[發明專利]熱解吸裝置及質譜分析方法

在審

• 申請號: 201811304057.5
• 申請日: 2018-11-03
• 公開（公告）號: CN109030615A
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發明（設計）人: 聞路紅;邵科敏;李文;范國正;甘劍勤
• 申請（專利權）人: 寧波華儀寧創智能科技有限公司;廣州市華粵行儀器有限公司
• 主分類號: G01N27/62
• 分類號: G01N27/62
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種熱解吸裝置，其特征在于：所述熱解吸裝置包括：

本體，所述本體的具有凹槽，所述凹槽的底面與水平面間的夾角為銳角；

溫控模塊，所述溫控模塊用于調整所述本體的溫度；

第一容器，所述本體設置在所述第一容器內，且所述凹槽裸露在所述第一容器外；所述第一容器具有適于所述溫控模塊的線纜穿過的第一通孔；

隔熱材料，所述隔熱材料填充在所述容器內。

2.根據權利要求1所述的熱解吸裝置，其特征在于：所述凹槽的中心軸線與所述凹槽的底面垂直。

3.根據權利要求1所述的熱解吸裝置，其特征在于：所述夾角為1-10度，所述凹槽的深度為1-5mm，所述凹槽的垂直于中心軸線的截面的外接圓的直徑為3-10mm。

4.根據權利要求1所述的熱解吸裝置，其特征在于：所述熱解吸裝置進一步包括：

第二容器，所述第二容器具有上蓋、空腔和第二通孔；所述線纜穿過所述空腔和第二通孔延伸到第二容器外，所述第一容器與所述上蓋連接；

所述第一容器的側壁具有突出部，通過連接件將所述突出部固定在所述上蓋上。

5.根據權利要求4所述的熱解吸裝置，其特征在于：所述上蓋具有內凹部，所述第一容器的部分設置在所述內凹部內；所述第一容器和上蓋之間填充隔熱材料。

6.根據權利要求1-5任一所述的熱解吸裝置的質譜分析系統，所述質譜分析系統包括離子源、質譜錐口；其特征在于：所述質譜分析系統進一步包括：

權利要求1-5任一所述的熱解吸裝置設置在所述離子源和質譜錐口之間，且處于離子源錐口和質譜錐口間連線的下方。

7.根據權利要求6所述的質譜分析系統，其特征在于：所述凹槽的底面的中心到所述連線的垂直距離為5-10mm，所述凹槽的底面的中心在所述連線上的垂點到所述離子源錐口的距離為3-10mm，所述凹槽的底面的中心到具有所述連線的豎直面的距離為0.5-2.5mm；所述質譜錐口與離子源錐口的距離在15-30mm。

8.根據權利要求6所述的質譜分析系統，其特征在于：所述熱解吸裝置進一步包括：

外罩，所述外罩設置在所述第一容器的外圍，外罩的底端與所述上蓋連接；所述外罩的相對的二個側部具有適于所述連線穿過的通孔或槽，所述外罩的頂部具有固定移液槍的通孔，所述凹槽處于所述固定移液槍的通孔的下側。

9.根據權利要求8所述的質譜分析系統，其特征在于：離子源錐口和/質譜錐口卡入所述外罩的相對的二個側部的通孔或槽內。

10.根據權利要求6-9任一所述的質譜分析系統的質譜分析方法，所述質譜分析方法包括以下步驟：

(A1)移液槍將樣品加入到凹槽內；

(A2)本體被加熱，并達到設定溫度；樣品在所述凹槽內別富集、解吸；

(A3)離子源工作，樣品被離子化，并通過質譜錐口進入分析器，從而獲知樣品的信息。