[發明專利]一種具有任意曲面、用于相差校正的光學器件的直接制作方法在審
| 申請號： | 201811301053.1 | 申請日： | 2018-11-02 |
| 公開（公告）號： | CN109304540A | 公開（公告）日： | 2019-02-05 |
| 發明（設計）人： | 趙曉杰;陶沙;秦國雙 | 申請（專利權）人： | 英諾激光科技股份有限公司;常州英諾激光科技有限公司 |
| 主分類號： | B23K26/00 | 分類號： | B23K26/00;B24B13/00;B08B7/00 |
| 代理公司： | 深圳市精英專利事務所 44242 | 代理人： | 任哲夫 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市南山區科技*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學器件 校正 直接制作 激光加工技術 光路補償 激光照射 曲面設計 光程差 光路 固化 制作 | ||
1.一種具有任意曲面、用于相差校正的光學器件的直接制作方法，其特征在于，包括以下步驟：
S1、檢測待校正光路系統的光程差；
S2、根據光程差設計一具有特定曲面的并可補償該光程差的光學器件；
S3、選擇用于制作所設計光學器件的光學材料和激光光源；
S4、根據光學器件的設計，激光照射并固化光學材料特定的部分；
S5、去除未固化的光學材料，得到所設計的擁有特定曲面的光學器件。
2.根據權利要求1所述的具有任意曲面、用于相差校正的光學器件的直接制作方法，其特征在于，所述S4步驟中，通過調節激光光路系統中的振鏡來調整激光照射并固化的位置。
3.根據權利要求1所述的具有任意曲面、用于相差校正的光學器件的直接制作方法，其特征在于，所述S4步驟中，通過調節待固化光學材料的空間位置來調整激光照射并固化的位置。
4.根據權利要求2或3所述的具有任意曲面、用于相差校正的光學器件的直接制作方法，其特征在于，所述S4步驟中，通過使被激光照射的光學材料產生單光子聚合或雙光子聚合而固化被照射的光學材料。
5.根據權利要求1所述的具有任意曲面、用于相差校正的光學器件的直接制作方法，其特征在于，所述S5步驟中，采用化學清洗的方式，去除未固化的光學材料，留下的已固化部分即為所需的補償用光學器件。
6.根據權利要求1所述的具有任意曲面、用于相差校正的光學器件的直接制作方法，其特征在于，所述S5步驟中，采用等離子體清洗的方式，去除未固化的光學材料，留下的已固化部分即為所需的補償用光學器件。
7.根據權利要求1所述的具有任意曲面、用于相差校正的光學器件的直接制作方法，其特征在于，所述S5步驟后，還包括S6后處理步驟，即對光學器件進行表面處理，以使得其表面符合光學要求。
8.根據權利要求7所述的具有任意曲面、用于相差校正的光學器件的直接制作方法，其特征在于，所述S6后處理步驟中，包括對光學器件表面進行拋光、親/疏水表面處理。
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