[發明專利]遠程等離子源的調整裝置及遠程等離子源清洗系統

有效

• 申請號: 201811080975.4
• 申請日: 2018-09-17
• 公開（公告）號: CN110899271B
• 公開（公告）日: 2021-10-15
• 發明（設計）人: 魏景峰;榮延棟
• 申請（專利權）人: 北京北方華創微電子裝備有限公司
• 主分類號: B08B9/08
• 分類號: B08B9/08;B08B13/00
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張天舒

1.一種遠程等離子源的調整裝置，所述遠程等離子源依次通過進氣管和噴嘴將清洗氣體通入反應腔室中，所述進氣管用于在所述反應腔室抽真空之前支撐遠程等離子源，其特征在于，所述調整裝置設置在所述遠程等離子源與所述反應腔室之間；所述調整裝置包括：

固定支架，設置在所述反應腔室的頂部；

至少三個調整組件，每個調整組件分別與所述遠程等離子源和所述固定支架連接，并且每個調整組件用于在所述遠程等離子源下降至密封位置時，支撐所述遠程等離子源，以及調節所述遠程等離子源與該調整組件連接位置處的高度。

2.根據權利要求1所述的遠程等離子源的調整裝置，其特征在于，每個調整組件包括調整桿和連接件，其中，

所述連接件與所述遠程等離子源連接；

所述調整桿豎直設置，且與所述連接件螺紋連接，并且所述調整桿與所述固定支架連接，在所述調整桿上設置有限位結構，所述限位結構用于限制所述調整桿相對于所述固定支架沿豎直方向移動，并允許所述調整桿繞自身軸線轉動。

3.根據權利要求2所述的遠程等離子源的調整裝置，其特征在于，所述固定支架包括第一通孔，所述調整桿穿過所述第一通孔；所述限位結構包括設置在所述調整桿的外周壁上的第一限位件，所述第一限位件位于所述第一通孔的上方，且所述第一限位件能止擋在所述第一通孔的上端面。

4.根據權利要求3所述的遠程等離子源的調整裝置，其特征在于，所述限位結構還包括設置在所述調整桿的外周壁上的第二限位件，所述第二限位件位于所述第一通孔的下方，且所述第二限位件能止擋在所述第一通孔的下端面。

5.根據權利要求3所述的遠程等離子源的調整裝置，其特征在于，所述固定支架包括支架本體，在所述支架本體的側壁上設置有凸臺，在所述凸臺中設置有所述第一通孔，且在所述凸臺的側壁上設置有與所述第一通孔連通的開口槽，用以使所述調整桿能夠從所述開口槽安裝至所述第一通孔中。

6.根據權利要求2所述的遠程等離子源的調整裝置，其特征在于，所述連接件包括連接板和連接塊，所述連接板與所述遠程等離子源的底部連接；所述連接板與所述調整桿對應的位置設置所述連接塊，所述連接塊設置有螺紋孔，所述調整桿上設置有與所述螺紋孔相配合的外螺紋。

7.根據權利要求2所述的遠程等離子源的調整裝置，其特征在于，所述調整桿與所述連接件螺紋配合的長度大于或者等于30mm。

8.根據權利要求6所述的遠程等離子源的調整裝置，其特征在于，所述固定支架的頂部與所述連接板的底部之間具有預設間隙。

9.根據權利要求1所述的遠程等離子源的調整裝置，其特征在于，每個調整組件包括調整桿和連接件，其中，

所述連接件與所述遠程等離子源連接；

所述調整桿為豎直設置的伸縮桿，所述伸縮桿的上端與所述連接件連接，所述伸縮桿的下端與所述固定支架連接；所述伸縮桿由驅動裝置帶動伸縮。

10.一種遠程等離子源的清洗系統，用于將清洗氣體通入反應腔室中，其特征在于，包括遠程等離子源和依次連接的多段進氣管，依次連接的多段進氣管分別與所述遠程等離子源和所述反應腔室連接，相鄰的所述進氣管通過法蘭連接，且相鄰的所述進氣管之間設置有密封圈，還包括如權利要求1-9任意一項所述的遠程等離子源的調整裝置。