[發明專利]靶材清潔組件及靶材清潔方法、成膜設備

有效

• 申請號: 201810896123.6
• 申請日: 2018-08-08
• 公開（公告）號: CN109023289B
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發明（設計）人: 謝銳
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

1.一種靶材清潔組件，其特征在于，所述靶材清潔組件包括氣體導向機構，所述氣體導向機構用于提供朝向靶材的氣流，所述氣流的流通方向指向所述靶材的縫隙且所述氣流的吹掃區域覆蓋所述靶材，并通過所述氣流的流通將落于所述靶材縫隙中的顆粒去除；

所述氣流的流通方向與所述靶材所處平面相垂直；

所述氣體導向機構包括內部中空的管道，所述管道和所述縫隙的延伸方向一致，所述管道朝向所述縫隙的一側設置有氣流出口；

所述管道設置于所述靶材背離待成膜基板的一側，所述管道朝向所述縫隙的一側設置有分支管，所述分支管與所述管道導通并與所述靶材所述處平面相垂直，所述分支管部分從所述靶材背離所述待成膜基板的一側伸入所述縫隙中，所述氣流出口設置于所述分支管的自由端，用于形成流經所述氣流出口和所述縫隙并從所述靶材相對所述待成膜基板的一側流出的氣流，以將所述縫隙中的顆粒去除。

2.根據權利要求1所述的靶材清潔組件，其特征在于，所述管道為形狀可變的軟管，所述靶材清潔組件還包括承載件，形狀調整后的軟管固定于所述承載件上，所述承載件與所述靶材間隔或貼合設置。

3.根據權利要求1所述的靶材清潔組件，其特征在于，所述氣體導向機構的氣流出口處設置有調節閥，用于調節氣流的流通方向。

4.一種成膜設備，其特征在于，所述成膜設備包括如上述權利要求1至3任一項所述的靶材清潔組件。

5.一種靶材清潔方法，其特征在于，所述靶材清潔方法包括：

提供靶材清潔組件，其包括用于提供氣流的氣體導向機構；

所述氣體導向機構提供朝向靶材的氣流，且所述氣流的流通方向指向所述靶材的縫隙且所述氣流的吹掃區域覆蓋所述靶材，并通過所述氣流的流通將落于所述靶材縫隙中的顆粒去除；

所述氣流的流通方向與所述靶材所處平面相垂直；

所述氣體導向機構包括內部中空的管道，所述管道和所述縫隙的延伸方向一致，所述管道的氣流出口朝向所述靶材的縫隙；

所述管道的氣流出口朝向所述靶材的縫隙包括：

所述管道設置于所述靶材背離待成膜基板的一側，所述管道朝向所述縫隙的一側設置有分支管；

所述分支管與所述管道導通并與所述靶材所述處平面相垂直，所述分支管部分從所述靶材背離所述待成膜基板的一側伸入所述縫隙中，所述氣流出口設置于所述分支管的自由端；

所述通過所述氣流的流通將落于所述靶材縫隙中的顆粒去除包括：

通過流經所述氣流出口和所述縫隙并從所述靶材相對所述待成膜基板的一側流出的氣流將所述縫隙中的顆粒去除。

6.根據權利要求5所述的靶材清潔方法，其特征在于，所述管道為形狀可變的軟管，所述靶材清潔組件還包括承載件，

所述管道和所述縫隙的延伸方向一致，包括：

調整所述軟管的形狀，并將調整后的軟管固定于所述承載件上，且所述承載件與所述靶材間隔或貼合設置。