[發(fā)明專利]吸附裝置及貼合系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811312793.5
• 申請日: 2018-11-06
• 公開（公告）號: CN109304681B
• 公開（公告）日: 2020-12-29
• 發(fā)明（設計）人: 陳右儒
• 申請（專利權）人: 業(yè)成科技（成都）有限公司;業(yè)成光電（深圳）有限公司;英特盛科技股份有限公司
• 主分類號: B25B11/00
• 分類號: B25B11/00;B32B37/00
• 代理公司: 成都希盛知識產(chǎn)權代理有限公司 51226
• 代理人: 楊冬梅;張行知

本發(fā)明提供一種吸附裝置，包括：施力結構，用于提供壓力；以及吸附結構，連接于所述施力結構，其包括接觸層，所述接觸層包括基底及由所述基底的一表面凸伸出的多個間隔排列的彈性接觸部；其中，所述彈性接觸部用于配合所述施力結構所提供的壓力，吸附待貼合物件。本發(fā)明提供的吸附裝置，提高了對表面不平整的第一貼合物件的吸附效果，有利于解決現(xiàn)有技術中在待貼合物件表面不平整的情況下，吸附不良的問題。本發(fā)明還提供一種貼合系統(tǒng)。

技術領域

本發(fā)明涉及一種吸附裝置及具有該吸附裝置的貼合系統(tǒng)。

背景技術

貼合系統(tǒng)一般包括用于固定待貼合物的吸附裝置。一般的吸附原理是利用真空吸附、靜電吸附或者范德華力涂層以固定待貼合物。由于在使用真空吸附時，會考慮到裝置可能存在的漏氣問題，因此，一般吸附裝置會使用剛性材料作為基材，常用的為金屬與陶瓷。若使用靜電吸附時，則吸附裝置需搭配繞線線圈進行吸附，基材也多使用剛性材料。在利用范德華力的情況下，則是將涂層涂于剛性介質表面，達到吸附效果。

上述的貼合治具，在吸附裝置吸附待貼合物時，若待貼合物的表面為不平整材料時，比如表面有毛刺、針尖狀凸起等表面凸起，這些不平整的表面會成為受力點發(fā)生應力集中，導致貼合失敗。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明一方面提供一種吸附裝置，包括：

施力結構，用于提供壓力；以及

吸附結構，連接于所述施力結構，其包括接觸層，所述接觸層包括基底及由所述基底的一表面凸伸出的多個間隔排列的彈性接觸部；

其中，所述彈性接觸部用于配合所述施力結構所提供的壓力，吸附待貼合物件。

本發(fā)明另一方面提供一種貼合系統(tǒng)，包括：

上平臺，用于固定第一待貼合物件，所述上平臺包括如上述任意一項所述的吸附裝置；

下平臺，用于固定第二待貼合物件；及

位移控制器，所述位移控制器與所述施力結構連接，用于帶動所述施力結構和所述吸附結構在三維方向產(chǎn)生位移。

本發(fā)明提供的吸附裝置，緩沖層和所有彈性接觸部都采用高彈性的材料制成(例如PDMS)。當施力結構施加壓力時，緩沖層起到緩沖作用，對壓力進行均衡分配再施加至彈性接觸部，彈性接觸部受到壓力，可對待貼合物件進行緊貼，并且由于緩沖層和所有彈性接觸部都具有彈性其具備較好的彈性，可對待貼合物件的接觸面進行仿形，即使待貼合物件與彈性接觸部的接觸面不平整，對待貼合物件與彈性接觸部接觸的表面各處都可良好接觸，彈性接觸部再利用分子間的作用力，將待貼合物件吸附起來，從而提高對表面不平整的貼合物件的吸附效果。有利于解決現(xiàn)有技術中在待貼合物件表面不平整的情況下，吸附不良的問題。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實施例提供的吸附裝置的結構示意圖。

圖2是圖1中吸附結構的結構示意圖。

圖3是圖2所示的吸附結構與圖1中的連接板在一起的剖面結構示意圖。

圖4是本發(fā)明實施例提供的PDMS的楊氏模數(shù)與其厚度之間關系的示意圖。

圖5是本發(fā)明實施例提供的彈性接觸部的制作方法的流程示意圖。

圖6A～6E為本實施例提供的吸附裝置的工作過程示意圖。

圖7是本發(fā)明實施例提供的貼合系統(tǒng)的模塊示意圖。

圖8為圖7中位移控制器和吸附裝置的結構示意圖。

主要元件符號說明