[發(fā)明專利]電漿炬激發(fā)裝置的水分子供應(yīng)裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811045720.4
• 申請(qǐng)日: 2018-09-07
• 公開（公告）號(hào): CN110836380A
• 公開（公告）日: 2020-02-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馮五裕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東服企業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): F23G7/06
• 分類號(hào): F23G7/06;F23L7/00
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11139
• 代理人: 孫皓晨;李林

本發(fā)明提供一種電漿炬激發(fā)裝置的水分子供應(yīng)裝置，包括一火焰出口端形成于電漿炬激發(fā)裝置的底端，該電漿炬激發(fā)裝置內(nèi)具有一水腔室，該火焰出口端固置有一罩體，該罩體具有一提供電漿炬通過(guò)的火焰通道，且該罩體內(nèi)并開設(shè)有多個(gè)圍繞于火焰通道周圍的導(dǎo)水孔，所述多個(gè)導(dǎo)水孔各自連通于該水腔室與該火焰通道之間，用以供應(yīng)水分子由該火焰通道噴出，令水分子接觸該火焰通道內(nèi)的電漿炬火焰，以利捕捉F₂氣體成為較容易接受水洗過(guò)濾的氟化氫(HF)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制程廢氣以電漿炬(Plasma Torch)進(jìn)行燒結(jié)反應(yīng)后的生成物的捕捉技術(shù)，特別是有關(guān)于一種電漿炬激發(fā)裝置的水分子供應(yīng)裝置。

背景技術(shù)

周知，半導(dǎo)體制程所生成的廢氣包含有SiH₄、H₂SiCl₂(DCS)、WF₆、BF₃、NF₃、SF₆、CF₄、C₂F₆C₃F₈等，其中NF₃、SF₆、CF₄、C₂F₆及C₃F₈等歸屬有害的氟化物(Per FluorinatedCompounds,PFC)，倘若排放至大氣中，會(huì)造成環(huán)境污染，甚至于溫室效應(yīng)，對(duì)地球暖化造成嚴(yán)重的影響，因此必須將所述的這些廢氣處理成無(wú)害的氣體。

坊間所泛用的半導(dǎo)體廢氣處理設(shè)備，就是用于將上述廢氣處理成無(wú)害的氣體。一般而言，已知的半導(dǎo)體廢氣處理設(shè)備都設(shè)有廢氣的反應(yīng)腔室，半導(dǎo)體制程所生成的廢氣導(dǎo)入反應(yīng)腔室內(nèi)，并且在反應(yīng)腔室內(nèi)以燃?xì)饣鹧妗岚艋螂姖{炬火焰所提供的高溫，對(duì)所述廢氣進(jìn)行燒結(jié)(即燒結(jié)反應(yīng))；特別的，通過(guò)高溫的燒結(jié)反應(yīng)，可將例如是有害的NF₃、SF₆、CF₄、C₂F₆及C₃F₈等氟化物氣體分解成無(wú)害的氟離子(F-)，進(jìn)而達(dá)到凈化廢氣的目的。

上述的電漿炬(Plasma torch)是一種能夠生成一束定向電漿噴流的高溫火焰，電漿炬火焰的溫度能夠高達(dá)3000℃～10000℃，因此常見用于材料加工、熔接、廢物處理、陶瓷切割、金屬切割及半導(dǎo)體廢氣燒結(jié)等用途上。

且知，所述廢氣經(jīng)過(guò)燃?xì)饣鹧妗岚艋螂姖{炬火焰高溫?zé)Y(jié)處理之后，會(huì)于反應(yīng)腔室內(nèi)生成F2氣體及其他生成物，這些生成物通常需經(jīng)后段的水洗程序(scrubber)的捕捉及刷洗，使上述生成物能沉積于水中而被過(guò)濾篩離。

但是，由于F2氣體的分子極小，在已知半導(dǎo)體廢氣處理設(shè)備中所用的水洗程序，其提供的水柱或水滴并無(wú)法充分捕捉上述的F₂氣體，造成半導(dǎo)體制程廢氣的凈化效率不彰，因此有業(yè)者刻意供水(H₂O)進(jìn)入該反應(yīng)腔室內(nèi)，并憑借上述燃?xì)饣鹧妗岚艋螂姖{炬火焰的高溫將水(H₂O)所含帶的水分子解離為氫離子(H+)與氫氧離子(OH-)，利用其中的氫離子(H+)與F₂氣體結(jié)合而形成易溶于水中的氟化氫(HF)，以利于后段水洗程序的捕捉及刷洗。然而，現(xiàn)有半導(dǎo)體廢氣處理設(shè)備的反應(yīng)腔室中，供應(yīng)水分子與上述燃?xì)饣鹧妗岚艋螂姖{炬火焰相互接觸的腔室暨空間結(jié)構(gòu)并不理想，乃至于水分子難以瞬間捕捉電漿炬火焰燒結(jié)廢氣后生成F₂氣體成為氟化氫(HF)，甚而影響廢氣中有害物質(zhì)的凈化效率，故亟待加以改善。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明的主要目的在于改善傳統(tǒng)電漿炬火焰周圍欠缺供應(yīng)充足水分子而影響F₂氣體的捕捉效率的問(wèn)題，進(jìn)而提供一種電漿炬激發(fā)裝置的水分子供應(yīng)裝置。