[發明專利]一種正性光刻膠去膠清洗組合物及其應用

有效

• 申請號: 201811298251.7
• 申請日: 2018-11-02
• 公開（公告）號: CN109164686B
• 公開（公告）日: 2022-01-28
• 發明（設計）人: 李森虎;承明忠;朱龍;邵勇;顧玲燕;陳林;殷福華;趙文虎;姚瑋
• 申請（專利權）人: 江陰江化微電子材料股份有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 無錫堅恒專利代理事務所(普通合伙) 32348
• 代理人: 杜興

1.一種正性光刻膠去膠清洗組合物，其特征在于，主要組分包括季銨類氫氧化物、水溶性鏈烷醇胺、水溶性有機極性溶劑和具有環己基的酯類化合物，具有環己基的酯類化合物為選自甲酸環己酯、乙酸環己酯、丙酸環己酯、2-甲基丙酸環己酯、巰基丙酸環己酯、環己甲酸甲酯、環己甲酸乙酯中的一種或兩種以上的組合;

按重量百分比計，其組成包括季銨類氫氧化物1～10%、水溶性鏈烷醇胺10～30%、水溶性有機極性溶劑40～80%和具有環己基的酯類化合物3～25%。

2.根據權利要求1所述的正性光刻膠去膠清洗組合物，其特征在于，具有環己基的酯類化合物為選自甲酸環己酯、乙酸環己酯、丙酸環己酯、2-甲基丙酸環己酯、巰基丙酸環己酯中的一種或兩種以上的組合。

3.根據權利要求2所述的正性光刻膠去膠清洗組合物，其特征在于，具有環己基的酯類化合物為巰基丙酸環己酯，或者由巰基丙酸環己酯和選自甲酸環己酯、乙酸環己酯、丙酸環己酯、2-甲基丙酸環己酯中的至少一種組合而成。

4.根據權利要求1所述的正性光刻膠去膠清洗組合物，其特征在于，季銨類氫氧化物為選自氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化四丁基銨、氫氧化一甲基三丙基銨、氫氧化二甲基二乙基銨中的一種或兩種以上的組合。

5.根據權利要求1所述的正性光刻膠去膠清洗組合物，其特征在于，水溶性有機極性溶劑為選自二甲基亞砜、二甲基砜、N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一種或兩種以上的組合。

6.根據權利要求1所述的正性光刻膠去膠清洗組合物，其特征在于，水溶性鏈烷醇胺為二乙醇胺、三乙醇胺和異丙醇胺中的一種或兩種以上的組合。

7.根據權利要求1所述的正性光刻膠去膠清洗組合物，其特征在于，還包括金屬緩蝕劑。

8.權利要求1至7中任意一項所述的正性光刻膠去膠清洗組合物在基板光刻膠剝離工藝中的應用，其特征在于，所述的基板光刻膠為正性光刻膠。