[發明專利]測量裝置有效
| 申請號： | 201810859908.6 | 申請日： | 2018-08-01 |
| 公開（公告）號： | CN109387502B | 公開（公告）日： | 2021-12-24 |
| 發明（設計）人： | 橋口雅史;梁田敏雄;福島安秀;鷹尾干彥 | 申請（專利權）人： | 株式會社理光 |
| 主分類號： | G01N21/76 | 分類號： | G01N21/76 |
| 代理公司： | 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245 | 代理人： | 王永偉;趙蓉民 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 測量 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種測量裝置，其特征在于包括：
底板(27)
形成在底板(27)上的受光元件，其對光進行受光并產生信號；
框體，其由覆蓋形成在底板(27)上的所述受光元件的導電性構件來形成；
光學窗，其包括具有導電性的導電部并透過所述光；
形成在底板(27)上的電布線，其向放大器(22)傳遞所述信號，和
保護環(23)，其形成在底板(27)上的所述電布線的周圍，
所述導電部和所述框體與所述保護環電連接，
所述測量裝置被配置以使用直流電壓源來使得所述保護環(23)、所述框體、所述導電部以及接地具有偏移。
2.根據權利要求1所述的測量裝置，其特征在于包括：
放大器，其通過所述電布線和所述受光元件連接，并對所述受光元件的輸出信號進行放大。
3.根據權利要求1或2所述的測量裝置，其特征在于：
所述導電部和所述框體及所述保護環的電位都相同。
4.根據權利要求1或2所述的測量裝置，其特征在于：
所述導電部是在所述光學窗里進行了導電處理的部分。
5.根據權利要求1或2所述的測量裝置，其特征在于：
所述導電部是與所述光學窗抵接配置的導電膜。
6.根據權利要求1或2所述的測量裝置，其特征在于：
所述導電部和所述框體及所述保護環都是接地的。
7.根據權利要求1或2所述的測量裝置，其特征在于：
所述框體及所述導電部都接地，并在所述保護環和所述接地之間保持穩定的電壓。
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