[發(fā)明專利]封裝件及其形成方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811131295.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-09-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109801849B | 公開(公告)日: | 2021-01-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡惠榕;謝昀蓁;彭竣翔;張岱民;雷弋昜;郭宏瑞;余振華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/50 | 分類號(hào): | H01L21/50;H01L21/56;H01L21/48;H01L23/48;H01L23/31 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李偉 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 封裝 及其 形成 方法 | ||
一種方法包括將器件密封在密封材料中,平坦化密封材料和器件,以及在密封材料和器件上方形成導(dǎo)電部件。導(dǎo)電部件的形成包括沉積第一導(dǎo)電材料以形成第一晶種層,在第一晶種層上方沉積與第一導(dǎo)電材料不同的第二導(dǎo)電材料以形成第二晶種層,在第二晶種層上方鍍金屬區(qū),對(duì)第二晶種層實(shí)施第一蝕刻,并且對(duì)第一晶種層實(shí)施第二蝕刻,并且在蝕刻第一晶種層之后,對(duì)第二晶種層和金屬區(qū)實(shí)施第三蝕刻。本發(fā)明的實(shí)施例還涉及封裝件及其形成方法。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的實(shí)施例涉及封裝件及其形成方法。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,半導(dǎo)體芯片/管芯變得越來越小。同時(shí),需要將更多功能集成在半導(dǎo)體管芯中。因此,半導(dǎo)體管芯需要將越來越多的I/O焊盤封裝到較小的區(qū)域內(nèi),并且因此I/O焊盤的密度隨著時(shí)間迅速提升。結(jié)果,半導(dǎo)體管芯的封裝變得更加困難,這會(huì)對(duì)封裝產(chǎn)量產(chǎn)生不利影響。
傳統(tǒng)的封裝技術(shù)可以劃分為兩類。在第一類中,晶圓上的管芯在它們被分割之前進(jìn)行封裝。這種封裝技術(shù)具有諸如較大的生產(chǎn)量和較低的成本的一些有利特征。此外,需要較少的底部填充物或模塑料。然而,這種封裝技術(shù)還具有缺陷。由于管芯的尺寸正變得越來越小,并且相應(yīng)的封裝件僅可以是扇入型封裝件,其中,每個(gè)管芯的I/O焊盤限制于位于相應(yīng)管芯的表面正上方的區(qū)域。由于管芯的面積有限,由于I/O焊盤的間距的限制,I/O焊盤的數(shù)量受到限制。如果焊盤的間距減小,則可能發(fā)生焊料橋接。此外,在固定的焊球尺寸的需求下,焊球必須具有特定的尺寸,這進(jìn)而限制了可以封裝在管芯表面上的焊球的數(shù)量。
在另一類封裝中,管芯在被封裝之前從晶圓上分割下來。該封裝技術(shù)的有利特征是形成扇出型封裝件的可能性,這意味著管芯上的I/O焊盤可以分布至比管芯更大的區(qū)域,并且因此可以增大封裝在管芯的表面上的I/O焊盤的數(shù)量。該封裝技術(shù)的另一有利特征是封裝“已知良好管芯”,以及丟棄缺陷管芯,并且因此不會(huì)在缺陷管芯上浪費(fèi)成本和精力。
在扇出封裝件中,將器件管芯密封在模塑料中,然后平坦化模塑料以暴露器件管芯。在器件管芯上方形成介電層。在介電層中形成再分布線以連接至器件管芯。扇出封裝件還可以包括穿過模塑料的貫通孔。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種形成封裝件的方法,包括:將器件密封在密封材料中;平坦化所述密封材料和所述器件;以及在所述密封材料和所述器件上方形成導(dǎo)電部件,其中,形成所述導(dǎo)電部件包括:沉積第一導(dǎo)電材料以形成第一晶種層;在所述第一晶種層上方沉積與所述第一導(dǎo)電材料不同的第二導(dǎo)電材料以形成第二晶種層;在所述第二晶種層上方鍍金屬區(qū);對(duì)所述第二晶種層實(shí)施第一蝕刻;對(duì)所述第一晶種層實(shí)施第二蝕刻;以及在蝕刻所述第一晶種層之后,對(duì)所述第二晶種層和所述金屬區(qū)實(shí)施第三蝕刻。
本發(fā)明的另一實(shí)施例提供了一種形成封裝件的方法,包括:形成粘合層;在所述粘合層上方形成多個(gè)含銅部件;選擇性地蝕刻所述粘合層,從而去除所述粘合層的不位于所述多個(gè)含銅部件下方的部分和所述粘合層的位于所述多個(gè)含銅部件下方的橫向底切部分,以形成底切;以及選擇性地蝕刻所述多個(gè)含銅部件以減少所述底切。
本發(fā)明的又一實(shí)施例提供了一種封裝件,包括:器件管芯;密封劑,將所述器件管芯密封在所述密封劑中;第一多個(gè)再分布線(RDL),位于所述器件管芯上方并且電連接至所述器件管芯,其中,所述第一多個(gè)再分布線具有第一間距,并且所述第一多個(gè)再分布線沒有底切;以及第二多個(gè)再分布線,位于所述器件管芯上方并且電連接至所述器件管芯,其中,所述第二多個(gè)再分布線具有大于所述第一間距的第二間距,并且所述第二多個(gè)再分布線具有底切。
附圖說明
當(dāng)結(jié)合附圖進(jìn)行閱讀時(shí),從以下詳細(xì)描述可最佳地理解本發(fā)明的各個(gè)方面。應(yīng)該注意,根據(jù)工業(yè)中的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐,各個(gè)部件未按比例繪制。實(shí)際上,為了清楚的討論,各種部件的尺寸可以被任意增大或減小。
圖1至圖26示出根據(jù)一些實(shí)施例的形成封裝件的中間階段的截面圖。
圖27示出根據(jù)一些實(shí)施例的不具有貫通孔的封裝件的截面圖。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
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