[發(fā)明專利]用于增材制造物體的系統(tǒng)和方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811059197.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-09-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109501239A | 公開(公告)日: | 2019-03-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·S·威倫斯基;M·P·科扎爾;S·F·哈里森;N·S·埃文斯;F·托雷斯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 波音公司 |
| 主分類號(hào): | B29C64/118 | 分類號(hào): | B29C64/118;B29C64/314;B29C64/321;B29C64/393;B29C64/205;B33Y30/00;B33Y40/00;B33Y50/02;B29L31/30 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245 | 代理人: | 張全信;董志勇 |
| 地址: | 美國(guó)伊*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 原料線 電磁輻射 光學(xué)調(diào)節(jié)器 樹脂 供應(yīng)裝置 固化機(jī)構(gòu) 外部表面 細(xì)長(zhǎng)纖維 導(dǎo)向器 遞送 細(xì)絲 沉積 制造 印刷 可移動(dòng) 入射 照射 散布 題目 分配 覆蓋 | ||
1.用于增材制造物體(136)的系統(tǒng)(700),所述系統(tǒng)(700)包括:
原料線供應(yīng)裝置(702),其被配置為分配原料線(100),所述原料線(100)具有原料線長(zhǎng)度和外部表面(180),其限定所述原料線(100)的內(nèi)部體積(182),其中所述原料線(100)包括:
細(xì)長(zhǎng)細(xì)絲(104),其沿著所述原料線長(zhǎng)度的至少一部分延伸;
樹脂(124),其覆蓋所述細(xì)長(zhǎng)細(xì)絲(104);和
至少一個(gè)光學(xué)調(diào)節(jié)器(123),其具有由所述樹脂(124)覆蓋的外表面(184),并且其中所述至少一個(gè)光學(xué)調(diào)節(jié)器(123)散布在所述細(xì)長(zhǎng)細(xì)絲(104)之間;
相對(duì)于表面(708)可移動(dòng)的遞送導(dǎo)向器(704),其被配置為接收來自所述原料線供應(yīng)裝置(702)的所述原料線(100)并且沿著印刷路徑(705)沉積所述原料線(100);和
固化機(jī)構(gòu)(706),其被配置為在所述原料線(100)沿著所述印刷路徑(705)由所述遞送導(dǎo)向器(704)沉積之后在所述原料線(100)的所述外部表面(180)處定向電磁輻射(118),使得當(dāng)所述電磁輻射(118)撞擊所述至少一個(gè)光學(xué)調(diào)節(jié)器(123)的所述外表面(184)時(shí),所述至少一個(gè)光學(xué)調(diào)節(jié)器(123)使得所述電磁輻射(118)照射所述原料線(100)的內(nèi)部體積(182)中的樹脂(124),至少部分地由于所述細(xì)長(zhǎng)細(xì)絲(104),所述樹脂(124)不可直接地受入射在所述原料線(100)的所述外部表面(180)上的所述電磁輻射(118)影響。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)(700),其中所述細(xì)長(zhǎng)細(xì)絲(104)對(duì)所述電磁輻射(118)是不透明的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的系統(tǒng)(700),其中:
所述至少一個(gè)光學(xué)調(diào)節(jié)器(123)包括沿著所述原料線長(zhǎng)度的全部延伸的至少一個(gè)全長(zhǎng)光波導(dǎo)管(102);
所述至少一個(gè)全長(zhǎng)光波導(dǎo)管(102)包括全長(zhǎng)光學(xué)核心(110);
所述全長(zhǎng)光學(xué)核心(110)包括第一全長(zhǎng)光學(xué)核心端面(112)、與所述第一全長(zhǎng)光學(xué)核心端面(112)相對(duì)的第二全長(zhǎng)光學(xué)核心端面(114)和全長(zhǎng)外周表面(116),其在所述第一全長(zhǎng)光學(xué)核心端面(112)和所述第二全長(zhǎng)光學(xué)核心端面(114)之間延伸;和
所述至少一個(gè)全長(zhǎng)光波導(dǎo)管(102)被配置使得當(dāng)所述電磁輻射(118)經(jīng)由所述第一全長(zhǎng)光學(xué)核心端面(112)、所述第二全長(zhǎng)光學(xué)核心端面(114)或所述全長(zhǎng)外周表面(116)的至少一個(gè)進(jìn)入所述全長(zhǎng)光學(xué)核心(110)時(shí),所述電磁輻射(118)的至少一部分經(jīng)由所述全長(zhǎng)外周表面(116)離開所述全長(zhǎng)光學(xué)核心(110)以照射所述原料線(100)的內(nèi)部體積(182)中的樹脂(124),至少部分地由于所述細(xì)長(zhǎng)細(xì)絲(104),所述樹脂(124)不可直接地受入射在所述原料線(100)的所述外部表面(180)上的所述電磁輻射(118)影響。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于波音公司,未經(jīng)波音公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811059197.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





