[發(fā)明專利]一種雙MZI多電平PAM信號全光整形器及其設計方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811367044.2 | 申請日: | 2018-11-16 |
| 公開(公告)號: | CN109586794B | 公開(公告)日: | 2021-08-31 |
| 發(fā)明(設計)人: | 孔祥健;凌九紅;胡家艷;吳凡;胡毅;馬衛(wèi)東 | 申請(專利權)人: | 武漢光迅科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H04B10/293 | 分類號: | H04B10/293;H04B10/25;H04B10/54 |
| 代理公司: | 深圳市愛迪森知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 44341 | 代理人: | 何婷 |
| 地址: | 430074 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 mzi 電平 pam 信號 整形 及其 設計 方法 | ||
1.一種雙MZI多電平PAM信號全光整形器,其特征在于,包括前后連接的匹配可調(diào)光放大器和雙MZI整形單元,所述雙MZI整形單元的上臂設有內(nèi)嵌MZI模塊,下臂設有光纖,所述內(nèi)嵌MZI模塊的上下兩臂分別設有同長度的光纖;所述雙MZI整形單元還包括輸入耦合器C1和輸出耦合器C3,所述內(nèi)嵌MZI模塊還包括輸入耦合器C4和輸出耦合器C2;
多電平PAM信號經(jīng)過所述匹配可調(diào)光放大器放大后,被所述輸入耦合器C1分為兩路進入所述雙MZI整形單元,一路通過上臂內(nèi)嵌MZI模塊發(fā)生非線性效應,另一路通過下臂光纖發(fā)生非線性效應,兩路信號由所述輸出耦合器C3耦合輸出,得到整形后的多電平PAM信號;
其中,在所述內(nèi)嵌MZI模塊中,多電平PAM信號又被所述輸入耦合器C4分為兩路進入所述內(nèi)嵌MZI模塊,進而分別在兩臂同長度的光纖中發(fā)生非線性效應,兩路信號由所述輸出耦合器C2耦合輸出。
2.根據(jù)權利要求1所述的雙MZI多電平PAM信號全光整形器,其特征在于,所述雙MZI整形單元的整形性能與參考功率點的選取正相關,具體滿足以下關系式:n≤pref-0.5;其中,n為所述雙MZI整形單元可整形的電平數(shù),pref為參考功率點,且所述參考功率點pref定義為參考功率Pref與多電平PAM信號步長P0的比值:pref=Pref/P0。
3.一種雙MZI多電平PAM信號全光整形器的設計方法,其特征在于,全光整形器包括前后連接的匹配可調(diào)光放大器和雙MZI整形單元,所述雙MZI整形單元的上臂設有內(nèi)嵌MZI模塊,下臂設有光纖,所述內(nèi)嵌MZI模塊的上下兩臂分別設有同長度的光纖;所述雙MZI整形單元還包括輸入耦合器C1和輸出耦合器C3,所述內(nèi)嵌MZI模塊還包括輸入耦合器C4和輸出耦合器C2,則所述設計方法包括:
根據(jù)多電平PAM信號的電平數(shù)以及整形性能的設計要求,選取參考功率點的值;
根據(jù)雙MZI整形單元兩臂的透射系數(shù)比公式以及參考功率點的取值,確定雙MZI整形單元兩臂的光纖長度差以及透射系數(shù)比公式中的k值;
根據(jù)雙MZI整形單元兩臂的非線性相移差公式以及所述光纖長度差,確定輸入耦合器C1的直通效率、雙MZI整形單元兩臂的光纖長度以及多電平PAM信號步長;
根據(jù)所述透射系數(shù)比公式中的k值以及輸入耦合器C1的直通效率的取值,確定輸出耦合器C2與輸出耦合器C3的直通效率;
根據(jù)以上參數(shù),確定所述雙MZI整形單元的工作范圍;
調(diào)節(jié)匹配可調(diào)光放大器的增益,使多電平PAM信號與雙MZI整形單元的工作范圍相匹配;
其中,所述輸入耦合器C4的直通效率為預先確定的固定值,所述k值與輸入耦合器C1、輸出耦合器C2、輸出耦合器C3的直通效率有關。
4.根據(jù)權利要求3所述的雙MZI多電平PAM信號全光整形器的設計方法,其特征在于,所述參考功率點的取值滿足以下條件:pref≥n+0.5;其中,pref為參考功率點,n為多電平PAM信號的電平數(shù)。
5.根據(jù)權利要求3所述的雙MZI多電平PAM信號全光整形器的設計方法,其特征在于,所述雙MZI整形單元兩臂的透射系數(shù)比為定值,所述透射系數(shù)比公式具體為:
其中,
在所述雙MZI整形單元中,上臂內(nèi)嵌MZI模塊中兩臂光纖的透射系數(shù)相等,記為R1,下臂光纖的透射系數(shù)記為R2;pref為參考功率點,ρ1、ρ2、ρ3分別為輸入耦合器C1、輸出耦合器C2以及輸出耦合器C3的直通效率。
6.根據(jù)權利要求5所述的雙MZI多電平PAM信號全光整形器的設計方法,其特征在于,
其中,L1為所述雙MZI整形單元上臂內(nèi)嵌MZI模塊中的兩臂光纖的長度,L2為所述雙MZI整形單元下臂光纖的長度,α為光纖的衰減系數(shù)。
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