[發明專利]一種Ni-63放射性片狀源的電沉積方法

有效

• 申請號: 201810877653.6
• 申請日: 2018-08-03
• 公開（公告）號: CN108893762B
• 公開（公告）日: 2019-12-20
• 發明（設計）人: 李順濤;張勁松;梁幫宏;陳云明;李兵;蘇冬萍;孫鵬;李子彥;周春林;江常玉;王小兵
• 申請（專利權）人: 中國核動力研究設計院
• 主分類號: C25D3/12
• 分類號: C25D3/12;C25D5/36;C25D5/04
• 代理公司: 51220 成都行之專利代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 高俊

1.一種Ni-63放射性片狀源的電沉積方法，包括以下步驟：

S1、配制電沉積液；

S2、不銹鋼襯底的預處理；

S3、電沉積制備⁶³Ni放射性片狀源；

其特征在于，所述步驟S1包括順序進行的以下步驟：

1.1配制電沉積溶液：所述電沉積溶液中，鎳含量為1.5g/L～100g/L，硫酸含量為0.2g/L～15g/L，鹽酸含量為0.02g/L～1.5g/L，硼酸含量為20～50g/L；

1.2調節pH值：向1.1步驟所得的電沉積溶液中加入NaOH溶液和/或稀鹽酸，使得pH值范圍在3.0～6.0之間；

1.3向1.2步驟所得的電沉積溶液中滴加1～10％的十二烷基硫酸鈉溶液，使得電沉積溶液中十二烷基硫酸鈉的含量為0.05g/L～0.45g/L；

所述步驟S2包括順序進行的以下步驟：

2.1配制預電沉積液和清洗襯底：所述預電沉積液為：溶液中NiSO₄·6H₂O的含量介于200g/L至飽和狀態范圍內，HCl含量為100g/L～300g/L；

所述清洗襯底為：對不銹鋼襯底用去離子水沖洗后，采用丙酮浸泡0～30min，再用無水乙醇浸泡0～30min，再用去離子水清洗；

2.2預電沉積：將不銹鋼襯底安置于電沉積儀上，在電沉積槽中加入預電沉積液，預電沉積液加入的量使得步驟2.1所得不銹鋼襯底和電沉積儀的鉑電極被覆蓋在預電沉積液中，使不銹鋼襯底浸泡5min～60min，再在0.25～2.5mA/dm²的電流密度下預電沉積1～10min，完成預電沉積后，用去離子水沖洗不銹鋼襯底；

所述步驟S3包括順序進行的以下步驟：

3.1量取步驟S1所得的電沉積液并加入電沉積槽內，電沉積液的量取量為使得步驟S2所得的不銹鋼襯底及電沉積儀的鉑電極被覆蓋在電沉積液中，調節電沉積儀各項參數，使得電流密度大小控制為1.0～5.0mA/dm²，電沉積時間為15min以上；

3.2在完成步驟3.1后，取出不銹鋼襯底，用去離子水沖洗不銹鋼襯底表面，得到⁶³Ni放射性片狀源。

2.根據權利要求1所述的一種Ni-63放射性片狀源的電沉積方法，其特征在于，在完成步驟3.1后，收集電沉積后殘余液體，并將殘余液體補充至步驟S1所得電沉積液中以進一步利用。

3.根據權利要求1所述的一種Ni-63放射性片狀源的電沉積方法，其特征在于，在完成步驟3.1后，利用步驟2.2所得不銹鋼襯底更換完成步驟3.1所得不銹鋼襯底，向電沉積后的殘余液體中補充步驟S1所得電沉積液，以進一步利用完成步驟3.1后的殘余液體。