[發(fā)明專利]掩模組裝體及掩模組裝體、顯示裝置的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811000466.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110241381B | 公開(公告)日: | 2023-04-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 安鼎鉉;李京任;金珉奭 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/04 | 分類號(hào): | C23C14/04;C23C14/24;H10K71/16 |
| 代理公司: | 北京鉦霖知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11722 | 代理人: | 李英艷;馮志云 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 模組 顯示裝置 制造 方法 | ||
本發(fā)明公開了掩模組裝體、掩模組裝體的制造方法及顯示裝置的制造方法。本發(fā)明的掩模組裝體包括:掩模框架;掩模板,以被拉伸的狀態(tài)配置于上述掩模框架,形成有至少一個(gè)開口部以使蒸鍍物質(zhì)通過(guò);阻隔部,以被拉伸的狀態(tài)配置于上述掩模板與上述掩??蚣苤g,用于確定上述掩模板的蒸鍍區(qū)域,上述阻隔部包括:主體部、以及從上述主體部突出的突出部,上述主體部的兩端中的至少一端在與上述主體部的長(zhǎng)度方向垂直的方向上的寬度與其他部分不同。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明實(shí)施例涉及裝置及方法,更詳細(xì)地,涉及掩模組裝體、掩模組裝體的制造方法及顯示裝置的制造方法。
背景技術(shù)
目前廣泛使用著基于移動(dòng)性的電子設(shè)備。作為移動(dòng)電子設(shè)備,除移動(dòng)電話等小型電子設(shè)備之外,最近廣泛使用平板電腦。
為了提供多種功能,上述移動(dòng)電子設(shè)備包括用于向用戶提供如圖像或影像等視覺信息的顯示裝置。最近,隨著用于驅(qū)動(dòng)顯示裝置的其他部件的小型化,顯示裝置在電子設(shè)備中占據(jù)的比重有逐漸增加的趨勢(shì),還開發(fā)出了在平坦的狀態(tài)下能夠彎曲成規(guī)定角度的結(jié)構(gòu)。
發(fā)明內(nèi)容
通常,在制造顯示裝置時(shí),需要將蒸鍍物質(zhì)準(zhǔn)確地蒸鍍到顯示區(qū)域。在這種情況下,需要將為了制造顯示裝置而使用的掩模組裝體制造成與設(shè)計(jì)值相同或最大限度地類似。本發(fā)明的實(shí)施例提供可精密地對(duì)蒸鍍物質(zhì)進(jìn)行蒸鍍的掩模組裝體、掩模組裝體的制造方法及顯示裝置的制造方法。
本發(fā)明一實(shí)施例的掩模組裝體包括:掩??蚣?;掩模板,以被拉伸的狀態(tài)配置于上述掩模框架,形成有至少一個(gè)開口部以使蒸鍍物質(zhì)通過(guò);阻隔部,以被拉伸的狀態(tài)配置于上述掩模板與上述掩模框架之間,用于確定上述掩模板的蒸鍍區(qū)域,上述阻隔部包括:主體部、以及從上述主體部突出的突出部,上述主體部的兩端中的至少一端在與上述主體部的長(zhǎng)度方向垂直的方向上的寬度與上述主體部的其他部分不同。
在本實(shí)施例中,上述主體部的兩端中的至少一端的寬度,隨著從上述主體部的中央部分朝向上述主體部的兩端中的至少一端側(cè)可以逐漸減小。
在本實(shí)施例中,上述阻隔部還可以包括配置于上述主體部的基準(zhǔn)線。
本發(fā)明另一實(shí)施例可包括:在掩??蚣苜N合阻隔部的步驟;在測(cè)定上述阻隔部是否發(fā)生變形之后,去除上述阻隔部的兩端中的至少一端的一部分的步驟;在上述阻隔部上配置掩模板,并在上述阻隔部貼合上述掩模板的步驟。
在本實(shí)施例中,上述阻隔部可包括:主體部、以及從上述主體部突出的突出部。
在本實(shí)施例中,去除上述阻隔部的兩端中的至少一端的一部分的步驟可以去除上述主體部的兩端中的至少一端的一部分
在本實(shí)施例中,一部分被去除的上述主體部的兩端中的至少一端在與上述主體部的長(zhǎng)度方向垂直的方向上的寬度可以與上述主體部的其他部分不同。
在本實(shí)施例中,一部分被去除的上述主體部的兩端中的至少一端的寬度,隨著從上述主體部的中央部分朝向上述主體部的兩端中的至少一端側(cè)可以逐漸減小。
在本實(shí)施例中,可根據(jù)上述阻隔部的基準(zhǔn)線的位置變化來(lái)判斷上述阻隔部是否發(fā)生了變形。
在本實(shí)施例中,還可包括將上述阻隔部拉伸的步驟。
在本實(shí)施例中,還可包括將上述掩模板拉伸的步驟。
在本實(shí)施例中,還可包括:在母材標(biāo)記上述阻隔部的步驟;以及切斷所標(biāo)記的上述阻隔部的步驟。
在本實(shí)施例中,還可包括在上述阻隔部標(biāo)記基準(zhǔn)線的步驟。
在本實(shí)施例中,還可包括將上述母材拉伸的步驟。
在本實(shí)施例中,還可包括切斷上述阻隔部及上述掩模板中的至少一部分的步驟。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
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