[發(fā)明專利]一種斷層多邊形繪制圖自動(dòng)校正方法及裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811069856.9 | 申請(qǐng)日: | 2018-09-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109325987B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-02-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李昂;張麗艷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)地質(zhì)調(diào)查局沈陽(yáng)地質(zhì)調(diào)查中心 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G06T11/20 | 分類(lèi)號(hào): | G06T11/20 |
| 代理公司: | 北京華清迪源知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11577 | 代理人: | 朱紅濤;馮建基 |
| 地址: | 110000 遼寧*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 斷層 多邊形 繪制 自動(dòng) 校正 方法 裝置 | ||
1.一種斷層多邊形繪制圖自動(dòng)校正方法,其特征在于,所述方法包括:
從原始斷層多邊形繪制圖中獲取預(yù)設(shè)置的多條主測(cè)線中每一條主測(cè)線與斷層多邊形之間的第一交點(diǎn)坐標(biāo);以及預(yù)設(shè)置的聯(lián)絡(luò)測(cè)線中每一條聯(lián)絡(luò)測(cè)線與斷層多邊形之間的第二交點(diǎn)坐標(biāo),所述原始斷層多邊形繪制圖為通過(guò)機(jī)器自動(dòng)識(shí)別繪制的斷層多邊形繪制圖;
分別確定所述原始斷層多邊形繪制圖中的兩個(gè)端點(diǎn)對(duì)應(yīng)的平面坐標(biāo);
根據(jù)所述兩個(gè)端點(diǎn)對(duì)應(yīng)的平面坐標(biāo),獲取與所述兩個(gè)端點(diǎn)連接后的第一直線對(duì)應(yīng)的預(yù)設(shè)數(shù)量的法線;
確定相鄰第一交點(diǎn)和第二交點(diǎn)之間的第二直線與與所述第二直線相交的法線之間的第三交點(diǎn);
當(dāng)確定所述第三交點(diǎn)位于所述相鄰的第一交點(diǎn)和所述第二交點(diǎn)之間時(shí),保存所述第三交點(diǎn),否則遺棄所述第三交點(diǎn);
統(tǒng)計(jì)所有的第三交點(diǎn),并獲取所述第三交點(diǎn)的坐標(biāo);
將所述第三交點(diǎn)的坐標(biāo)劃分為對(duì)稱的上盤(pán)點(diǎn)坐標(biāo)和下盤(pán)點(diǎn)坐標(biāo);
分別確定所述對(duì)稱的上盤(pán)點(diǎn)坐標(biāo)和下盤(pán)點(diǎn)坐標(biāo)之間的間距,并獲取最大間距;
以所述最大間距對(duì)應(yīng)的上盤(pán)點(diǎn)坐標(biāo)和下盤(pán)點(diǎn)坐標(biāo)為中心對(duì)稱樣點(diǎn)對(duì),以所述最大間距為基準(zhǔn)間距,按照預(yù)設(shè)規(guī)則降低所述基準(zhǔn)間距后,作為除所述中心對(duì)稱樣點(diǎn)對(duì)之外的對(duì)稱樣點(diǎn)對(duì)之間的間距,調(diào)整所述除所述中心對(duì)稱樣點(diǎn)對(duì)之外的對(duì)稱樣點(diǎn)對(duì)的縱坐標(biāo),獲取第一斷層多邊形繪制圖,其中,遠(yuǎn)離所述中心對(duì)稱樣點(diǎn)對(duì)的間距逐漸減小,直至為零,所述對(duì)稱樣點(diǎn)對(duì)即為對(duì)稱的上盤(pán)點(diǎn)和下盤(pán)點(diǎn)共同組成的樣點(diǎn)對(duì);
采用重采樣方法加密所述第一斷層多邊形繪制圖中的樣點(diǎn);
對(duì)加密后的樣點(diǎn)進(jìn)行平滑處理,獲取最終的斷層多邊形繪制圖。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)所述兩個(gè)端點(diǎn)對(duì)應(yīng)的平面坐標(biāo),獲取與所述兩個(gè)端點(diǎn)連接后的第一直線對(duì)應(yīng)的預(yù)設(shè)數(shù)量的法線,具體包括:
根據(jù)所述兩個(gè)端點(diǎn)對(duì)應(yīng)的平面坐標(biāo),確定所述兩個(gè)端點(diǎn)連接后的第一直線;
以所述第一直線上的預(yù)設(shè)點(diǎn)數(shù)中每一個(gè)點(diǎn)為基準(zhǔn),獲取與所述第一直線對(duì)應(yīng)的預(yù)設(shè)數(shù)量的法線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述預(yù)設(shè)數(shù)量的法線中相鄰兩條法線之間的間距相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,所述預(yù)設(shè)規(guī)則為:
以所述最大間距為基準(zhǔn)間距,減少n乘以i的數(shù)值后,作為所述中心對(duì)稱樣點(diǎn)對(duì)左右兩側(cè)第n對(duì)對(duì)稱樣點(diǎn)對(duì)的間距,n為大于或者等于1且小于或者等于所有對(duì)稱樣點(diǎn)對(duì)總個(gè)數(shù)的二分之一的正整數(shù),n的取值依次遞增,且遞增間距為1;i為最大間距和n之間的比值,且調(diào)整時(shí)保證每一對(duì)對(duì)稱樣點(diǎn)對(duì)縱向中心不變。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,所述對(duì)加密后的采樣點(diǎn)進(jìn)行平滑處理,獲取最終的斷層多邊形繪制圖,具體包括:
利用中值濾波或者均值濾波對(duì)所述樣點(diǎn)進(jìn)行平滑處理,獲取最終的斷層多邊形繪制圖。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)地質(zhì)調(diào)查局沈陽(yáng)地質(zhì)調(diào)查中心,未經(jīng)中國(guó)地質(zhì)調(diào)查局沈陽(yáng)地質(zhì)調(diào)查中心許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811069856.9/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





