[發明專利]一種微電感測量方法和裝置在審
| 申請號: | 201810958471.1 | 申請日: | 2018-08-22 |
| 公開(公告)號: | CN108982972A | 公開(公告)日: | 2018-12-11 |
| 發明(設計)人: | 雷述宇 | 申請(專利權)人: | 西安飛芯電子科技有限公司 |
| 主分類號: | G01R27/26 | 分類號: | G01R27/26 |
| 代理公司: | 西安恒泰知識產權代理事務所 61216 | 代理人: | 黃小梧 |
| 地址: | 710000 陜西省西安市新型工業園*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 標定 電感 微電感 測量 方法和裝置 導線串聯 電感測量裝置 標準電感 測試裝置 開關控制 節點B 去除 相等 引入 | ||
本發明提供了一種微電感測量方法和裝置,包括標定通路和待測通路,標定通路和待測通路的一端相連接形成節點B,所述標定通路或待測通路的另一端通過與開關相連接形成節點A;標定通路中包括導線和由導線串聯的標準電感;待測通路中包括導線和由導線串聯的微電感;還包括電感測量裝置,用于分別測量標定通路和待測通路中的電感值。本發明通過開關控制標定通路和待測通路的切換,以及將標定通路和待測通路的電感值設計為相等,可有效避免干擾,去除測試裝置本身組件和導線所引入的電感,以消除測量誤差,獲得更準確的微電感的電感值。
技術領域
本發明屬于電學測量領域,具體涉及一種微電感測量方法和裝置。
背景技術
在芯片封裝過程中,需要進行芯片進行鍵合工藝,將金屬絲線的兩端 分別焊接于芯片與基板電路或引線框架上,實現與外部電路的連接,被焊 接的金屬線則為鍵合線。鍵合線的線徑很小,通常在20μm到50μm,同 等線長下小線徑會引入較大寄生電感,從而影響了芯片的整體性能。尤其 針對半導體激光芯片,當芯片中存在寄生電感時,會導致大電流信號驅動 的脈沖激光的上升沿時間變長,進而影響了芯片在測距應用中的性能,因 此需要在設計封裝時準確掌握芯片上鍵合線的電感值,以便采取相應措施 消除影響。
由于被測量的電感值極其微小,為nH數量級,現有電感測量設備采用 直接電感測量方法很難達到所需的測量精度。設備在清零后探針稍有振動 便會帶來幾十nH的漂移,即使在靜止不動的狀態下隨著時間推移在幾分鐘 內也會產生幾nH的漂移,這種測量方法給測量結果帶來很大的誤差,因 此,迫切需要開發一種新的技術方案解決該技術缺陷,以便精確獲取微電 感的精確測量值,為芯片封裝以及應用時的電路設計和優化提供依據。
發明內容
針對現有技術存在的不足,本發明的目的在于,提供一種微電感測量 方法及裝置,解決現有技術中無法精確獲取鍵合線上微弱電感值的問題。
為了解決上述技術問題,本發明采用如下技術方案予以實現:
本發明提供了一種微電感測量方法,包括以下步驟:
步驟一,標定獲取系統誤差:
通過開關控制使得基礎通路與標定通路相導通,基礎通路與待測通路相 斷開;所述標定通路中串聯有標準電感,待測通路中串聯有待測電感,并且 標定通路和待測通路中包括電感值相同的連接線;所述基礎通路包括電感測 量裝置,基礎通路通過開關分別與標定通路或待測通路形成一個完整的閉合 回路;
通過基礎通路測量所述標定回路的電感值L1,標定回路的電感值L1減去 所述標準電感的標準電感值L0,得到系統誤差δ;
步驟二,測量待測電感的電感值:
通過開關控制使得基礎通路與待測通路相導通,基礎通路與標定通路相 斷開,通過基礎通路測量所述待測通路的電感值L2,待測通路的電感值L2減 去系統誤差δ,得到待測微電感的電感值L。
進一步地,所述的開關通過電子開關控制模塊控制實現自動切換。
進一步地,所述的標定通路為一個以上,所述的待測通路為一個以上。
進一步地,所述的待測通路為兩個以上時,通過開關控制模塊控制開關 先與標定通路導通,測量系統誤差δ,然后通過開關控制模塊控制開關分別 與兩個以上待測通路依次導通。
本發明還提供了一種微電感測量裝置,包括并聯的標定通路和待測通 路,所述標定通路和待測通路的一端相連接形成導通的節點B,所述標定通 路或待測通路的另一端形成斷開的節點A;
所述標定通路包括第一導線和由第一導線串聯的標準電感;所述待測通 路包括第二導線和由第二導線串聯的微電感;
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