[發(fā)明專利]處理裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810996908.0 | 申請日: | 2018-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN110875209A | 公開(公告)日: | 2020-03-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鄒金成;申兵兵;王敬苗;劉香廷 | 申請(專利權(quán))人: | 東泰高科裝備科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 韓建偉;謝湘寧 |
| 地址: | 102200 北京市昌平*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 裝置 | ||
本發(fā)明提供了一種處理裝置,包括:載具,用于放置產(chǎn)品;浸泡機(jī)構(gòu),浸泡機(jī)構(gòu)能夠儲存液體,浸泡機(jī)構(gòu)用于浸泡產(chǎn)品;第一移動機(jī)構(gòu),可移動地設(shè)置,第一移動機(jī)構(gòu)具有將載具至少部分地放入浸泡機(jī)構(gòu)的第一工況以及將載具從浸泡機(jī)構(gòu)取出的第二工況;第二移動機(jī)構(gòu),可移動地設(shè)置在第一移動機(jī)構(gòu)上,第二移動機(jī)構(gòu)包括吸附機(jī)構(gòu),吸附機(jī)構(gòu)用于吸附和移動產(chǎn)品以將產(chǎn)品放入載具中。通過本發(fā)明提供的技術(shù)方案,可以自動將未完全分離的薄膜和晶片集中接收和處理,從而可以代替現(xiàn)有的人工處理的方式,提高處理效率,并且可以避免損傷薄膜。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種處理裝置。
背景技術(shù)
帶薄膜的晶片經(jīng)過蝕刻工藝后,薄膜和晶片靠表面張力結(jié)合,如果刻蝕工藝效果不好,薄膜和晶片進(jìn)行分離時不能完全分開,這時的薄膜和晶片的統(tǒng)稱為NG wafer。對于未完全分開的薄膜和晶片,需要進(jìn)行分揀與分離。目前該領(lǐng)域只是手動進(jìn)行處理NG wafer,該方式需要實時監(jiān)測并人工及時處理,人工處理效率較低,若處理不及時設(shè)備只能停產(chǎn),限制了設(shè)備的產(chǎn)能。并且,正常分離的薄膜能夠回收再利用,但人工處理容易損傷薄膜。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種處理裝置,以解決現(xiàn)有技術(shù)中處理刻蝕后未完全分離的薄膜和晶片時,效率低并且容易損傷薄膜的問題。
為了解決上述問題,本發(fā)明提供了一種處理裝置,包括:載具,用于放置產(chǎn)品;浸泡機(jī)構(gòu),浸泡機(jī)構(gòu)能夠儲存液體,浸泡機(jī)構(gòu)用于浸泡產(chǎn)品;第一移動機(jī)構(gòu),可移動地設(shè)置,第一移動機(jī)構(gòu)具有將載具至少部分地放入浸泡機(jī)構(gòu)的第一工況以及將載具從浸泡機(jī)構(gòu)取出的第二工況;第二移動機(jī)構(gòu),可移動地設(shè)置在第一移動機(jī)構(gòu)上,第二移動機(jī)構(gòu)包括吸附機(jī)構(gòu),吸附機(jī)構(gòu)用于吸附和移動產(chǎn)品以將產(chǎn)品放入載具中。
進(jìn)一步地,吸附機(jī)構(gòu)包括:吸盤,吸盤用于吸附和釋放產(chǎn)品;第三驅(qū)動部,吸盤設(shè)置在第三驅(qū)動部上,第三驅(qū)動部具有將吸盤移動到載具外部的第七工況以及將吸盤移動到載具內(nèi)部的第八工況。
進(jìn)一步地,吸盤內(nèi)具有多個吸氣孔,多個吸氣孔的進(jìn)氣口間隔設(shè)置在吸盤的下表面,多個吸氣孔用于形成負(fù)壓以吸附產(chǎn)品。
進(jìn)一步地,第三驅(qū)動部用于帶動吸盤豎直移動,載具包括:底板;側(cè)板,側(cè)板圍繞在底板的周緣以形成用于放置產(chǎn)品的容納腔,容納腔的上部具有入料口。
進(jìn)一步地,第二移動機(jī)構(gòu)為多個,第一移動機(jī)構(gòu)為一個,多個第二移動機(jī)構(gòu)并排設(shè)置在第一移動機(jī)構(gòu)上;或,第二移動機(jī)構(gòu)為多個,第一移動機(jī)構(gòu)為多個,多個第二移動機(jī)構(gòu)與多個第一移動機(jī)構(gòu)一一對應(yīng)設(shè)置。
進(jìn)一步地,第一移動機(jī)構(gòu)包括:支架,可移動地設(shè)置,第二移動機(jī)構(gòu)設(shè)置在支架上;第一托架,設(shè)置在支架上,第二移動機(jī)構(gòu)至少部分地位于第一托架的上方,第一托架用于承載載具。
進(jìn)一步地,第一移動機(jī)構(gòu)至少部分地位于浸泡機(jī)構(gòu)的上方,第一移動機(jī)構(gòu)還包括:第四驅(qū)動部,支架設(shè)置在第四驅(qū)動部上,第四驅(qū)動部用于帶動支架豎直移動。
進(jìn)一步地,第一托架包括間隔設(shè)置的兩個托臂,兩個托臂用于共同承載載具,第二移動機(jī)構(gòu)能夠?qū)a(chǎn)品放入第一托架上的載具中。
進(jìn)一步地,載具包括:底板;側(cè)板,側(cè)板圍繞在底板的邊沿以形成用于放置產(chǎn)品的容納腔;托板,設(shè)置在側(cè)板上,托板至少部分地凸出于側(cè)板的外表面,托板為兩個,兩個托板分別位于容納腔的兩側(cè),兩個托臂用于一一對應(yīng)承載兩個托板的下表面。
進(jìn)一步地,底板和/或側(cè)板上具有與容納腔連通的進(jìn)液孔,托臂和托板中的一個具有第一定位孔,托臂和托板中的另一個具有第一定位銷,第一定位銷能夠穿設(shè)到第一定位孔中以對載具進(jìn)行定位。
進(jìn)一步地,浸泡機(jī)構(gòu)包括:箱體,箱體的腔體用于儲存液體;隔板,隔板將箱體的腔體間隔為第一槽體和第二槽體,第一槽體中的液體能夠從隔板的上邊沿溢出到第二槽體中,第一槽體用于浸泡載具中的產(chǎn)品。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





