[發(fā)明專利]一種鍍鋁鐳射材料的生產(chǎn)工藝及鐳射材料

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811240610.3
• 申請(qǐng)日: 2018-10-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109435514A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-03-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 梁波;張濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中豐田光電科技（珠海）有限公司
• 主分類號(hào): B41M1/12
• 分類號(hào): B41M1/12;B41M1/22;B41M3/06;C09D125/06;C09D7/61
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 盧澤明

1.一種鍍鋁鐳射材料的生產(chǎn)工藝，其特征在于，包括以下步驟：

①制備離型膜：在基膜上涂布一層可轉(zhuǎn)移的離型層，烘干，制成離型膜；

②設(shè)計(jì)涂布輥：按照光柵排列的方向設(shè)計(jì)間隔點(diǎn)陣圖，將所述點(diǎn)陣圖雕刻在輥上；

③制備信息層：將光子晶體、相容性稀釋劑及無(wú)機(jī)填料混合攪拌，讓光子晶體與無(wú)機(jī)填料完全融合，制成信息層；

④涂布信息層：將步驟③中制成的信息層經(jīng)步驟②中設(shè)計(jì)的網(wǎng)輥涂布在步驟①中離型膜的離型層上，制成鐳射材料；

⑤將步驟④中制成的鐳射材料設(shè)有離型層和信息層的一面或者鐳射材料的兩面進(jìn)行真空鍍鋁；

⑥根據(jù)需求分切制成成品。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍鋁鐳射材料的生產(chǎn)工藝，其特征在于：所述基膜為聚酯薄膜，厚度12-18μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍鋁鐳射材料的生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述步驟①中離型層為丙烯酸樹(shù)脂。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍鋁鐳射材料的生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述光子晶體為聚苯乙烯光子晶體。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍鋁鐳射材料的生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述步驟③中所使用的無(wú)機(jī)填料為二氧化硅和/或磷粉。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍鋁鐳射材料的生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述步驟③中相容性稀釋劑為酒精和純凈水的混合物。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍鋁鐳射材料的生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述酒精和純凈水混合物按重量百分?jǐn)?shù)計(jì)的混合比例為酒精：水＝80％：20％。

8.一種鐳射材料，其特征在于，其是按照如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的工藝步驟制備得到的。