[發明專利]光譜分析的測量裝置和在使用光譜分析的測量裝置的情況下用于分析介質的方法

在審

• 申請號: 201810897400.5
• 申請日: 2018-08-08
• 公開（公告）號: CN109387483A
• 公開（公告）日: 2019-02-26
• 發明（設計）人: B.施泰因;C.舍林;F.米歇爾;M.胡斯尼克;R.諾爾特邁爾;M.赫默斯多夫
• 申請（專利權）人: 羅伯特·博世有限公司
• 主分類號: G01N21/25
• 分類號: G01N21/25;G01N21/27
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 梁冰;李雪瑩

1. 光譜分析的測量裝置（100），所述測量裝置被設置用于檢測固體和流體的、光譜分析的數據，所述測量裝置包括接收裝置（102），所述接收裝置被設置用于接收待研究的介質（104‘），其中，微型分光儀（101）被設置用于檢測所述介質（104‘）的、光譜分析的數據，其中，所述微型分光儀（101）

- 包括照射單元（1010），所述照射單元被設置用于，以電磁輻射（1010‘）來輻射所述介質（104‘），并且

- 包括檢測單元（1011），所述檢測單元被設置用于，檢測所述電磁輻射（1010‘）的、來自所述介質（104‘）的方向的輻射份額（1011“），

其特征在于，

- 將所述微型分光儀（101）布置在所述接收裝置（102）的第一側（1021）處，所述微型分光儀包括所述照射單元（1010）和所述檢測單元（1011），并且，

- 將射束偏轉裝置（103）布置在所述接收裝置（102）的、與所述第一側（1021）對置的第二側（1022）處，所述射束偏轉裝置被設置用于，將來自所述照射單元（1010）的所述電磁輻射（1010‘）的至少一部分（1011‘）偏轉到檢測單元（1011）的方向上。

2.根據權利要求1所述的光譜分析的測量裝置（100），其特征在于，所述接收裝置（102）包括保持結構（102‘），所述保持結構具有開口（102“）。

3.根據權利要求2所述的光譜分析的測量裝置（100），其特征在于，所述光譜分析的測量裝置（100）包括所述微型分光儀（101），并且，將所述微型分光儀（101）集成到所述保持結構（102‘）中。

4.根據權利要求2所述的光譜分析的測量裝置（100），其特征在于，所述保持結構（102‘）具有定位設備（107），所述定位設備被設置用于，將所述微型分光儀（101）定位在所述接收裝置（102）的所述第一側（1021）處。

5.根據前述權利要求中任一項所述的光譜分析的測量裝置（100），其特征在于，所述介質（104‘）包括在容器（104“）中的固體或者在容器（104“）中的流體，并且，所述開口（102“）被設置用于，在所述第一側（1021）和所述第二側（1022）之間的、所述微型分光儀（101）的輻射路徑中接收所述容器（104“）。

6.根據權利要求2至5中任一項所述的光譜分析的測量裝置（100），其特征在于，所述開口（102“）的尺寸是能夠適配的。

7.根據權利要求6所述的光譜分析的測量裝置（100），其特征在于，在所述保持結構（104‘）的、面向所述開口（102“）的面（1024）上至少區段地布置有薄片狀結構（109），其中，所述開口（102“）的所述尺寸取決于所述薄片狀結構（109）的調節。

8.根據權利要求7所述的光譜分析的測量裝置（100），其特征在于，所述光譜分析的測量裝置（100）包括步進馬達，所述步進馬達被設置用于，調節所述薄片狀結構（109）。

9.根據前述權利要求中任一項所述的光譜分析的測量裝置（100），其特征在于，所述射束偏轉裝置（103）包括能夠適配的鏡面層。

10.根據前述權利要求中任一項所述的光譜分析的測量裝置（100），其特征在于，在所述照射單元（1010）和所述接收裝置（102）之間的輻射路徑中布置有或者能夠布置有擴散器（1091）。

11.根據前述權利要求中任一項所述的光譜分析的測量裝置（100），其特征在于，在所述接收裝置（102）和所述檢測單元（1011）之間的輻射路徑中布置有或者能夠布置有光學成像元件（1092）。