[發明專利]測定裝置、測定方法以及等離子體處理裝置

有效

• 申請號: 201810969328.2
• 申請日: 2018-08-23
• 公開（公告）號: CN109427531B
• 公開（公告）日: 2020-11-20
• 發明（設計）人: 佐藤雅紀;樫村龍成;綱本哲;大崎良規;荒金俊行
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種測定裝置，具有：

切換部，其對配置在等離子體處理裝置內的靜電卡盤內且被施加直流電壓的電極的連接進行切換；

具有靜電電容的構件，其與所述切換部連接；以及

測定部，其測定與所述具有靜電電容的構件中蓄積的電荷量相當的值，

其中，所述切換部在利用等離子體執行基板處理期間將所述電極的連接切換到同所述具有靜電電容的構件連接，以及

所述測定部在執行所述基板處理期間測定與所述具有靜電電容的構件中蓄積的電荷量相當的值。

2.根據權利要求1所述的測定裝置，其特征在于，

所述切換部將所述電極的連接在同直流電源連接與同所述具有靜電電容的構件連接之間進行切換。

3.根據權利要求1或2所述的測定裝置，其特征在于，

在所述切換部與所述具有靜電電容的構件之間具有去除高頻電力的濾波器。

4.根據權利要求1或2所述的測定裝置，其特征在于，

所述切換部在清潔處理期間將所述電極的連接切換到同所述具有靜電電容的構件連接，

所述測定部在所述清潔處理期間測定與所述具有靜電電容的構件中蓄積的電荷量相當的值。

5.根據權利要求1或2所述的測定裝置，其特征在于，

在所述切換部將所述電極的連接切換到同所述具有靜電電容的構件連接之后，施加高頻電力。

6.根據權利要求1或2所述的測定裝置，其特征在于，

基于進行所述測定得到的與電荷量相當的值來測定等離子體的自偏壓。

7.根據權利要求1或2所述的測定裝置，其特征在于，

所述測定部具有探針，該探針以與所述具有靜電電容的構件的表面非接觸或接觸的方式設置，

所述具有靜電電容的構件和所述探針設置在真空容器內。

8.一種測定方法，包括：

切換工序，對配置在等離子體處理裝置內的靜電卡盤內的電極的連接進行切換；

施加工序，向所述靜電卡盤施加高頻電力；以及

測定工序，測定同通過所述切換而與所述電極連接且具有靜電電容的構件中蓄積的電荷量相當的值，

在所述切換工序中，在利用等離子體執行基板處理期間將所述電極的連接切換到同所述具有靜電電容的構件連接，

在所述測定工序中，在執行所述基板處理期間測定與具有所述靜電電容的構件中蓄積的電荷量相當的值。

9.根據權利要求8所述的測定方法，其特征在于，

在所述切換工序中，將所述電極的連接在同直流電源連接與同所述具有靜電電容的構件連接之間進行切換。

10.根據權利要求8或9所述的測定方法，其特征在于，

在所述切換工序中將所述電極的連接切換到同所述具有靜電電容的構件連接之后，在所述施加工序中施加高頻電力。

11.根據權利要求10所述的測定方法，其特征在于，

在所述切換工序中，在清潔處理期間將所述電極的連接切換到同所述具有靜電電容的構件連接，

在所述測定工序中，在所述清潔處理期間測定與具有所述靜電電容的構件中蓄積的電荷量相當的值。

12.根據權利要求8或9述的測定方法，其特征在于，

包括判定工序，在該判定工序中，參照存儲有預先測定得到的所述與電荷量相當的值同表示所述靜電卡盤的殘留吸附狀態的值的相關信息的存儲部，基于測定得到的所述與電荷量相當的值來判定基板的殘留吸附狀態。

13.根據權利要求12所述的測定方法，其特征在于，

在所述判定工序中，當參照所述存儲部判定為測定出的所述與電荷量相當的值的絕對值高于預先決定的閾值時，判定為執行清潔處理或靜電卡盤的維護。

14.一種等離子體處理裝置，具有：

高頻電源，其施加高頻電力；

切換部，其對配置在等離子體處理裝置內的靜電卡盤內且被施加直流電壓的電極的連接進行切換；

具有靜電電容的構件，其與所述切換部連接；以及

測定部，其測定與所述具有靜電電容的構件中蓄積的電荷量相當的值，

其中，所述切換部在利用等離子體執行基板處理期間將所述電極的連接切換到同所述具有靜電電容的構件連接，以及

所述測定部在執行所述基板處理期間測定與所述具有靜電電容的構件中蓄積的電荷量相當的值。