[發明專利]一種光學元件超光滑表面的拋光裝置及拋光方法

在審

• 申請號: 201810898314.6
• 申請日: 2018-08-08
• 公開（公告）號: CN109015393A
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發明（設計）人: 彌謙;李宏;郭忠達;潘永強;秦琳
• 申請（專利權）人: 西安工業大學
• 主分類號: B24C1/08
• 分類號: B24C1/08;B24C3/04;B24C5/00;B24C9/00
• 代理公司: 西安新思維專利商標事務所有限公司 61114
• 代理人: 黃秦芳

1.一種光學元件超光滑表面的拋光裝置，其特征在于：其為軸對稱結構，包括管道(1)和中間供液的磨頭(2)，所述磨頭(2)下端的拋光面為平面，沿圓心在拋光面上等間距設置有數個環狀溝槽，環狀溝槽的截面為圓弧型，所述環狀溝槽分布于拋光面的外圓處。

2.根據權利要求1所述的一種光學元件超光滑表面的拋光裝置的拋光方法，其特征在于：所述管道(1)將拋光液輸送到磨頭(2)中心,所述拋光液為牛頓流體，在壓力的作用下拋光液從磨頭(2)中心向四周流動，在磨頭(2)的拋光面與工件(4)之間形成液膜將磨頭(2)與工件(4)隔離開，磨頭(2)漂浮在工件(4)表面上，流體流經拋光區域(5)，在拋光面的凹槽(3)處形成渦流，斜入射到工件表面，對工件表面產生剪切力，實現材料的去除。

3.根據權利要求2所述的一種光學元件超光滑表面的拋光裝置的拋光方法，其特征在于：所述磨頭(2)重力控制在20kg～60kg之間。