[發明專利]一種太陽能顯控鍍膜玻璃面板制備方法在審
| 申請號： | 201811031550.4 | 申請日： | 2018-09-05 |
| 公開（公告）號： | CN109052991A | 公開（公告）日： | 2018-12-21 |
| 發明（設計）人： | 陸志文 | 申請（專利權）人： | 蘇州市靈通玻璃制品有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/42 | 分類號： | C03C17/42;C09D123/12;C09D7/61;C09D1/00 |
| 代理公司： | 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215153 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鍍膜玻璃 晶體硅太陽能電池 太陽能玻璃 面板制備 太陽能 觸摸顯示面板 光電轉換效率 抗老化性能 紫外光 玻璃鍍膜 操作參數 生產環境 光轉換 減反射 透光率 高鐵 可用 家用電器 應用 調控 航空 | ||
【權利要求書】：
1.一種太陽能顯控鍍膜玻璃面板制備方法，其特征是，
1)OPVD鍍膜：玻璃面板依次采用溶劑超聲清洗，去離子水沖洗，氮氣吹干；在玻璃面板的背面以純度為99.995％的三甲基鋁為鋁源，氧氣為氧源，以氬氣為載氣，利用OPVD技術在玻璃面板上生長氧化鋁薄膜；
2)噴涂：在經鍍膜處理后的玻璃面板的正、反表面分別噴涂減反射、光電轉換組分涂料層，并把兩組分涂料層用電極引出線引出，作為正、負極，即完成玻璃面板的處理。
2.根據權利要求1所述的太陽能顯控鍍膜玻璃面板制備方法，其特征是，所用溶劑為丙酮或異丙醇。
3.根據權利要求1所述的太陽能顯控鍍膜玻璃面板制備方法，其特征是，氧化鋁薄膜的生長溫度為450-550度。
4.根據權利要求1所述的太陽能顯控鍍膜玻璃面板制備方法，其特征是，薄膜厚度為1微米。
5.根據權利要求1所述的太陽能顯控鍍膜玻璃面板制備方法，其特征是，所述減反射涂料層組成為：由納米二氧化硅與稀土化合物的硝酸鹽配合成的減反射層、含硼的硅晶體導電體、丙烯均聚物、光聚合催化劑、阻聚劑。
6.根據權利要求1所述的太陽能顯控鍍膜玻璃面板制備方法，其特征是，光電轉換涂料層的組成為：含磷的硅晶體導電體、光聚合催化劑、阻聚劑、添加劑。
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