[發明專利]黑色矩陣的制作方法及BOA基板

在審

• 申請號: 201810888932.2
• 申請日: 2018-08-07
• 公開（公告）號: CN108919582A
• 公開（公告）日: 2018-11-30
• 發明（設計）人: 邱軍輝;宋江江;沈順杰
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304
• 代理人: 孫偉峰;陽志全

本發明公開了一種黑色矩陣的制作方法，包括：提供一基板；在所述基板上形成對位標記，并在所述對位標記上方形成保護膜層；對所述保護膜層位于所述對位標記正上方的部分疏水處理；在具有所述保護膜層的所述基板表面涂布光阻，所述保護膜層上被疏水處理的部分無法附著光阻；依次對所述光阻進行曝光、顯影，以去除未被光照的光阻材料，形成黑色矩陣。本發明還公開了一種BOA基板。本發明在制作黑色矩陣的過程中，事先對基板對位標記上方對應的保護膜層區域進行疏水處理，在基板上涂布光阻后，保護膜層表面經疏水處理過的區域無法附著光阻，因此制作出的黑色矩陣不會遮擋對位標記，從而不再影響后續制程的對位精度。

技術領域

本發明涉及液晶顯示技術領域，尤其涉及一種黑色矩陣的制作方法及BOA基板。

背景技術

黑色矩陣陣列基板(BM on Array，BOA)技術在曲面液晶顯示器中廣泛應用，已逐漸成為一種液晶顯示器普遍技術。

陣列基板制作時，后續的每一道黃光制程均需要與前制程做精準對位，以保證每一層的位置關系均滿足設計需求。黑色矩陣陣列基板技術在黑色矩陣層(BM)制程時，黑色矩陣層涂布后將對位標記(mark)覆蓋住，但由于黑色矩陣層為黑色遮光材料，導致其下方的對位標記被遮擋，如此，在曝光時將嚴重影響曝光機臺對標記的識別，無法保證制程精度。

發明內容

鑒于現有技術存在的不足，本發明提供了一種黑色矩陣的制作方法及BOA基板，可以避免黑色矩陣對制程精度的影響。

為了實現上述的目的，本發明采用了如下的技術方案：

一種黑色矩陣的制作方法，包括：

提供一基板；

在所述基板上形成對位標記，并在所述對位標記上方形成保護膜層；

對所述保護膜層位于所述對位標記正上方的部分疏水處理；

在具有所述保護膜層的所述基板表面涂布光阻，所述保護膜層上被疏水處理的部分無法附著光阻；

依次對所述光阻進行曝光、顯影，以去除未被光照的光阻材料，形成黑色矩陣。

作為其中一種實施方式，所述的黑色矩陣的制作方法還包括：在對所述保護膜層位于所述對位標記正上方的部分疏水處理前，對所述基板進行清洗。

作為其中一種實施方式，所述對位標記為光阻材料。

作為其中一種實施方式，所述基板包括襯底和陣列地形成在所述襯底表面的薄膜晶體管。

作為其中一種實施方式，所述保護膜層為鈍化層。

作為其中一種實施方式，所述保護膜層層疊覆蓋在所述對位標記表面。

或者，所述對位標記形成于所述襯底表面或所述基板內的絕緣層上或所述薄膜晶體管的電極上。

作為其中一種實施方式，所述對所述保護膜層位于所述對位標記正上方的部分疏水處理的步驟為：利用紫外光照射所述保護膜層位于所述對位標記正上方的部分，以降低被照射區域的保護膜層的色阻附著力。

作為其中一種實施方式，所述紫外光照射的光強為30～60mw/cm²，光積量為200～1000mj，光斑直徑為60～100um。

本發明的另一目的在于提供一種BOA基板，包括基板和設于所述基板上的對位標記、保護膜層、黑色矩陣，所述保護膜層位于所述對位標記正上方的部分疏水處理，所述黑色矩陣采用一種所述的黑色矩陣的制作方法制作而成。

本發明在制作黑色矩陣的過程中，事先對基板對位標記上方對應的保護膜層區域進行疏水處理，在基板上涂布光阻后，保護膜層表面經疏水處理過的區域無法附著光阻，因此制作出的黑色矩陣不會遮擋對位標記，從而不再影響后續制程的對位精度。