[發明專利]脫離控制方法和等離子體處理裝置有效
| 申請號: | 201810995793.3 | 申請日: | 2018-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN109427534B | 公開(公告)日: | 2021-06-11 |
| 發明(設計)人: | 佐佐木康晴;平井克典;佐佐木淳一 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32;H01L21/687 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 脫離 控制 方法 等離子體 處理 裝置 | ||
本發明的目的在于提供一種容易進行被處理體從靜電卡盤的脫離的脫離控制方法和等離子體處理裝置。使被靜電吸附于靜電卡盤的被處理體脫離的脫離控制方法具有以下工序:在利用支承機構升起所述被處理體的期間,一邊向靜電卡盤的電極施加規定的靜電電壓一邊使被處理體脫離。
技術領域
本發明涉及一種脫離控制方法和等離子體處理裝置。
背景技術
在對被靜電卡盤靜電吸附于載置臺的晶圓執行等離子體處理之后,利用支承銷升起晶圓來從載置臺剝離晶圓,并且將該晶圓從等離子體處理室搬出。此時,當在靜電卡盤的表面存在有殘余電荷時,由于殘余電荷而在靜電卡盤與晶圓之間產生吸附力,有時使晶圓的位置偏離或晶圓破裂而難以順暢地剝離晶圓。
因此,以往以來,在晶圓W的等離子體處理后,進行通過向卡盤電極施加與在等離子體處理時施加于卡盤電極的靜電電壓正負相反且大小相同的靜電電壓來對殘余電荷進行除電的處理。在對殘余電荷進行除電之后停止向卡盤電極施加靜電電壓,利用支承銷升起晶圓來剝離該晶圓(例如參照專利文獻1)。
例如,在專利文獻1的除電方法中,包括:求出靜電卡盤的表面的殘余電荷的量和殘余電荷的正負的極性,并且向卡盤電極施加相當于大小與殘余電荷的量相同且極性與所述正負的極性相反的電荷的靜電電壓的工序;一邊向卡盤電極施加基于傳熱氣體的壓力值的監視結果計算出的靜電電壓,一邊對處理室內的非活氣體進行排氣來進行減壓的工序;以及停止施加于卡盤電極的靜電電壓的施加,并且利用支承銷使被處理體從靜電卡盤脫離的工序。
專利文獻1:日本特開2013-149935號公報
發明內容
發明要解決的問題
然而,通過上述除電方法也同樣,有時在靜電卡盤的表面殘留有殘余電荷,在利用支承銷升起晶圓來將該晶圓剝離時發生晶圓破裂等而不能順暢地剝離。
針對上述課題,在一個方面中,本發明的目的在于容易地進行被處理體從靜電卡盤的脫離。
用于解決問題的方案
為了解決上述課題,根據一個方式,提供一種脫離控制方法,使被靜電吸附于靜電卡盤的被處理體脫離,脫離控制方法具有以下工序:在利用支承機構升起所述被處理體的期間,一邊向靜電卡盤的電極施加規定的靜電電壓一邊使被處理體脫離。
根據其它方式,提供一種等離子體處理裝置,具有:靜電卡盤,其靜電吸附被處理體;直流電源,其向靜電卡盤的電極施加靜電電壓;以及控制部,所述控制部進行控制,以使在利用支承機構升起所述被處理體的期間,一邊向靜電卡盤的電極施加規定的靜電電壓一邊使被處理體脫離。
發明的效果
根據一個方面,能夠容易地進行被處理體從靜電卡盤的脫離。
附圖說明
圖1是表示一個實施方式所涉及的等離子體處理裝置的結構的一例的圖。
圖2是表示以往的脫離控制處理的一例的流程圖。
圖3是與比較例進行比較來說明基于一個實施方式所涉及的脫離控制方法的殘余電荷的狀態的圖。
圖4是表示一個實施方式所涉及的脫離控制處理的一例的流程圖。
圖5是表示一個實施方式所涉及的存儲部中存儲的恢復制程的一例的圖。
圖6是表示一個實施方式所涉及的脫離控制處理中的、靜電電壓與支承銷的力矩的序列的一例的圖。
附圖標記說明
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