[發(fā)明專利]一種陰圖平印版前體

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811255245.3
• 申請(qǐng)日: 2018-10-26
• 公開（公告）號(hào): CN111103764B
• 公開（公告）日: 2023-08-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊青海;吳兆陽;吳俊君;楊婧;宋小偉;孫建軍;馬天如
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 樂凱華光印刷科技有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/033
• 分類號(hào): G03F7/033;G03F7/027;G03F7/004;G03F7/09
• 代理公司: 鄭州中原專利事務(wù)所有限公司 41109
• 代理人: 霍彥偉

1.一種陰圖平印版前體，其特征在于：包含版基和版基之上的成像層，成像層包含：

（1）聚合物粘結(jié)劑；

（2）可聚合/交聯(lián)的組分；

（3）成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合/交聯(lián)的引發(fā)體系；

其中成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合/交聯(lián)的引發(fā)體系含有一種吸收在750~850nm的菁染料，該菁染料含有可變色基團(tuán)和可聚合/交聯(lián)的不飽和雙鍵；

所述菁染料中的變色基團(tuán)的結(jié)構(gòu)式為：

。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陰圖平印版前體，其特征在于：所述聚合物粘結(jié)劑的結(jié)構(gòu)式為：

聚合物粘合劑占成像層總質(zhì)量的10-50%。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陰圖平印版前體，其特征在于：所述成像曝光時(shí)能夠引發(fā)聚合/交聯(lián)的引發(fā)體系含有成像曝光時(shí)能產(chǎn)生足以引發(fā)聚合反應(yīng)的自由基引發(fā)劑，自由基引發(fā)劑占成像層固體總質(zhì)量的1-10%。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陰圖平印版前體，其特征在于：所述自由基引發(fā)劑選自碘鎓鹽、硫鎓鹽、磷鎓鹽、硒鎓鹽中的一種或多種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陰圖平印版前體，其特征在于：所述菁染料占成像層固體總質(zhì)量的5-30%。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陰圖平印版前體，其特征在于：所述不飽和雙鍵來自于丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陰圖平印版前體，其特征在于：所述菁染料的結(jié)構(gòu)式為：

。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陰圖平印版前體，其特征在于：所述版基是經(jīng)過電解粗化和陽極氧化并進(jìn)行封孔處理的鋁版基，其中心線平均粗度在0.35-0.45μm。