[發(fā)明專利]檢查被測裝置的系統(tǒng)和方法以及制造半導體裝置的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811307432.1 | 申請日: | 2018-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN109755146A | 公開(公告)日: | 2019-05-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 程明灝;姜智薰;S·樸;樸盛源;李載珉 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權代理有限公司 11112 | 代理人: | 趙南;張帆 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像獲取裝置 被測裝置 圖像傳感器 圖像數(shù)據(jù) 圖像處理裝置 半導體裝置 處理裝置 附加圖像 檢查系統(tǒng) 實時產(chǎn)生 處理圖像數(shù)據(jù) 接收圖像數(shù)據(jù) 附加處理 捕獲 制造 檢查 圖像 輸出 分配 申請 | ||
本申請?zhí)峁┝擞糜诒粶y裝置的檢查系統(tǒng)、檢查被測裝置的方法、以及制造半導體裝置的方法。用于被測裝置的檢查系統(tǒng)包括圖像傳感器、N個圖像獲取裝置、K個開關、M個圖像處理裝置和至少一個附加圖像處理裝置。各圖像獲取裝置連接至圖像傳感器,并且N個圖像獲取裝置中的每個接收由圖像傳感器捕獲的被測裝置的圖像的圖像數(shù)據(jù)。K個開關中的每個連接至各圖像獲取裝置中的相應一個。M個圖像處理裝置中的每個連接至一個相應的開關,接收從N個圖像獲取裝置中的一個輸出并且由K個開關中的一個分配的圖像數(shù)據(jù),以及實時產(chǎn)生處理圖像數(shù)據(jù)。附加圖像處理裝置連接至各開關中的一個,接收圖像數(shù)據(jù),以及實時產(chǎn)生附加處理圖像數(shù)據(jù)。
相關申請的交叉引用
本申請要求2017年11月6日在韓國知識產(chǎn)權局提交的韓國專利申請No.10-2017-0146991的優(yōu)先權,其全部內容通過引用合并于此。
技術領域
本公開一般而言涉及檢查系統(tǒng)和方法,更具體地,涉及檢查被測裝置(DUT)(例如,制造半導體裝置和/或顯示設備所使用的半導體襯底和/或顯示面板)的系統(tǒng)和方法,以及基于檢查DUT的系統(tǒng)和方法來制造半導體裝置的方法。
背景技術
在半導體裝置或顯示設備的制造過程中,需要檢測其上形成有半導體裝置的半導體襯底是否具有缺陷,或者包括在顯示設備中的顯示面板是否具有缺陷。近來,檢查系統(tǒng)獲得半導體襯底或顯示面板的圖像并分析該圖像以檢測缺陷。隨著機器顯示圖像的分辨率增加,并且隨著包括在半導體襯底或顯示面板中的圖案變得更復雜更窄,可能需要更大量的處理來檢測缺陷。因此,研究人員正在研究開發(fā)具有更好性能(例如,檢查速度快,結果準確可靠等)以及提高的可擴展性和/或靈活性的檢查系統(tǒng)的各種技術。
發(fā)明內容
本公開的至少一個示例實施例提供了一種用于被測裝置(DUT)的檢查系統(tǒng),其能夠以相對低的成本有效地增加處理操作的容量。
本公開的至少一個示例實施例提供了一種檢查被測裝置(DUT)的方法,該方法能夠以相對低的成本有效地增加處理操作的容量。
本公開的至少一個示例實施例提供了一種基于檢查DUT的方法來制造半導體裝置的方法。
根據(jù)示例性實施例,一種用于被測裝置(DUT)的檢查系統(tǒng),包括:圖像傳感器、第一圖像獲取裝置至第N圖像獲取裝置、第一開關至第K開關、第一圖像處理裝置至第M圖像處理裝置、以及至少一個附加圖像處理裝置,其中,N、K、M中的每個是大于或等于2的自然數(shù)。圖像傳感器捕獲DUT的圖像。第一圖像獲取裝置至第N圖像獲取裝置連接至所述圖像傳感器,并且所述第一圖像獲取裝置至第N圖像獲取裝置中的每個接收DUT的圖像的圖像數(shù)據(jù)。第一開關至第K開關中的每個連接至所述第一圖像獲取裝置至第N圖像獲取裝置中的相應一個。第一圖像處理裝置至第M圖像處理裝置中的每個連接至所述第一開關至第K開關中的相應一個,接收從所述第一圖像獲取裝置至第N圖像獲取裝置中的一個輸出并由所述第一開關至第K開關中的一個分配的圖像數(shù)據(jù),并且通過對圖像數(shù)據(jù)實時執(zhí)行處理操作來產(chǎn)生處理圖像數(shù)據(jù)。當需要對圖像數(shù)據(jù)的附加處理操作時,所述至少一個附加圖像處理裝置連接至第一開關至第K開關中的一個,接收圖像數(shù)據(jù),并且通過對圖像數(shù)據(jù)實時執(zhí)行附加處理操作來產(chǎn)生附加處理圖像數(shù)據(jù)。
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- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 圖像數(shù)據(jù)發(fā)送裝置、圖像數(shù)據(jù)發(fā)送方法和圖像數(shù)據(jù)接收裝置
- 圖像數(shù)據(jù)發(fā)送設備、圖像數(shù)據(jù)發(fā)送方法和圖像數(shù)據(jù)接收設備
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