于，激發光可以有一路或者多路，相應的濾色片和二向色鏡也采用一個或者多個；所述激發光源是一種波長或者多種波長，相應的檢測光路采用一個或者多個。

10.如權利要求1所述的熒光相關光譜測量系統，其特征在于，所述檢測器為時間相關單光子計數器、時間相關光電倍增管、雪崩二極管或者EMCCD。