[發(fā)明專利]掩模裝置及其控制方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810939837.0
• 申請(qǐng)日: 2018-08-16
• 公開（公告）號(hào): CN108873598B
• 公開（公告）日: 2021-10-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬國(guó)靖
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G03F1/54
• 分類號(hào): G03F1/54;G02F1/1337
• 代理公司: 北京三高永信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138
• 代理人: 楊廣宇

1.一種掩模裝置，其特征在于，所述掩模裝置包括：掩模板和控制器，所述掩模板包括多個(gè)掩模單元，所述掩模單元包括：透光承載結(jié)構(gòu)，以及位于所述透光承載結(jié)構(gòu)上的遮光液滴，所述透光承載結(jié)構(gòu)具有親水狀態(tài)和疏水狀態(tài)；

所述控制器與每個(gè)所述掩模單元均連接，且每個(gè)所述掩模單元具有透光狀態(tài)和遮光狀態(tài)，所述控制器用于通過(guò)控制所述透光承載結(jié)構(gòu)處于所述親水狀態(tài)，以控制所述掩模單元處于所述遮光狀態(tài)，以及通過(guò)控制所述透光承載結(jié)構(gòu)處于所述疏水狀態(tài)，以控制所述掩模單元處于所述透光狀態(tài)；

所述掩模板還包括：相對(duì)設(shè)置的透光基底和透光保護(hù)層，以及位于所述透光基底和所述透光保護(hù)層之間的遮光網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，

所述多個(gè)掩模單元均位于所述透光基底和所述透光保護(hù)層之間，所述遮光網(wǎng)格結(jié)構(gòu)將所述透光基底劃分為多個(gè)單元格，所述多個(gè)掩模單元與所述多個(gè)單元格一一對(duì)應(yīng)，且每個(gè)掩模單元均位于其對(duì)應(yīng)的單元格內(nèi)，

所述掩模裝置被配置為對(duì)形成顯示面板的膜層進(jìn)行掩模，所述掩模單元與所述顯示面板中亞像素單元的形狀和大小均相同；

所述透光承載結(jié)構(gòu)中靠近所述遮光液滴的一側(cè)凸起，當(dāng)所述控制器控制透光承載結(jié)構(gòu)處于疏水狀態(tài)時(shí)，所述遮光液滴包括兩個(gè)遮光子液滴，所述兩個(gè)遮光子液滴分別位于所述透光承載結(jié)構(gòu)上頂部凸起位置的兩側(cè)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模裝置，其特征在于，

所述每個(gè)掩模單元被所述透光基底、所述透光保護(hù)層和所述遮光網(wǎng)格結(jié)構(gòu)密封。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模裝置，其特征在于，所述掩模裝置還包括：與所述控制器連接且位于所述掩模板一側(cè)的紫外燈組件，所述紫外燈組件能夠向所述掩模板發(fā)射多種偏振方向的紫外偏振光，所述控制器還用于：

在多個(gè)掩模階段中的每個(gè)掩模階段，控制所述紫外燈組件向所述掩模板發(fā)射一種偏振方向的紫外偏振光，且所述紫外燈組件在所述多個(gè)掩模階段中發(fā)射的紫外偏振光的偏振方向不同。

4.一種掩模控制方法，其特征在于，用于權(quán)利要求1至3任一所述的掩模裝置中的控制器，所述掩模裝置還包括：掩模板，所述掩模板包括多個(gè)掩模單元，對(duì)每個(gè)所述掩模單元，所述掩模單元包括：透光承載結(jié)構(gòu)，以及位于所述透光承載結(jié)構(gòu)上的遮光液滴，所述透光承載結(jié)構(gòu)具有親水狀態(tài)和疏水狀態(tài)，所述控制器與每個(gè)所述掩模單元均連接，且每個(gè)所述掩模單元具有透光狀態(tài)和遮光狀態(tài)，所述方法包括：

通過(guò)控制所述透光承載結(jié)構(gòu)處于所述親水狀態(tài)，以控制所述掩模單元處于所述遮光狀態(tài)；

通過(guò)控制所述透光承載結(jié)構(gòu)處于所述疏水狀態(tài)，以控制所述掩模單元處于所述透光狀態(tài)，所述透光承載結(jié)構(gòu)中靠近所述遮光液滴的一側(cè)凸起，當(dāng)所述控制器控制透光承載結(jié)構(gòu)處于疏水狀態(tài)時(shí)，所述遮光液滴包括兩個(gè)遮光子液滴，所述兩個(gè)遮光子液滴分別位于所述透光承載結(jié)構(gòu)上頂部凸起位置的兩側(cè)；

所述掩模板還包括：相對(duì)設(shè)置的透光基底和透光保護(hù)層，以及位于所述透光基底和所述透光保護(hù)層之間的遮光網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，

所述多個(gè)掩模單元均位于所述透光基底和所述透光保護(hù)層之間，所述遮光網(wǎng)格結(jié)構(gòu)將所述透光基底劃分為多個(gè)單元格，所述多個(gè)掩模單元與所述多個(gè)單元格一一對(duì)應(yīng)，且每個(gè)掩模單元均位于其對(duì)應(yīng)的單元格內(nèi)，

所述掩模裝置被配置為對(duì)形成顯示面板的膜層進(jìn)行掩模，所述掩模單元與所述顯示面板中亞像素單元的形狀和大小均相同。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述掩模裝置還包括：與所述控制器連接且位于所述掩模板一側(cè)的紫外燈組件，所述紫外燈組件能夠向所述掩模板發(fā)射多種偏振方向的紫外偏振光，所述方法還包括：

在多個(gè)掩模階段中的每個(gè)掩模階段，控制所述紫外燈組件向所述掩模板發(fā)射一種偏振方向的紫外偏振光，且所述紫外燈組件在所述多個(gè)掩模階段中發(fā)射的紫外偏振光的偏振方向不同。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，控制所述掩模單元處于透光狀態(tài)或遮光狀態(tài)，包括：

在每個(gè)所述掩模階段，控制所述多個(gè)掩模單元中的至少一個(gè)掩模單元處于透光狀態(tài)，以形成一組透光區(qū)域，并控制所述多個(gè)掩模單元中除所述至少一個(gè)掩模單元外的其他掩模單元均處于遮光狀態(tài)，且在任意兩個(gè)所述掩模階段中形成的兩組透光區(qū)域互不交疊。