[發明專利]反應槽設備的過濾器清洗裝置及其清洗方法、反應槽設備

在審

• 申請號: 201811283635.1
• 申請日: 2018-10-30
• 公開（公告）號: CN109316819A
• 公開（公告）日: 2019-02-12
• 發明（設計）人: 袁林濤;高英哲;葉日銓;劉家樺
• 申請（專利權）人: 德淮半導體有限公司
• 主分類號: B01D36/00
• 分類號: B01D36/00;B01J19/00;B08B9/08
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 武振華;吳敏

一種反應槽設備的過濾器清洗裝置及其清洗方法、反應槽設備，所述過濾器清洗裝置包括：清洗槽；清洗槽進液管路；清洗槽出液管路；備用過濾器；第一三通閥，所述第一三通閥的入口與所述清洗槽出液管路連通，所述第一三通閥的第一出口與所述備用過濾器的入口連通；第二三通閥，所述第二三通閥的第一出口與所述備用過濾器的入口連通；第三三通閥，所述第三三通閥的第一入口與所述備用過濾器的出口連通；第四三通閥，所述第四三通閥的第一入口與所述備用過濾器的出口連通，所述第四三通閥的出口與所述清洗槽進液管路連通。本發明方案可以實現在不必停機反應槽設備的前提下輪流對過濾器進行清洗，提高過濾效果且延長過濾器的使用壽命。

技術領域

本發明涉及半導體制造設備領域，尤其涉及一種反應槽設備的過濾器清洗裝置及其清洗方法、反應槽設備。

背景技術

在半導體制造工藝中，通常利用熱磷酸具有良好的均勻性和較高的選擇比的特性，采用熱磷酸濕法刻蝕對氮化硅進行刻蝕，且反應生成物包含有氧化硅(例如SiO₂)，該氧化硅會溶于磷酸溶液中。

進一步地，為了對所述熱磷酸進行循環使用，會在磷酸槽設備中設置過濾器，對所述氧化硅以及磷酸溶液中的雜質進行過濾。

然而隨著時間的積累，存在磷酸溶液中的氧化硅過于飽和的問題，導致硅的氧化物在過濾器聚集，堵塞過濾膜，使循環流量降低，降低過濾效果，縮短過濾器使用壽命。

在現有技術中，可以采用清洗液對過濾器進行清洗，然而需要先對磷酸槽設備進行停機，導致生產效率下降，生產成本增加；如果延長清洗周期，則容易降低過濾效果致使半導體器件的品質變差，且縮短過濾器使用壽命。

發明內容

本發明解決的技術問題是提供一種反應槽設備的過濾器清洗裝置及其清洗方法、反應槽設備，可以實現在不必停機反應槽設備的前提下輪流對過濾器進行清洗，提高過濾效果且延長過濾器的使用壽命。

為解決上述技術問題，本發明實施例提供一種反應槽設備的過濾器清洗裝置，包括：清洗槽，用于容置清洗液體；清洗槽進液管路，用于向所述清洗槽輸入所述清洗液體；清洗槽出液管路，用于從所述清洗槽輸出所述清洗液體；備用過濾器，所述備用過濾器具有入口和出口；第一三通閥，所述第一三通閥具有一個入口與兩個出口，所述第一三通閥的入口與所述清洗槽出液管路連通，所述第一三通閥的第一出口與所述備用過濾器的入口連通；第二三通閥，所述第二三通閥具有一個入口與兩個出口，所述第二三通閥的第一出口與所述備用過濾器的入口連通；第三三通閥，所述第三三通閥具有兩個入口與一個出口，所述第三三通閥的第一入口與所述備用過濾器的出口連通；第四三通閥，所述第四三通閥具有兩個入口與一個出口，所述第四三通閥的第一入口與所述備用過濾器的出口連通，所述第四三通閥的出口與所述清洗槽進液管路連通。

可選的，所述反應槽設備包括反應槽、原始過濾器、反應槽進液管路以及反應槽出液管路；其中，所述第一三通閥的第二出口以及所述第二三通閥的第二出口用于與所述原始過濾器的入口連通，所述第二三通閥的入口用于與所述反應槽出液管路連通，所述第三三通閥的第二入口以及所述第四三通閥的第二入口用于與所述原始過濾器的出口連通，所述第三三通閥的出口用于與所述反應槽進液管路連通。

可選的，所述清洗槽內的清洗液體為氫氟酸溶液。

可選的，所述氫氟酸溶液中氫氟酸與水的質量比為1：10至1：1000。

可選的，所述反應槽設備的過濾器清洗裝置還包括清洗槽泵，所述清洗槽泵安裝在所述清洗槽出液管路上。

可選的，所述反應槽設備的過濾器清洗裝置還包括清洗槽輸液管路以及清洗槽廢棄管路；其中，所述清洗槽輸液管路在開啟時向所述清洗槽內輸入清洗液體；所述清洗槽廢棄管路在開啟時排出所述清洗槽內的清洗后液體。