[發(fā)明專利]定影設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811098941.8 | 申請日: | 2018-09-20 |
| 公開(公告)號: | CN109541921B | 公開(公告)日: | 2022-05-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 田中理基;前田雅文 | 申請(專利權(quán))人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/20 | 分類號: | G03G15/20 |
| 代理公司: | 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 賈金巖 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 定影 設(shè)備 | ||
1.一種定影設(shè)備,其用于將形成在記錄材料上的圖像定影在所述記錄材料上,所述定影設(shè)備包括:
框架;
凸緣,其與所述框架接合;
圓筒形的膜,其在能夠與記錄材料接觸的同時能夠旋轉(zhuǎn);
支撐部分,其在與所述膜的縱向端部部分相對的位置處設(shè)置在所述膜的內(nèi)部空間中,所述支撐部分被設(shè)置作為所述凸緣的一部分;以及
輥,其接觸所述膜的外周表面并配置成在其自身和所述膜之間形成夾持部,所述記錄材料在所述夾持部中被夾持和進(jìn)給,
其中所述支撐部分包括在所述膜的縱向端部部分處與所述膜的內(nèi)表面相對的第一相對表面以及相對于所述膜的縱向方向在所述第一相對表面的內(nèi)側(cè)上與所述膜的內(nèi)表面相對的第二相對表面,其中所述第一相對表面和所述第二相對表面中的每一個相對表面都是能夠與所述膜的內(nèi)表面接觸而管制膜的旋轉(zhuǎn)軌道的表面,
其中所述第一相對表面和所述第二相對表面中的每一個相對表面是與接合表面形成大致直角的表面,所述接合表面是所述凸緣與所述框架接合并且所述凸緣與所述框架的平坦表面部分相對的表面,以及
其中當(dāng)在所述膜的縱向方向上觀察所述凸緣時,所述第一相對表面的輪廓大于所述第二相對表面的輪廓。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影設(shè)備,其中所述第一相對表面和所述第二相對表面中的每一個相對表面具有大致直角,所述大致直角落入86°以上且94°以下的范圍內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影設(shè)備,其中輪廓不同的所述第一相對表面和第二相對表面基于相對于記錄材料進(jìn)給方向垂直于夾持部的中心的假想平面僅設(shè)置在所述支撐部分的上游側(cè)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影設(shè)備,其中輪廓不同的所述第一相對表面和第二相對表面基于相對于記錄材料進(jìn)給方向垂直于夾持部的中心的假想平面設(shè)置在所述支撐部分的上游側(cè)和下游側(cè)兩側(cè)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影設(shè)備,其中在所述第一相對表面和第二相對表面之間設(shè)置有傾斜表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影設(shè)備,其中所述凸緣包括管制表面,當(dāng)所述膜在所述縱向方向上移位時,所述膜的端部表面抵靠所述管制表面運(yùn)行。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影設(shè)備,還包括加熱器,所述加熱器與所述膜的內(nèi)表面接觸。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的定影設(shè)備,其中夾持部通過所述加熱器和所述輥形成在所述膜和所述輥之間。
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- 專利分類
G03G 電記錄術(shù);電照相;磁記錄
G03G15-00 應(yīng)用電荷圖形的電記錄工藝的設(shè)備
G03G15-01 .用于生產(chǎn)多色復(fù)制品的
G03G15-02 .用于沉積均勻電荷的,即感光用的;電暈放電裝置
G03G15-04 .曝光用的,即將原件圖像光學(xué)投影到光導(dǎo)記錄材料上而進(jìn)行圖像曝光
G03G15-05 .用于圖像充電,例如,光敏控制屏、光觸發(fā)充電裝置
G03G15-054 .用X射線,例如,電放射術(shù)
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
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- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





