[發(fā)明專利]超細線鍍鎳液、鍍鎳工藝、鍍鎳層及印制電路板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811145791.1 | 申請日: | 2018-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN109280907A | 公開(公告)日: | 2019-01-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 江建平;尹希江 | 申請(專利權(quán))人: | 世程新材料科技(武漢)有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/36 | 分類號: | C23C18/36;C23C18/34;H05K3/24 |
| 代理公司: | 北京匯信合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11335 | 代理人: | 王秀麗 |
| 地址: | 430000 湖北省武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 超細線 鍍鎳液 鍍鎳層 非金屬元素 印制電路板 鍍鎳 鎳鹽 組合物組成 含量計算 金屬離子 色差現(xiàn)象 印制電路 低能耗 還原劑 絡(luò)合劑 穩(wěn)定劑 滲鍍 線距 添加劑 環(huán)保 | ||
1.一種超細線鍍鎳液,其特征在于,由鎳鹽和僅含非金屬元素的組合物組成,所述鎳鹽的含量為:以Ni2+的含量計算為4.0-8.0g/L,所述僅含非金屬元素的組合物包含的各組份及含量為:
還原劑,10-50g/L;
絡(luò)合劑,20-100g/L;
穩(wěn)定劑,0.0001-0.5g/L;
特殊添加劑,0.0001-0.1g/L。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超細線鍍鎳液,其特征在于,所述鎳鹽為硫酸鎳、乙酸鎳、氯化鎳或次磷酸鎳中的一種或多種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超細線鍍鎳液,其特征在于,所述還原劑為次亞磷酸鹽、硼氫化物、胺硼烷、聯(lián)氨中的一種或多種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超細線鍍鎳液,其特征在于,所述絡(luò)合劑為葡萄糖酸、甘氨酸、乳酸、乙醇酸、丙酸、丁二酸、蘋果酸、甲叉二膦酸、氨基三甲叉膦酸中的一種或多種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超細線鍍鎳液,其特征在于,所述穩(wěn)定劑為含不飽和鍵的有機物、含碘化合物中的一種或多種;優(yōu)選地,所述不飽和鍵的有機物包括炔醇及其衍生物、硫脲及其衍生物中的一種或多種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超細線鍍鎳液,其特征在于,所述特殊添加劑為含硫化合物和/或含氮有機物。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的超細線鍍鎳液,其特征在于,所述含硫化合物包括硫脲嘧啶衍生物、硫代硫酸鹽、硫代羧酸衍生物、硫醇及其衍生物中的一種或多種;所述含氮有機物包括咪唑及其衍生物、氮雜唑及其衍生物中的一種或多種。
8.一種超細線鍍鎳工藝,其特征在于,具體步驟為:
配制權(quán)利要求1-7任一項所述的超細線鍍鎳液,將印制電路基板放入所述超細線鍍鎳液中,控制所述超細線鍍鎳液的溫度為70-90℃、pH值為4.0-6.0,鍍鎳時間為10-50分鐘。
9.一種超細線鍍鎳層,其特征在于,由權(quán)利要求8所述的超細線鍍鎳工藝制得超細線鍍鎳層,所述超細線鍍鎳層的線寬及線距均不大于50微米。
10.一種超細線印制電路板,其特征在于,包括印制電路基板、權(quán)利要求9所述的超細線鍍鎳層,所述印制電路基板上設(shè)有大銅面和小銅面,所述大銅面與小銅面上均設(shè)有所述超細線鍍鎳層,大、小銅面上的所述超細線鍍鎳層的厚度差別小于10%。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學(xué)鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預(yù)處理





