[發明專利]一種可誘生負離子釉料、瓷磚及瓷磚的制備工藝

有效

• 申請號: 201811054157.7
• 申請日: 2018-09-11
• 公開（公告）號: CN108706877B
• 公開（公告）日: 2019-01-04
• 發明（設計）人: 祁明;鐘保民
• 申請（專利權）人: 佛山市東鵬陶瓷有限公司
• 主分類號: C03C8/00
• 分類號: C03C8/00;C04B41/89;B28B11/00;B28B11/04
• 代理公司: 佛山市禾才知識產權代理有限公司 44379
• 代理人: 梁永健;單蘊倩

1.一種可誘生負離子的釉料，其特征在于，包括底釉和面釉，所述底釉包含以質量百分比計的鈉輝石8 ~ 9%、螢石6~ 7%、重晶石3~ 4%，余量為基礎底釉料；所述面釉包含以質量百分比計的鈦礦0.5 ~ 1%、α-Al₂O₃ 8~ 13%和鈦白粉10 ~ 15%，余量為基礎面釉料；

所述鈉輝石包含以質量百分比計的3~6%二氧化釷、2~4%二氧化鈰和2~3%二氧化鈦；所述螢石包含以質量百分比計的3~6%二氧化釷、2~4%二氧化鈰和2~3%二氧化鈦。

2.根據權利要求1所述的可誘生負離子的釉料，其特征在于，所述基礎底釉料包含占底釉總量質量百分比的鈉長石粉10 ~ 25%、高鋁鉀砂10 ~ 15%、鋯英砂10 ~ 25%、球粘土15 ~20%、鋰輝石粉12 ~ 18%、石英0 ~ 5%、氧化鎂3~ 5%和氧化鋅5 ~ 10%。

3.根據權利要求1所述的可誘生負離子的釉料，其特征在于，所述基礎面釉料包含占面釉總量質量百分比的燒氧化鋅5 ~ 10%、鈉長石粉15 ~ 30%、高鋁鉀砂8 ~ 10%、鋯英砂15 ~25%、球粘土7 ~ 15%、鋰輝石粉8~ 15%、石英0 ~ 5%和氧化鎂3~ 5%。

4.根據權利要求1所述的可誘生負離子的釉料，其特征在于，所述底釉和面釉的燒成溫度為1080~1200℃。

5.具有權利要求1~4任一項所述的可誘生負離子的釉料的瓷磚，其特征在于，包括由下至上依次設置的坯體、底釉層和面釉層，所述底釉層由所述底釉形成，所述面釉層由所述面釉形成。

6.根據權利要求5所述的瓷磚，其特征在于，所述面釉層上通過噴墨滲透工藝、噴墨打印、滾筒印花和/或網版印花的方式設置有裝飾層。

7.一種權利要求5所述的瓷磚的制備工藝，其特征在于，包括以下步驟：

制備底釉漿：將所述底釉的原料按配比混入球磨機進行濕法球磨獲得底釉漿；

制備面釉漿：將所述面釉的原料按配比混入球磨機中進行濕法球磨，獲得面釉漿；

制備磚坯：采用現有的坯體原料制成磚坯；

施釉：在磚坯的表面施底釉漿，之后在底釉漿上布施面釉漿；

入窯燒成，燒成溫度為1080～1200℃。

8.根據權利要求7所述的制備工藝，其特征在于， 還包括表面裝飾步驟：在具有面釉漿的磚坯上通過噴墨滲透工藝、噴墨打印、滾筒印花和/或網版印花的方式設置裝飾層。

9.根據權利要求7所述的制備工藝，其特征在于，所述底釉漿細度為：325目篩余0.8~1.2，所述底釉漿比重1.88~1.99、流速35~40 s。

10.根據權利要求7所述的制備工藝，其特征在于，所述面釉漿細度為：325目篩余0.8~1.2，所述面釉漿比重1.88~1.99、流速35~40 s。