[發明專利]具有類柱狀晶的鋯酸釓薄膜及其制備方法有效
| 申請號: | 201811037999.1 | 申請日: | 2018-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN109023300B | 公開(公告)日: | 2020-07-17 |
| 發明(設計)人: | 劉斌;朱昌華;王多金;楊光;陳宏飛;高彥峰 | 申請(專利權)人: | 上海大學 |
| 主分類號: | C23C16/40 | 分類號: | C23C16/40;C23C16/448;C23C16/455;C23C16/48 |
| 代理公司: | 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;鄭優麗 |
| 地址: | 200444*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 柱狀 鋯酸釓 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種鋯酸釓薄膜的制備方法,其特征在于,所述鋯酸釓薄膜的形貌為類柱狀晶,所述鋯酸釓薄膜中釓與鋯原子比為(0.19~1.72):1;
所述的鋯酸釓薄膜的制備方法包括:
(1)分別將釓的有機鹽和鋯的有機鹽加熱至250~300℃和320~380℃,得到前驅體氣體a和前驅體氣體b,所述釓的有機鹽為:2、2、6、6四甲基3、5庚二酮釓和/或乙酰丙酮釓;所述鋯的有機鹽為:2、2、6、6四甲基3、5庚二酮鋯和/或乙酰丙酮鋯;
(2)通入第一載氣與前驅體氣體a形成混合氣體A,通入第二載氣與前驅體氣體b形成混合氣體B;
(3)再將混合氣體A和混合氣體B混合后再與反應氣體混合,得到混合氣體C;
(4)將置于反應腔體內的反應基片升溫至700~1000℃并進行激光輻照,然后將混合氣體C通過噴頭噴向反應基片開始反應10~20分鐘,得到所述鋯酸釓薄膜。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述鋯酸釓薄膜的熱導率為0.92~0.96 W/(m?K)。
3.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述釓的有機鹽和鋯的有機鹽的摩爾比為(0.2~1.4):1。
4.根據權利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述釓的有機鹽和鋯的有機鹽的摩爾比為(0.5~1.4):1。
5.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述加熱的升溫速率為10~15℃/分鐘。
6.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述第一載氣為Ar氣,流量為0~50ml/分鐘;所述第二載氣為Ar氣,流量為10~50 ml/分鐘。
7.根據權利要求6所述的制備方法,其特征在于,所述混合氣體A和混合氣體B的總流量為40~80ml/分鐘。
8.根據權利要求7所述的制備方法,其特征在于,所述混合氣體A和混合氣體B的總流量為60ml/分鐘。
9.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述反應氣體為O2,流量為160~190ml/分鐘。
10.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述激光輻照的功率為0~160 W/cm2;所述反應腔體的總壓為700~1000 Pa。
11.根據權利要求10所述的制備方法,其特征在于,所述激光輻照的功率為40~120 W/cm2。
12.根據權利要求1-11中任一項所述的制備方法,其特征在于,所述噴頭和反應基片的距離為20~40 mm。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





