[發明專利]锍化合物、抗蝕劑組合物和圖案化方法

有效

• 申請號: 201810970031.8
• 申請日: 2018-08-24
• 公開（公告）號: CN109422672B
• 公開（公告）日: 2021-08-20
• 發明（設計）人: 藤原敬之;三井亮;大橋正樹;谷口良輔;長谷川幸士
• 申請（專利權）人: 信越化學工業株式會社
• 主分類號: C07C381/12
• 分類號: C07C381/12;C07D333/76;C08F220/18;C08F220/32;G03F7/20;G03F7/004
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 杜麗利

1.具有式(1)的锍化合物:

Z-X-L¹-SO₃^- (1)

其中，L¹為直鏈、支鏈或環狀C₁-C₂₀二價烴基，其可以含有選自羥基、醚鍵、酯鍵和鹵素原子的基團，X為醚鍵或酯鍵，Z為具有式(1A)、(1B)或(1C)的锍陽離子結構的基團：

其中，虛線表示到X的價鍵，

A為單鍵、亞磺酰基、或醚鍵，

R^1a至R^1c各自獨立地為直鏈、支鏈或環狀C₁-C₂₀一價烴基，其可以含有選自羥基、醚鍵、酯鍵和鹵素原子的基團，R^1a至R^1c的至少一個為以下所示的式(1-1)的基團，條件是，當包括至少兩個R^1a時，它們中的兩個可以鍵合在一起以與它們所連接的苯環上的碳原子形成環，當包括至少兩個R^1b時，它們中的兩個可以鍵合在一起以與它們所連接的苯環上的碳原子形成環，當包括至少兩個R^1c時，它們中的兩個可以鍵合在一起以與它們所連接的苯環上的碳原子形成環，

m1、m2和m3為以下范圍的整數：0≤m1≤5，0≤m2≤5，0≤m3≤4，并且m1+m2+m3≥1，

n1、n2和n3為以下范圍的整數：0≤n1≤4，0≤n2≤4，0≤n3≤4，并且n1+n2+n3≥1，

k1、k2和k3為以下范圍的整數：0≤k1≤5，0≤k2≤4，0≤k3≤3，并且k1+k2+k3≥1，

其中，L²為直鏈、支鏈或環狀C₁-C₂₀二價烴基，其可以含有選自羥基、醚鍵、酯鍵和鹵素原子的基團，R^f1和R^f2各自獨立地為氫，直鏈、支鏈或環狀C₁-C₂₀烷基，氟或具有至少一個氟原子的直鏈、支鏈或環狀C₁-C₂₀氟代烷基，R^f1和R^f2的至少一個為氟或氟代烷基，虛線表示價鍵。

2.根據權利要求1所述的锍化合物，其中，R^f1和R^f2為三氟甲基。

3.根據權利要求1所述的锍化合物，其具有式(2)：

其中，X和Z如上文所定義，R^f3、R^f4、R^f5和R^f6各自獨立地為氫、氟或三氟甲基。

4.根據權利要求3所述的锍化合物，其中R^f5和R^f6二者為氟。

5.根據權利要求1所述的锍化合物，其中式(1-1)的基團為式(1-2)的基團，

其中L^2a為酯鍵、醚鍵或硫醚鍵，R^a1和R^a2各自獨立地為氫或甲基，R^f1a和R^f2a各自獨立地為氟或直鏈、支鏈或環狀的具有至少一個氟原子的C₁-C₂₀氟代烷基。

6.光致產酸劑，其包含根據權利要求1所述的锍化合物。

7.抗蝕劑組合物，其包含根據權利要求6所述的光致產酸劑。