[發(fā)明專利]晶圓清潔設(shè)備及晶圓生產(chǎn)線

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811310147.5
• 申請日: 2018-11-07
• 公開（公告）號: CN109107970A
• 公開（公告）日: 2019-01-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 舒福璋;史霄
• 申請（專利權(quán)）人: 北京半導(dǎo)體專用設(shè)備研究所（中國電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所）
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/08;F26B21/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371
• 代理人: 鄧超

本發(fā)明公開了一種晶圓清潔設(shè)備及晶圓生產(chǎn)線，涉及晶圓清潔工藝領(lǐng)域。該晶圓清潔設(shè)備包括清潔主體、夾持組件、清潔組件及防護(hù)組件，夾持組件設(shè)有夾持工位，待清潔晶圓放置于夾持工位，且夾持組件用于夾持待清潔晶圓，清潔組件用于清潔待清潔晶圓，清潔主體上開設(shè)有清潔槽，夾持組件設(shè)置于清潔槽內(nèi)，防護(hù)組件包括防護(hù)罩，防護(hù)罩活動連接于清潔主體，且防護(hù)罩能夠沿第一方向運(yùn)動，以圍繞待清潔晶圓，其中，第一方向?yàn)榍鍧嵅鄣牟劭诘南蛲夥较颉＞A清潔設(shè)備及晶圓生產(chǎn)線能夠避免待清潔晶圓在清潔過程中被污染，提高清潔效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及晶圓清潔工藝領(lǐng)域，具體而言，涉及一種晶圓清潔設(shè)備及晶圓生產(chǎn)線。

背景技術(shù)

隨著現(xiàn)代對晶體集成化的要求及半導(dǎo)體制程技術(shù)的進(jìn)步，在一大型集成電路中，往往包含非常微小的電子元件。而在制造過程中，微塵粒子、金屬微粒或是油污等污染物，很容易附著在電子元件上，因而造成晶片內(nèi)電路功能的損壞，例如短路或斷路等，而導(dǎo)致整個集成電路成品的失效。因此，晶圓清洗制程為一非常重要的步驟。

在通常的晶圓清洗制程中，濕式清洗制程為常用的一種方法，因其不傷害晶圓表面，且能有效帶走污染物，但是，在清洗過程中容易進(jìn)入雜質(zhì)，形成二次污染。

有鑒于此，研發(fā)設(shè)計(jì)出一種能夠解決上述技術(shù)問題的晶圓清潔設(shè)備及晶圓生產(chǎn)線顯得尤為重要。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種晶圓清潔設(shè)備，該晶圓清潔設(shè)備能夠避免待清潔晶圓在清潔過程中被污染，提高清潔效果。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種晶圓生產(chǎn)線，該晶圓生產(chǎn)線能夠避免待清潔晶圓在清潔過程中被污染，提高清潔效果。

本發(fā)明提供一種技術(shù)方案：

第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種晶圓清潔設(shè)備，用于清潔待清潔晶圓，所述晶圓清潔設(shè)備包括清潔主體、夾持組件、清潔組件及防護(hù)組件；所述夾持組件設(shè)有夾持工位，所述待清潔晶圓放置于所述夾持工位，且所述夾持組件用于夾持所述待清潔晶圓；所述清潔組件用于清潔所述待清潔晶圓；所述清潔主體上開設(shè)有清潔槽，所述夾持組件設(shè)置于所述清潔槽內(nèi)；所述防護(hù)組件包括防護(hù)罩，所述防護(hù)罩活動連接于所述清潔主體，且所述防護(hù)罩能夠沿第一方向運(yùn)動，以圍繞所述待清潔晶圓，其中，所述第一方向?yàn)樗銮鍧嵅鄣牟劭诘南蛲夥较颉?/p>

結(jié)合第一方面，在第一方面的第一種實(shí)現(xiàn)方式中，所述防護(hù)罩套設(shè)于所述清潔槽內(nèi)，且所述防護(hù)罩的外壁靠近所述清潔槽的側(cè)壁設(shè)置；所述防護(hù)組件還包括防護(hù)驅(qū)動件，所述防護(hù)驅(qū)動件與所述防護(hù)罩連接，且能夠帶動所述防護(hù)罩沿所述第一方向所在的直線運(yùn)動。

結(jié)合第一方面及其上述實(shí)現(xiàn)方式，在第一方面的第二種實(shí)現(xiàn)方式中，所述防護(hù)組件還包括吹氣排；所述吹氣排設(shè)置于所述清潔槽外，且與所述清潔槽的槽口相對應(yīng)，所述吹氣排能夠向所述清潔槽吹送潔凈空氣；所述清潔槽的底壁開設(shè)有出氣口，所述潔凈空氣可由所述出氣口排出所述清潔槽。

結(jié)合第一方面及其上述實(shí)現(xiàn)方式，在第一方面的第三種實(shí)現(xiàn)方式中，所述清潔組件包括清潔機(jī)構(gòu)和干燥機(jī)構(gòu)；所述清潔機(jī)構(gòu)包括清潔擺臂、清潔驅(qū)動件及第一清潔噴嘴，所述清潔驅(qū)動件、清潔擺臂及第一清潔噴嘴依次連接，且所述清潔驅(qū)動件和所述第一清潔噴嘴分別設(shè)置于所述清潔擺臂的兩端，所述清潔驅(qū)動件能夠帶動所述清潔擺臂轉(zhuǎn)動，以帶動所述第一清潔噴嘴運(yùn)動至所述清潔槽的槽口，且所述第一清潔噴嘴能夠向所述待清潔晶圓噴射清潔藥劑；所述干燥機(jī)構(gòu)包括干燥擺臂、干燥驅(qū)動件及第一干燥噴嘴，所述干燥驅(qū)動件、干燥擺臂及第一干燥噴嘴依次連接，且所述干燥驅(qū)動件和所述第一干燥噴嘴分別設(shè)置于所述干燥擺臂的兩端，所述干燥驅(qū)動件能夠帶動所述干燥擺臂轉(zhuǎn)動，以帶動所述第一干燥噴嘴運(yùn)動至所述清潔槽的槽口，且所述第一干燥噴嘴能夠向所述待清潔晶圓噴射干燥氣體。