[發明專利]晶體生長裝置及生長方法在審
| 申請號: | 201810900366.2 | 申請日: | 2018-08-09 |
| 公開(公告)號: | CN110820043A | 公開(公告)日: | 2020-02-21 |
| 發明(設計)人: | 狄聚青;朱劉;劉運連;趙頌;袁靜 | 申請(專利權)人: | 廣東先導稀材股份有限公司 |
| 主分類號: | C30B27/02 | 分類號: | C30B27/02;C30B29/06;C30B29/28;C30B29/30;C30B29/46;C30B29/32 |
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| 地址: | 511517 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 晶體生長 裝置 生長 方法 | ||
本發明涉及一種晶體生長裝置,其包括一石英爐、一底座、一頂蓋、一提拉機構以及一籽晶;底座和頂蓋分別固定于石英爐的下表面和上表面;石英爐包括一坩堝、包覆坩堝的保溫材料、圍繞坩堝的一加熱器、一進氣管、一波紋管、一籽晶桿、一出氣管;坩堝內置有熔體,籽晶與熔體的液面相接;保溫材料上部開設有上下貫穿的第一通孔,頂蓋開設有上下貫穿的第二通孔,波紋管連接于頂蓋和提拉機構之間,石英爐、頂蓋、波紋管、提拉機構共同形成一爐腔,籽晶桿上下貫穿第一通孔、第二通孔,且籽晶桿兩端分別連接籽晶和提拉機構;進氣管貫穿底座而與爐腔連通;出氣管貫穿頂蓋,出氣管的一端與爐腔連通。本發明同時涉及一種晶體生長方法。
技術領域
本發明涉及晶體的制備領域,尤其涉及一種晶體生長裝置及生長方法。
背景技術
提拉法又稱丘克拉斯基法,是一種從熔體中提拉生長高質量單晶的方法。提拉法的過程是將構成晶體的原料放在坩堝中加熱熔化,在熔體表面熔接籽晶并開始提拉,在一定條件下,熔體在固液界面上逐漸凝固而生長出單晶體。提拉法已經成為應用范圍最廣的一種晶體生長方法。
單晶提拉爐是提拉法生長晶體的裝置,一般由爐腔、加熱系統、提拉系統、氣氛控制系統等部分組成。其中,爐腔是晶體生長的容器,是單晶提拉爐重要的組成部分。爐腔起到隔絕空氣,隔絕熱輻射等作用。一般情況下,爐腔由雙層不銹鋼制作,中間通冷卻水保護。多數單晶提拉爐需要在爐腔上開孔,用于觀察晶體生長情況。由于爐腔復雜的結構,使得單晶提拉爐成本較高,不利于規?;a;冷卻循環水帶走大量熱量,不利于節能;由于爐腔為尺寸固定的不銹鋼焊接而成,生長不同尺寸的晶體需要定制不同尺寸的爐腔,造成額外成本較高。
因此,有必要設計一種既能簡化爐腔,又能夠降低成本的一種晶體生長裝置及生長方法。
發明內容
本發明的目的在于提供一種簡化爐腔、降低成本的晶體生長裝置及生長方法。
為實現前述目的,本發明采用如下技術方案:一種晶體生長裝置,晶體生長裝置包括一石英爐、一底座、一頂蓋、一提拉機構以及一籽晶;所述底座和頂蓋分別固定于石英爐的下表面和上表面;石英爐包括一坩堝、包覆坩堝的保溫材料、圍繞坩堝的一加熱器、一進氣管、一波紋管、一籽晶桿、一出氣管;所述坩堝內置有熔體,籽晶與熔體的液面相接;保溫材料上部開設有上下貫穿的第一通孔,頂蓋開設有上下貫穿的第二通孔,波紋管連接于頂蓋和提拉機構之間,所述石英爐、頂蓋、波紋管、提拉機構共同形成一爐腔,籽晶桿上下貫穿第一通孔、第二通孔,且籽晶桿兩端分別連接籽晶和提拉機構;進氣管貫穿底座而與爐腔連通;出氣管貫穿頂蓋,出氣管的一端與爐腔連通。
作為本發明的進一步改進,所述底座的上表面凸設有若干卡塊;石英爐與底座通過卡塊固定連接。
作為本發明的進一步改進,所述底座上連接一第一進水管、一第一出水管。
作為本發明的進一步改進,所述頂蓋上連接一第二進水管和一第二出水管。
作為本發明的進一步改進,所述晶體生長裝置還包括用于支撐提拉機構的一支架。
作為本發明的進一步改進,所述晶體生長裝置還包括一液槽,所述液槽盛裝有吸收液,出氣管的另一端位于吸收液內。
作為本發明的進一步改進,所述吸收液為水。
本發明還提出一種晶體生長方法,采用上述晶體生長裝置,晶體生長方法包括如下步驟:
S1:裝爐階段:將石英爐固定在底座中;將原料裝入坩堝內,并安裝好加熱器;將頂蓋安裝在石英爐上,并將出氣管插入盛有吸收液的液槽中;由第一進水管向底座通入冷卻水,由第二進水管向頂蓋通入冷卻水;由第一出水管排出底座的冷卻水;由第二出水管排出頂蓋的冷卻水;
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