[發明專利]能夠防眩的TFT玻璃薄化蝕刻液

在審

• 申請號: 201811287914.5
• 申請日: 2018-10-31
• 公開（公告）號: CN109305759A
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發明（設計）人: 趙志永;趙麗凈;卓靜
• 申請（專利權）人: 鄧惠玉;趙志永;趙麗凈;卓靜
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 天津合志慧知識產權代理事務所(普通合伙) 12219
• 代理人: 陶怡

能夠防眩的TFT玻璃薄化蝕刻液，其特征是所述的蝕刻液由以下組分組成：重量百分比含量4～7％的鹽酸(以HCl計)，重量百分比含量1?2％的硝酸(以HNO3計)，重量百分比含量2％～5％的氫氟酸(以HF計)，重量百分比1％～1.5％的氟化銨，重量百分比0.1％～0.3％的氯化鋅，重量百分比含量1～2％的羥丙基甲基纖維素(HPMC)，重量比3％～5％的丙三醇及余量的水。

技術領域

本發明涉及用于TFT玻璃基板蝕刻組合物。

背景技術

為滿足制作超薄TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶體管)顯示屏的要求，需要對現有規格玻璃基板進行薄化處理。當前普遍采用的氫氟酸為主的蝕刻液對TFT玻璃基板進行蝕刻薄化，但常規的蝕刻方式會產生局部缺陷，需要在薄化完成后進行長時間的拋光處理，拋光的玻璃基板表面易產生眩光，需要進行額外的防眩處理。如中國專利2016112686887公開了TFT玻璃基板薄化工藝預處理劑，其配方為以TFT玻璃基板薄化工藝預處理劑，其特征在于所述預處理劑由以下組分組成：質量百分比含量8～12％的鹽酸(HCl)，質量百分比含量3-5％的硝酸，質量百分比含量2％～5％的氫氟酸(HF)，質量百分含量0.1～0.2％的氯化鈣，質量百分比含量1～2％的羥丙基甲基纖維素(HPMC)，質量百分比含量0.5～1％的結冷膠，及余量的水。據報道，采用該預處理劑對液晶玻璃基板進行預處理后，再進行薄化處理后可以提高薄化出處理的質量。但無論是作為薄化預處理劑還是直接作為薄化用蝕刻液，采用該預處理均無法在玻璃表面形成適當的霧度以防眩。中國專利文獻CN2011102930815公開了一種防眩玻璃的蝕刻液，但在研究中發現，采用這種方式制得的防眩玻璃在僅能用于對TFT基板進行表面進行處理，無法直接用于薄化，尤其無法實現在薄化的同時即提高薄化后基板的表面質量，又能使玻璃基板表面產生適當的霧度從而產生防眩效果。因此提供能夠防眩的TFT玻璃薄化蝕刻液，能夠在玻璃基板進行薄化的同時，使表面產生合適的霧度從而實現防眩效果，成為現有技術中亟待解決的問題。

發明內容

為解決前述技術問題，本發明提供了用于能夠防眩的TFT玻璃薄化蝕刻液，通過優選組合物的處方，并采用適當的薄化處理工藝，可以在對TFT玻璃基板的進行薄化的同時，實現對基板表面進行防眩減反射處理的效果。為解決前述技術問題本發明采用的技術方案為：

提供了能夠防眩的TFT玻璃薄化蝕刻液，其特征是所述的蝕刻液由以下組分組成：重量百分比含量4～7％的鹽酸(以HCl計)，重量百分比含量1-2％的硝酸(以HNO3計)，重量百分比含量2％～5％的氫氟酸(以HF計)，重量百分比1％～1.5％的氟化銨，重量百分比0.1％～0.3％的氯化鋅，重量百分比含量1～2％的羥丙基甲基纖維素(HPMC)，重量比3％～5％的丙三醇及余量的水。

所述的能夠防眩的TFT玻璃薄化蝕刻液，其特征是所述的蝕刻液由以下組分組成：重量百分比含量5％～6％的鹽酸(以HCl計)，重量百分比含量1-2％的硝酸(以HNO₃計)，重量百分比含量3％～4％的氫氟酸(以HF計)，重量百分比1％～1.5％的氟化銨，重量百分比0.2％～0.3％的氯化鋅，重量百分比含量1.5％～2％的羥丙基甲基纖維素(HPMC)，重量比3％～5％的丙三醇及余量的水。所述羥丙基甲基纖維素的粘度規格為3000～6000。優選所述羥丙基甲基纖維素的粘度規格為4000。

所述能夠防眩的TFT玻璃薄化蝕刻液，其特征在于以如下方法配制，

1)將處方量鹽酸、硝酸與氫氟酸混合，加入適量水稀釋后，加入處方量的氟化銨、氯化鋅溶解，

2)將處方量的羥丙基甲基纖維素(HPMC)和丙三醇分別溶于水后混合；

3)在攪拌條件下將步驟2)的混合液緩緩加入步驟1)的混合液中混合均勻。