[發(fā)明專利]一種基于多元矢量合成的多散射點雷達(dá)目標(biāo)模擬方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201810938132.7
• 申請日: 2018-08-16
• 公開（公告）號: CN108828543A
• 公開（公告）日: 2018-11-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 喻夢霞;余忠卿;李桂萍;徐軍;王茂琰
• 申請（專利權(quán)）人: 電子科技大學(xué)
• 主分類號: G01S7/40
• 分類號: G01S7/40
• 代理公司: 成都弘毅天承知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51230
• 代理人: 鄒敏菲

1.一種基于多元矢量合成的多散射點雷達(dá)目標(biāo)模擬方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1.獲取雷達(dá)目標(biāo)發(fā)送的雷達(dá)信號中的參數(shù)信息；

步驟2.根據(jù)雷達(dá)目標(biāo)的散射特性提取若干個目標(biāo)散射點，且每個目標(biāo)散射點表示一組三元矢量天線陣；

步驟3.確定每組三元矢量天線陣對應(yīng)的的饋電幅度、相位和布局；

步驟4.根據(jù)各個目標(biāo)散射點的散射特性，利用對應(yīng)的三元矢量天線陣輻射的電磁波矢量合成等效散射點，通過疊加所有等效散射點輻射的電磁波模擬雷達(dá)目標(biāo)的散射特性。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多元矢量合成的多散射點雷達(dá)目標(biāo)模擬方法，其特征在于，所述參數(shù)信息包括雷達(dá)信號的幅度、頻率、相位、方位、功率和目標(biāo)與電磁波發(fā)射點之間的距離。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多元矢量合成的多散射點雷達(dá)目標(biāo)模擬方法，其特征在于，所述散射特性由雷達(dá)散射截面RCS表示，提取目標(biāo)散射點的具體方法為：將雷達(dá)目標(biāo)在當(dāng)前電磁環(huán)境下的散射特性與雷達(dá)目標(biāo)模擬系統(tǒng)中的RCS分布圖進(jìn)行對比，得到對應(yīng)的對比結(jié)果值，根據(jù)對比結(jié)果值對雷達(dá)目標(biāo)的散射特性的影響程度選取目標(biāo)散射點，根據(jù)選取的目標(biāo)散射點初步確定對應(yīng)的三元矢量天線陣的范圍，即確定該三元矢量天線陣的布局。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基于多元矢量合成的多散射點雷達(dá)目標(biāo)模擬方法，其特征在于，通過多元矢量合成方法確定每組三元矢量天線陣對應(yīng)的等效散射點，即根據(jù)每組三元矢量天線陣對應(yīng)的饋電幅度、相位確定等效散射點的位置所述多元矢量合成方法的具體計算方式如下：

其中，η表示電磁場波阻抗，a、b和c分別表示三元矢量天線陣中三個天線的位置點a(θ_a，Φ_a)、b(θ_b，Φ_b)和c(θ_c，Φ_c)，E_a、E_b和E_c分別表示位置點為a、b、c的天線對應(yīng)的饋電電場強(qiáng)度，β_a、β_b和β_c分別表示位置點為a、b、c的天線輻射電磁波的相位常數(shù)，且β_ab＝β_a-β_b、β_bc＝β_b-β_c、β_ac＝β_a-β_c，θ_max表示位置點a、b、c對應(yīng)的天線俯仰角θ_a、θ_b和θ_c中的最大值，Φ_max表示位置點a、b、c對應(yīng)的天線方位角Φ_a、Φ_b和Φ_c中的最大值。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種基于多元矢量合成的多散射點雷達(dá)目標(biāo)模擬方法，其特征在于，合成等效散射點的具體方法為：根據(jù)每個目標(biāo)散射點所處位置的三個天線輻射的電磁波在空間中進(jìn)行多元矢量合成得到等效散射點，通過調(diào)節(jié)每個天線的饋電幅度和相位，使多元矢量合成的等效散射點與目標(biāo)散射點的散射特性相匹配。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種基于多元矢量合成的多散射點雷達(dá)目標(biāo)模擬方法，其特征在于，根據(jù)三元矢量天線陣的三個天線的位置點確定模擬區(qū)域，在模擬區(qū)域內(nèi)改變?nèi)噶刻炀€陣中天線的饋電幅度、相位，完成等效散射點位置的改變。