[發明專利]基于器官芯片的低氧模擬人早期胎盤發育微環境的方法有效
| 申請號: | 201811040903.7 | 申請日: | 2018-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN110885780B | 公開(公告)日: | 2023-02-21 |
| 發明(設計)人: | 秦建華;王慧;朱玉娟 | 申請(專利權)人: | 中國科學院大連化學物理研究所 |
| 主分類號: | C12N5/073 | 分類號: | C12N5/073 |
| 代理公司: | 沈陽晨創科技專利代理有限責任公司 21001 | 代理人: | 鄭虹 |
| 地址: | 116023 *** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 器官 芯片 低氧 模擬 早期 胎盤 發育 環境 方法 | ||
1.一種基于器官芯片的低氧模擬人早期胎盤發育微環境的方法,其特征在于:采用了一種三維基質材料,即人工基底膜Matrigel,按照以下步驟進行:
(1)孔板修飾與人多能干細胞接種培養
先用人工基底膜修飾6孔板并放于4°冰箱4小時-7天,之后放入37°培養箱20-50min,用細胞消化液室溫消化;用細胞刮板刮下細胞團,600r離心1-3min,細胞用含Y27632的mTeSR1培養基重懸使細胞為小團塊后接種于已修飾好的6孔板,37°培養1-4h后將培養液更換為不含Y27632的mTeSR1培養基培養;
(2)細胞消化并接種于三維基質中
待hPSC細胞生長為70%-90%后用消化液室溫消化,用細胞刮板刮下細胞團,離心600r1-3min,將上清液體吸走,用含BMP4的誘導hPSC分化的培養基將matrigel稀釋到一定比例后將細胞重懸得到合適的接種密度并接種,37°培養箱放置20-40min使懸有細胞的matrigel固化,之后更換為含BMP4的誘導hPSC分化的培養基;
(3)氧氣濃度下早期胎盤發育模型的建立
接以上步驟(2)每天更換培養基,培養基仍為步驟(2)中含BMP4的誘導hPSC分化的培養基,不同氧氣濃度模型建立若干天;
(4)細胞形態及功能表征
采用常規免疫熒光染色法檢測E-cadherin、F-actin、HIF-1a的表達,采用實時PCR法檢測HIF通路相關的基因表達; 步驟(1)所述人工基底膜修飾6孔板具體為:將人工基底膜稀釋500-1000倍,每孔1.5ml稀釋液,放于4°冰箱4小時-7天;
所述含Y27632的mTeSR1培養基中,Y27632的濃度范圍為1-100mM;
步驟(2)所述matrigel稀釋具體為培養基:matrigel的體積比為為0-3:1,細胞接種密度為1×104-1×1010cells/ml;
步驟(2)所述含BMP4的誘導hPSC分化的培養基成分為:體積濃度96%的DMED/F12、體積濃度1%的雙抗、體積濃度1%的谷氨酰胺、體積濃度1%的非必須氨基酸(MEMNEAA)、體積濃度1%的ITS、100ng/ml的肝素、10ng/ml的BMP4,由此配置的每50ml培養基中添加1gBSA,溶解后即為含BMP4的誘導hPSC分化的培養基;
步驟(3)所述氧氣濃度范圍為2%-21%,模型建立時間為3-15天。
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