[發明專利]曝光方法、曝光裝置和制造物品的方法

有效

• 申請號: 201810874025.2
• 申請日: 2018-08-03
• 公開（公告）號: CN109388034B
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發明（設計）人: 小泉僚;中村忠央
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 張勁松

1.一種曝光方法，所述曝光方法用于重復地執行用于經由投影光學系統對基板進行曝光的曝光處理，所述方法包括：

第一曝光處理，所述第一曝光處理用于測量所述投影光學系統的光學特性，并且在基于所述測量的結果來校正所述光學特性的同時對所述基板進行曝光；

第二曝光處理，所述第二曝光處理用于在基于通過預測公式估計所述光學特性的結果來校正所述光學特性的同時對所述基板進行曝光，

其中，所述第一曝光處理包括從直到目前為止測量所述光學特性的結果來確定所述預測公式的系數，以及判斷所確定的所述預測公式的系數是否已收斂，并且

其中，在所述曝光方法中，重復地執行所述第一曝光處理，并且在其中判斷所確定的所述預測公式的系數已收斂的所述第一曝光處理之后開始所述第二曝光處理。

2.根據權利要求1所述的曝光方法，其中，基于在目前的第一曝光處理中確定的所述系數與在過去的第一曝光處理中確定的所述系數之間的比較來執行所述判斷。

3.根據權利要求1所述的曝光方法，其中，基于在目前的第一曝光處理中獲得的所述系數與在過去的第一曝光處理中獲得的所述系數之間的差來執行所述判斷。

4.根據權利要求1所述的曝光方法，其中，基于在不包括目前的第一曝光處理的多次第一曝光處理中獲得的所述系數的移動平均值與在包括目前的第一曝光處理的多次第一曝光處理中獲得的所述系數的移動平均值之間的差來執行所述判斷。

5.根據權利要求1所述的曝光方法，其中，

所述光學特性包括多個指標，所述多個指標的時間常數彼此不同，并且

所述多個指標包括圖像偏移、聚焦、倍率、畸變像差、像散像差、球面像差和彗形像差中的至少一個。

6.根據權利要求5所述的曝光方法，其中，在所述確定中，針對每個指標確定所述預測公式的系數。

7.根據權利要求5所述的曝光方法，其中，

在所述確定中，針對每個指標確定所述預測公式的系數，并且

基于在目前的第一曝光處理中針對每個指標獲得的所述系數的合計值與在過去的第一曝光處理中針對每個指標獲得的所述系數的合計值之間的差來執行所述判斷。

8.根據權利要求5所述的曝光方法，其中，

在所述確定中，針對每個指標確定所述預測公式的系數，并且

基于在不包括目前的第一曝光處理的多次第一曝光處理中針對每個指標獲得的所述系數的移動平均值的合計值與在包括目前的第一曝光處理的多次第一曝光處理中針對每個指標獲得的所述系數的移動平均值的合計值之間的差來執行所述判斷。

9.根據權利要求1所述的曝光方法，其中，所述第二曝光處理不包括測量所述光學特性、所述確定和所述判斷。

10.根據權利要求1所述的曝光方法，其中，在所述第二曝光處理中，在基于使用判斷所確定的所述預測公式的系數已收斂時的最新系數預測所述光學特性的結果來校正所述光學特性的同時對所述基板進行曝光。

11.一種曝光裝置，所述曝光裝置重復地執行用于經由投影光學系統對基板進行曝光的曝光處理，所述裝置包括：

測量設備，所述測量設備被配置為測量所述投影光學系統的光學特性；以及

控制器，所述控制器被配置為在重復地執行第一曝光處理之后，開始第二曝光處理，所述第一曝光處理用于在基于使所述測量設備測量所述光學特性的結果來校正所述光學特性的同時對所述基板進行曝光，所述第二曝光處理用于在基于根據預測公式預測所述光學特性的結果來校正所述光學特性的同時對所述基板進行曝光，

其中，所述第一曝光處理包括從直到目前為止測量所述光學特性的結果來確定所述預測公式的系數，以及判斷所確定的所述預測公式的系數是否已收斂，并且

其中，所述控制器被配置為在其中判斷所確定的所述預測公式的系數收斂的所述第一曝光處理之后開始所述第二曝光處理。

12.一種制造物品的方法，所述方法包括：

使用曝光方法對基板進行曝光；

使經曝光的基板顯影；以及

對經顯影的基板進行處理以制造物品，

其中，所述曝光方法重復地執行用于經由投影光學系統對基板進行曝光的曝光處理，并且包括：

第一曝光處理，所述第一曝光處理用于測量所述投影光學系統的光學特性，并且在基于所述測量的結果來校正所述光學特性的同時對所述基板進行曝光；

第二曝光處理，所述第二曝光處理用于在基于通過預測公式估計所述光學特性的結果來校正所述光學特性的同時對所述基板進行曝光，

其中，所述第一曝光處理包括從直到目前為止測量所述光學特性的結果來確定所述預測公式的系數，以及判斷所確定的所述預測公式的系數是否已收斂，并且

其中，在所述曝光方法中，重復地執行所述第一曝光處理，并且在其中判斷所確定的所述預測公式的系數已收斂的所述第一曝光處理之后開始所述第二曝光處理。