[發(fā)明專利]用于蒸鍍的輔助裝置、方法及蒸鍍系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811023856.5
• 申請日: 2018-09-04
• 公開（公告）號: CN109234683B
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 金政澤;楊春梅
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司;綿陽京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54;C23C14/04
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 付生輝

1.一種蒸鍍輔助裝置，其特征在于，包括：

角度限制板，所述角度限制板包括分別位于蒸鍍噴嘴的兩側(cè)的第一本體部和第二本體部，所述第一本體部和所述第二本體部包括沿噴嘴的噴射方向設(shè)置并靠近所述蒸鍍噴嘴的第一端部和與所述第一端部相對設(shè)置的遠離所述蒸鍍噴嘴的第二端部；

檢測單元，檢測所述第一本體部和/或第二本體部的第二端部的端面上蒸鍍顆粒的累積高度是否超過預(yù)定閾值；以及

控制單元，若蒸鍍顆粒的累積高度超過預(yù)定閾值，則控制所述角度限度板移動；

所述蒸鍍輔助裝置還包括分別與第一本體部和第二本體部對應(yīng)的兩對轉(zhuǎn)動輥，每個本體部一端纏繞于其中一對轉(zhuǎn)動輥中的第一轉(zhuǎn)動輥，每個本體部另一端纏繞于其中一對轉(zhuǎn)動輥中的第二轉(zhuǎn)動輥，響應(yīng)于檢測到蒸鍍顆粒的累積高度超過預(yù)定閾值而從所述第一轉(zhuǎn)動輥移動到所述第二轉(zhuǎn)動輥；或

所述第一本體部和第二本體部進一步包括沿角度限制板長度方向相對設(shè)置的第三端部和第四端部，所述角度限制板進一步包括：

將所述第一本體部和第二本體部各自的第三端部連接在一起的第一彎折部和將所述第一本體部和第二本體部各自的第四端部連接在一起的第二彎折部，從而使得所述角度限制板構(gòu)成傳送帶結(jié)構(gòu)；

所述蒸鍍輔助裝置還包括與第一彎折部對應(yīng)的第一轉(zhuǎn)動輥和與第二彎折部對應(yīng)的第二轉(zhuǎn)動輥，響應(yīng)于檢測到蒸鍍顆粒的累積高度超過預(yù)定閾值而將所述角度限制板上的蒸鍍顆粒從所述第一轉(zhuǎn)動輥向所述第二轉(zhuǎn)動輥移動；或

所述第一本體部和第二本體部進一步包括沿角度限制板長度方向相對設(shè)置的第三端部和第四端部，

所述角度限制板進一步包括連接第一本體部和第二本體部各自的第三端部的連接部，所述第一本體部和第二本體部各自的第四端部之間形成開口；

所述蒸鍍輔助裝置還包括驅(qū)動單元，用于響應(yīng)于檢測到蒸鍍顆粒的累積高度超過預(yù)定閾值而驅(qū)動所述角度限制板整體平移，所述平移為遠離第四端方向的平移。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述檢測單元包括：

光發(fā)射單元和光接收單元，其中光發(fā)射單元向所述光接收單元發(fā)射平行于所述端面光線，所述光線與所述端面的距離為所述預(yù)定閾值，

若所述光接收單元不再接收到所述光線，則控制單元控制所述角度限度板移動。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述檢測單元包括：

圖像采集單元，用于采集所述端面處蒸鍍顆粒的圖像；

所述控制單元基于所述圖像確定所述累積高度是否超過預(yù)定閾值，若超過，則發(fā)送控制信號以使得所述角度限度板移動。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，

所述圖像采集單元采集所述端面處蒸鍍顆粒的高度圖像；

所述控制基于所述高度圖像確定所述累積高度是否超過預(yù)定閾值。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，

所述圖像采集單元采集所述端面處蒸鍍顆粒的景深圖像；

所述控制單元基于所述景深圖像確定所述累積高度是否超過預(yù)定閾值。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置包括：

確定單元，根據(jù)每個轉(zhuǎn)動輥的歷次轉(zhuǎn)動量確定該轉(zhuǎn)動量對應(yīng)的角度限制板纏繞在該轉(zhuǎn)動輥的厚度；

校準單元，根據(jù)角度限制板纏繞在該轉(zhuǎn)動輥的厚度，調(diào)整另一個轉(zhuǎn)動輥的位置，以使得所述角度限制板與所述噴嘴的噴射方向平行。

7.一種利用權(quán)利要求1所述的裝置處理累積蒸鍍顆粒的方法，其特征在于，包括：

檢測單元檢測所述第一本體部和/或第二本體部的第二端部的端面處蒸鍍顆粒的累積高度是否超過預(yù)定閾值；

若蒸鍍顆粒的累積高度超過預(yù)定閾值，則控制單元控制所述角度限度板移動。