[發明專利]帶電粒子束裝置、用于帶電粒子束裝置的孔布置和用于操作帶電粒子束裝置的方法有效
| 申請號: | 201810989576.3 | 申請日: | 2018-08-28 |
| 公開(公告)號: | CN109427524B | 公開(公告)日: | 2021-12-28 |
| 發明(設計)人: | 于爾根·弗洛森 | 申請(專利權)人: | ICT集成電路測試股份有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/26 | 分類號: | H01J37/26;H01J37/28;H01J37/147 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國;吳啟超 |
| 地址: | 德國巴*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 帶電 粒子束 裝置 用于 布置 操作 方法 | ||
本公開內容提供一種帶電粒子束裝置(100)。帶電粒子束裝置(100)包括:帶電粒子源(20),經配置以發射帶電粒子束(14);聚光透鏡布置(110);孔布置(120),經配置以產生帶電粒子束(14)的兩個或更多個小束,其中孔布置(120)包括多個第一開口和與多個第一開口不同的多個第二開口;和多極布置(130),經配置以作用在兩個或更多個小束上。孔布置(120)經配置以使多個第一開口或多個第二開口與多極布置(130)對準。
技術領域
本公開內容的實施方式涉及一種帶電粒子束裝置、一種用于帶電粒子束裝置的孔布置和一種用于操作帶電粒子束裝置的方法。本公開內容的實施方式特別涉及電子束檢查(EBI)。
背景技術
帶電粒子束裝置在多個工業領域中具有許多功能,包括但不限于電子束檢查(EBI)、在制造期間對半導體器件的臨界尺寸(CD)測量、在制造期間對半導體器件的缺陷檢查(DR)、用于光刻的曝光系統、檢測裝置和測試系統。因此,對微米級和納米級的樣本的結構化、測試和檢查有高的需求。微米級和納米級的工藝控制、檢查或結構化可以用帶電粒子束(例如,電子束)來完成,帶電粒子束在帶電粒子束裝置(諸如電子顯微鏡)中產生并聚焦。由于短的波長,相較例如光子束來說,帶電粒子束提供優異的空間分辨率。
高通量電子束檢查(EBI)系統可以利用多束帶電粒子束裝置,諸如電子顯微鏡,多束帶電粒子束裝置能夠在帶電粒子束裝置的單個柱(column)內形成、聚焦和掃描多個一次帶電粒子束。可以由聚焦的一次帶電粒子束陣列掃描樣品,這又形成多個信號帶電粒子束。單獨信號帶電粒子束可以映射到檢測元件上。
在不同的操作模式中操作帶電粒子束裝置可能是有益的。從一種操作模式切換到另一種操作模式可以包括大量硬件變化和/或二次成像/檢測光學器件變化。硬件變化增加帶電粒子束裝置的停機時間。另外,硬件變化可能是麻煩的,并且僅可由高級技術人員完成。改變二次成像/檢測光學器件可能包括耗時的重新校準。
鑒于以上,克服本領域的至少一些問題的一種帶電粒子束裝置、一種用于帶電粒子束裝置的孔布置和一種用于操作帶電粒子束裝置的方法是有益的。本公開內容特別旨在提供一種具有多個操作模式的靈活的帶電粒子束裝置。
發明內容
鑒于以上,提供一種帶電粒子束裝置、一種用于帶電粒子束裝置的孔布置和一種用于操作帶電粒子束裝置的方法。本公開內容的另外的方面、益處和特征從權利要求書、說明書和附圖顯而易見。
根據本公開內容的方面,提供一種帶電粒子束裝置。帶電粒子束裝置包括:帶電粒子源,經配置以發射帶電粒子束;一個或多個透鏡的聚光透鏡布置;孔布置,經配置以產生帶電粒子束的兩個或更多個小束,其中孔布置包括多個第一開口和與多個第一開口不同的多個第二開口;和多極布置,經配置以作用在兩個或更多個小束上。孔布置經配置以使多個第一開口或多個第二開口與多極布置對準。
根據本公開內容的另一方面,提供一種用于帶電粒子束裝置的孔布置。孔布置包括:第一孔組件和第二孔組件,第一孔組件具有多個第一開口,第二孔組件具有多個第二開口,其中多個第一開口的直徑不同于多個第二開口的直徑;和致動器組件,經配置以移動第一孔組件和第二孔組件。
根據本公開內容的又一方面,提供一種用于操作帶電粒子束裝置的方法。方法包括:使用具有多個第一開口的第一孔組件以第一操作模式操作帶電粒子束裝置來產生帶電粒子束的兩個或更多個小束;和使用具有與多個第一開口不同的多個第二開口的第二孔組件以第二操作模式操作帶電粒子束裝置。
實施方式還針對用于執行所公開的方法的設備并且包括用于執行每個所述的方法方面的設備零件。這些方法方面可借助于硬件部件、由適當的軟件編程的計算機、這兩者的任何組合或以任何其他方式執行。此外,根據本公開內容的實施方式還針對用于操作所述設備的方法。方法包括用于執行設備的每一功能的方法方面。
附圖說明
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