[發明專利]光學成像系統在審
| 申請號: | 201811319496.3 | 申請日: | 2018-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN109752823A | 公開(公告)日: | 2019-05-14 |
| 發明(設計)人: | 許宰赫;白在鉉;趙鏞主 | 申請(專利權)人: | 三星電機株式會社 |
| 主分類號: | G02B13/00 | 分類號: | G02B13/00;G02B13/06;H04N5/225 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 劉奕晴;金光軍 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透鏡 光學系統 圖像傳感器 光學成像系統 物方表面 物方 可變光闌 像方表面 光轉換 入射孔 入射 像方 成像 穿過 配置 | ||
1.一種光學成像系統,包括:
光學系統,包括從物方朝向像方順序地設置的至少六個透鏡;
圖像傳感器,被配置為將入射穿過所述光學系統的光轉換為電信號;以及
可變光闌,被構造為改變入射孔直徑并且被設置為朝向所述光學系統的最靠近所述物方的透鏡的物方表面,并且,
4.7mm<TTL<6.00mm,其中,TTL是從最靠近所述物方的所述透鏡的所述物方表面到所述圖像傳感器的成像面的距離,并且
-0.5<(|Ri|-|Rj|)/(|Ri|+|Rj|)<0.5,其中,Ri是所述光學系統的第二靠近所述圖像傳感器的透鏡的物方表面的曲率半徑,Rj是所述光學系統的第二靠近所述圖像傳感器的所述透鏡的像方表面的曲率半徑。
2.根據權利要求1所述的光學成像系統,其中,0.8<|Ri/Rj|≤1.2。
3.根據權利要求1所述的光學成像系統,其中,f14>f,其中,f14是所述光學系統的設置為最靠近所述物方的四個透鏡的合成焦距,f是所述光學系統的總焦距。
4.根據權利要求1所述的光學成像系統,其中,TTL/IMGHT<2.0,其中,IMGHT是所述圖像傳感器的對角線長度的一半。
5.根據權利要求1所述的光學成像系統,其中,FOV≥70°,其中,FOV是所述光學系統的視場角。
6.根據權利要求1所述的光學成像系統,其中,1.64<Nmax≤1.75,其中,Nmax是所述光學系統的第二靠近所述物方的透鏡的折射率、所述光學系統的第三靠近所述物方的透鏡的折射率和所述光學系統的第四靠近所述物方的透鏡的折射率中的最大的折射率。
7.根據權利要求1所述的光學成像系統,其中,4.0mm<f<4.5mm,其中,f是所述光學系統的總焦距。
8.根據權利要求1所述的光學成像系統,其中,f/EPD_max≤1.7,其中,f是所述光學系統的總焦距,EPD_max是所述光學系統的最大入瞳直徑。
9.根據權利要求1所述的光學成像系統,其中,f/EPD_min>2.0,其中,f是所述光學系統的總焦距,EPD_min是所述光學系統的最小入瞳直徑。
10.根據權利要求1所述的光學成像系統,其中,所述至少六個透鏡包括:
第一透鏡,具有正屈光力;
第二透鏡,具有正屈光力;
第三透鏡,具有負屈光力;
第四透鏡,具有正屈光力;
第五透鏡,具有負屈光力和位于所述第五透鏡的像方表面上的拐點;以及
第六透鏡,具有負屈光力和位于所述第六透鏡的像方表面上的拐點。
11.根據權利要求1所述的光學成像系統,其中,所述至少六個透鏡包括:
第一透鏡,具有正屈光力;
第二透鏡,具有負屈光力;
第三透鏡,具有正屈光力;
第四透鏡,具有正屈光力;
第五透鏡,具有正屈光力或負屈光力;
第六透鏡,具有正屈光力或負屈光力,并且所述第六透鏡具有位于所述第六透鏡的像方表面上的拐點;以及
第七透鏡,具有負屈光力和位于所述第七透鏡的像方表面上的拐點。
12.根據權利要求1所述的光學成像系統,其中,所述至少六個透鏡包括:
第一透鏡,具有正屈光力;
第二透鏡,具有正屈光力;
第三透鏡,具有正屈光力;
第四透鏡,具有負屈光力;
第五透鏡,具有負屈光力;
第六透鏡,具有正屈光力;
第七透鏡,具有正屈光力和位于所述第七透鏡的像方表面上的拐點;以及
第八透鏡,具有負屈光力和位于所述第八透鏡的像方表面上的拐點。
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