[發明專利]目視光學系統的成像質量測試方法、成像質量測試裝置和電子設備

有效

• 申請號: 201811038019.X
• 申請日: 2018-09-06
• 公開（公告）號: CN110879131B
• 公開（公告）日: 2021-10-01
• 發明（設計）人: 王川川;陳遠;胡增新
• 申請（專利權）人: 舜宇光學（浙江）研究院有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 寧波理文知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 33244
• 代理人: 羅京;孟湘明

1.一種目視光學系統的成像質量測試方法，其特征在于，包括：

提供一測試圖案單元在所述目視光學系統中的測試圖像，其中，所述測試圖案單元的測試圖案包括至少一非紋理區域和至少一紋理區域，并且所述至少一非紋理區域與所述至少一紋理區域相間隔地設置；

對所述測試圖像進行處理，以獲得所述測試圖像的二值化模板；

基于所述二值化模板，提取所述測試圖像中的所述至少一紋理區域和所述至少一非紋理區域；

在第一線程中，以第一幾何光學模型處理所述測試圖像中的所述至少一紋理區域和所述二值化模板中對應所述至少一紋理區域的圖像區域，以獲得所述目視光學系統的第一成像質量參數；以及

在第二線程中，以第二幾何光學模型處理所述測試圖像中的所述至少一非紋理區域和所述二值化模板中對應所述至少一非紋理區域的圖像區域，以獲得所述目視光學系統的第二成像質量參數；

其中，對所述測試圖像進行處理，以獲得所述測試圖像的二值化模板，包括：

對所述測試圖像進行灰度處理，以獲得所述測試圖像的灰度圖像；

以第一閾值對所述灰度圖像進行二值化處理，以獲得第一二值化模板；

以第二閾值對所述灰度圖像進行二值化處理，以獲得第二二值化模板；以及

以評價函數對所述第一二值化模板和所述第二二值化模板進行處理，以確定具有最小評價函數值的二值化模板為所述測試圖像的二值化模板。

2.如權利要求1所述的成像質量測試方法，其中，所述第一線程和所述第二線程被并行地執行。

3.如權利要求2所述的成像質量測試方法，其中，以評價函數對所述第一二值化模板和所述第二二值化模板進行處理，以確定具有最小評價函數值的二值化模板為所述測試圖像的二值化模板，包括：

獲得所述第一二值化模板的每一相鄰邊緣的直線度；

指定所述第一二值化模板的每一相鄰邊緣的直線度中最大值為所述第一二值化模板的第一直線誤差；

獲得所述第二二值化模板的每一相鄰邊緣的直線度；

指定所述第二二值化模板的每一相鄰邊緣的直線度中最大值為所述第二二值化模板的第二直線誤差；以及

選擇所述第一直線誤差和所述第二直線誤差中誤差較小者對應的二值化模板為所述測試圖像的二值化模板。

4.如權利要求3所述的成像質量測試方法，其中，在對所述測試圖像進行灰度處理，以獲得所述測試圖像的灰度圖像之前，包括：以第一濾波處理方法對所述測試圖像進行處理以消除所述測試圖像中的局部異常值；以及，在以評價函數對所述第一二值化模板和所述第二二值化模板進行評估，以確定具有最小評價函數值的二值化模板為所述測試圖像的二值化模板之前，還包括:以第二濾波處理方法對所述第一二值化模板和所述第二二值化模板進行處理，以消除所述第一二值化模板和所述第二二值化模板中的空洞和細微連接。

5.如權利要求4所述的成像質量測試方法，其中，所述第一濾波處理方法為中值濾波方法，以及，所述第二濾波處理方法為形態學濾波方法。

6.如權利要求1至5任一所述的成像質量測試方法，其中，所述第一成像質量參數為選自由調制傳遞函數曲線、分辨率和對比度所組成的群組中的任意一種或幾種的組合。

7.如權利要求6所述的成像質量測試方法，其中，所述第二成像質量參數為選自由視場角、畸變、場曲、亮度、色度、亮度均勻性和色度均勻性所組成的群組中的任意一種或幾種的組合。