[發(fā)明專利]一種真空鍍膜機真空室內磁導向平移機構

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• 申請日: 2018-07-31
• 公開（公告）號: CN108774732A
• 公開（公告）日: 2018-11-09
• 發(fā)明（設計）人: 劉光斗;舒逸;李贊
• 申請（專利權）人: 湖南玉豐真空科學技術有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/50
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明公開了一種真空鍍膜機真空室內磁導向平移機構，包括真空室、磁導向裝置，還包括多根橫向穿過真空室兩側側板的連接桿，多條磁導向裝置縱向固定在連接桿上，連接桿的一端固定在安裝板上，在安裝板與真空室之間的連接桿外套有波紋管，連接桿的另一端套在密封套筒內，在真空室的兩端還各設有一根橫向穿過真空室兩側側板的傳動桿，在傳動桿上固定有夾具，傳動桿一端與固定在安裝板上的旋轉馬達連接，另一端套在密封套筒內，所述安裝板與平移驅動裝置連接，平移驅動裝置可帶動安裝板往返移動。本發(fā)明可以實現多個基片架在單箱體真空環(huán)境下的左右平移，使基片架在平移過程中的保持平穩(wěn)，整個工作過程中不會造成真空度的變化。

技術領域

本發(fā)明涉及真空鍍膜技術領域，具體說，是一種真空鍍膜機真空室內磁導向平移機構。

背景技術

真空鍍膜生產線是在同一水平平面上分布有多個真空箱體，被鍍玻璃在傳送裝置的輸送下，經過每一個真空箱體進行處理，實現表面鍍膜。立式真空鍍膜生產線的基片架傳送時，基片架垂直于真空室底板，其底部由機械傳送機構驅動，上部采用磁導向裝置導向，所述的磁導向裝置是在承載玻璃的基片架上部設置磁鋼，然后，使基片架上部卡裝在兩側壁上設置有多組磁導向單元的U形槽中，利用磁鋼同極排斥的作用，實現對基片架無接觸定位、導向目的。目前真空環(huán)境下的磁導向裝置采用的是固定式。

發(fā)明內容

針對上述現有技術中存在的技術問題，本發(fā)明提供一種真空鍍膜機真空室內磁導向平移機構，可以實現多個基片架在單箱體真空環(huán)境下的左右平移。

本發(fā)明采用的技術方案如下：一種真空鍍膜機真空室內磁導向平移機構，包括真空室、磁導向裝置，還包括多根橫向穿過真空室兩側側板的連接桿，多條磁導向裝置縱向固定在連接桿上，連接桿的一端固定在安裝板上，在安裝板與真空室之間的連接桿外套有波紋管，波紋管兩端分別與安裝板及真空室側板密閉連接，連接桿的另一端套在密封套筒內，密封套筒固定在真空室側板上，在真空室的兩端還各設有一根橫向穿過真空室兩側側板的傳動桿，在傳動桿上固定有與磁導向裝置一一對應的夾具，傳動桿一端與固定在安裝板上的旋轉馬達連接，在安裝板與真空室之間的傳動桿外套有波紋管，波紋管兩端分別于安裝板及真空室側板密閉連接，傳動桿的另一端套在密封套筒內，密封套筒固定在真空室側板上，所述安裝板與平移驅動裝置連接，所述平移驅動裝置可帶動安裝板往返移動。

進一步地，所述平移驅動裝置包括平移馬達、與平移馬達連接的絲杠、與絲杠配合的絲杠螺母，所述絲杠螺母與安裝板連接。

進一步地，還包括平移導向裝置，所述平移導向裝置包括直線滑軌、固定在安裝板上與直線滑軌配合的滑塊。

進一步地，所述連接桿、傳動桿與真空室側板之間通過直線軸承連接。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明可以實現多個基片架在單箱體真空環(huán)境下的左右平移，解決了基片架在水平移動過程中上端的擺動以及整個框架的晃動問題，使基片架在平移過程中的保持平穩(wěn)，整個平移機構都是在真空環(huán)境下進行，在整個工作過程中不會造成真空度的變化。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的立體結構示意圖。

圖2是本發(fā)明使用狀態(tài)的縱向截面圖。

圖3是本發(fā)明使用狀態(tài)的橫向截面圖。

具體實施方式

為了便于理解本發(fā)明，下文將結合說明書附圖和較佳的實施例對本發(fā)明作更全面、細致地描述，但本發(fā)明的保護范圍并不限于以下具體的實施例。