[發(fā)明專利]一種冗余圖形添加方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811013506.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109101755A | 公開(公告)日: | 2018-12-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姜立維;魏芳;張旭升 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06F17/50 | 分類號(hào): | G06F17/50 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 冗余圖形 有效周長(zhǎng) 預(yù)設(shè) 器件可靠性 薄膜沉積 薄膜生長(zhǎng) 原始版圖 均勻性 沉積 晶片 薄膜 切割 生長(zhǎng) 保證 | ||
1.一種冗余圖形添加方法,其特征在于,所述冗余圖形添加方法,包括:
執(zhí)行步驟S1:將版圖按預(yù)設(shè)窗口SW大小進(jìn)行切割;
執(zhí)行步驟S2:計(jì)算各窗口內(nèi)原始版圖的圖形密度及有效周長(zhǎng);
執(zhí)行步驟S3:以添加冗余圖形后之冗余圖形添加窗口內(nèi)的有效周長(zhǎng)為目標(biāo),選取預(yù)設(shè)的冗余圖形之結(jié)構(gòu)形式進(jìn)行添加;
執(zhí)行步驟S4:以添加冗余圖形后之冗余圖形添加窗口內(nèi)的圖形密度為目標(biāo),對(duì)添加的冗余圖形進(jìn)行調(diào)整。
2.如權(quán)利要求1所述冗余圖形添加方法,其特征在于,所述有效周長(zhǎng)為位于所述冗余圖形添加窗口內(nèi)的圖形之周長(zhǎng)。
3.如權(quán)利要求1所述冗余圖形添加方法,其特征在于,所述冗余圖形之結(jié)構(gòu)為L(zhǎng)型冗余結(jié)構(gòu)圖形之結(jié)構(gòu)形式或者十字型冗余結(jié)構(gòu)圖形之結(jié)構(gòu)形式。
4.如權(quán)利要求3所述冗余圖形添加方法,其特征在于,所述冗余圖形之L型冗余結(jié)構(gòu)圖形或者十字型冗余結(jié)構(gòu)圖形在保證有效周長(zhǎng)不變時(shí)可改變面積。
5.如權(quán)利要求1所述冗余圖形添加方法,其特征在于,所述冗余圖形添加方法進(jìn)一步包括:
當(dāng)Den=DenT時(shí),添加冗余圖形后冗余圖形添加窗口的密度Den與密度目標(biāo)值DenT一致,不需要對(duì)添加的冗余圖形進(jìn)行調(diào)整。
6.如權(quán)利要求1所述冗余圖形添加方法,其特征在于,所述冗余圖形添加方法進(jìn)一步包括:
當(dāng)Den>DenT時(shí),添加冗余圖形后冗余圖形添加窗口的密度Den超出密度目標(biāo)值DenT,需要對(duì)添加的冗余圖形之面積進(jìn)行減少調(diào)整。
7.如權(quán)利要求6所述冗余圖形添加方法,其特征在于,在對(duì)添加的冗余圖形之面積進(jìn)行減少調(diào)整時(shí),減少后之邊長(zhǎng)a'不得小于允許的最小線端長(zhǎng)度Lendmin,所述調(diào)整后的冗余圖形線寬Lw'不得小于最小的允許線寬Lwmin。
8.如權(quán)利要求1所述冗余圖形添加方法,其特征在于,所述冗余圖形添加方法進(jìn)一步包括:
當(dāng)Den<DenT時(shí),添加冗余圖形后冗余圖形添加窗口的密度Den小于密度目標(biāo)值DenT,需要對(duì)添加的冗余圖形之面積進(jìn)行增大調(diào)整。
9.如權(quán)利要求8所述冗余圖形添加方法,其特征在于,在對(duì)添加的冗余圖形之面積進(jìn)行增大調(diào)整時(shí),增大后之邊長(zhǎng)a'不得大于允許的最大線端長(zhǎng)度Lendmax;所述調(diào)整后的冗余圖形線寬Lw'不得大于最大的允許線寬Lwmax。
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