[發(fā)明專利]板材、制備板材的方法、殼體、電子設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810847674.3
• 申請(qǐng)日: 2018-07-27
• 公開（公告）號(hào): CN108947590A
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊光明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: OPPO(重慶)智能科技有限公司
• 主分類號(hào): C04B41/89
• 分類號(hào): C04B41/89;C23C14/22;H05K5/02;H04M1/02
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 趙天月

1.一種板材，其特征在于，包括：

陶瓷基板；以及

顏色調(diào)節(jié)層，所述顏色調(diào)節(jié)層設(shè)置在所述陶瓷基板上，所述顏色調(diào)節(jié)層不同位置處的厚度不完全相同。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的板材，其特征在于，所述顏色調(diào)節(jié)層包括多個(gè)層疊設(shè)置的亞層，多個(gè)所述亞層包括交替設(shè)置的高折射率亞層以及低折射率亞層，所述高折射率亞層不同位置處的厚度不完全相同，所述低折射率亞層不同位置處的厚度也不完全相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的板材，其特征在于，沿著同一方向，所述高折射率亞層以及所述低折射率亞層的厚度的變化趨勢(shì)相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的板材，其特征在于，形成所述高折射率亞層的材料包括Si、Ta₂O₅，Ti₃O₅、Ti₂O₃、TiO₂、TiO、Nb₂O₅、ZnS、ZrO₂以及Si₃N₄的至少之一；

形成所述低折射率亞層的材料包括SiO₂、MgF₂以及Al₂O₃的至少之一。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的板材，其特征在于，所述顏色調(diào)節(jié)層的厚度為2nm-1μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的板材，其特征在于，所述亞層的厚度為1nm-200nm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的板材，其特征在于，進(jìn)一步包括：

抗指紋膜層，所述抗指紋膜層設(shè)置在所述顏色調(diào)節(jié)層遠(yuǎn)離所述陶瓷基板的一側(cè)。

8.一種制備板材的方法，其特征在于，包括：

提供陶瓷基板；

利用真空鍍膜在所述陶瓷基板上形成厚度漸變的顏色調(diào)節(jié)層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述利用真空鍍膜在所述陶瓷基板上形成厚度漸變的顏色調(diào)節(jié)層包括：

在所述陶瓷基板上依次形成多個(gè)厚度逐漸增大或逐漸減小的亞層，其中，

多個(gè)所述亞層包括交替設(shè)置的高折射率亞層以及低折射率亞層。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述亞層的厚度是通過在真空鍍膜過程中，調(diào)節(jié)鍍?cè)磁c所述陶瓷基板之間的夾角而實(shí)現(xiàn)的。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述夾角是通過調(diào)整真空鍍膜過程中所述陶瓷基板和承載基板之間的夾角、或者修正板與所述承載基板之間的夾角實(shí)現(xiàn)的。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述夾角是通過以下步驟確定的：

將所述陶瓷基板劃分為多個(gè)鍍膜分區(qū)，每個(gè)所述鍍膜分區(qū)具有不同的預(yù)設(shè)顏色；

基于每個(gè)所述預(yù)設(shè)顏色，確定每個(gè)所述鍍膜分區(qū)中所述顏色調(diào)節(jié)層的總預(yù)設(shè)厚度以及所述亞層的數(shù)量；

基于所述總預(yù)設(shè)厚度以及所述數(shù)量，確定所述亞層在多個(gè)所述鍍膜分區(qū)的預(yù)設(shè)厚度；

基于所述亞層在多個(gè)所述鍍膜分區(qū)中的所述預(yù)設(shè)厚度，確定所述亞層的厚度變化趨勢(shì)；

基于所述厚度變化趨勢(shì)，確定形成所述亞層時(shí)的所述夾角。

13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述夾角為1-45度。

14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述利用真空鍍膜在所述陶瓷基板上形成厚度漸變的顏色調(diào)節(jié)層之后，進(jìn)一步包括：

利用所述真空鍍膜在所述顏色調(diào)節(jié)層上形成抗指紋膜層。